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01展會(huì)介紹

“2024 國(guó)際二維材料會(huì)議”作為一次國(guó)際化、高水平的研討會(huì)，旨在匯聚二維材料領(lǐng)域的科學(xué)家、青年科研人員、企業(yè)家，共享、學(xué)習(xí)并交流二維材料領(lǐng)域的前沿研究成果。

會(huì)議將圍繞 2D 材料的生長(zhǎng)與合成、二維材料的物理特性和器件、能源存儲(chǔ)和催化、宏觀結(jié)構(gòu)和復(fù)合材料等當(dāng)前二維材料研究領(lǐng)域核心主題展開，通過學(xué)術(shù)報(bào)告、產(chǎn)學(xué)研圓桌會(huì)、產(chǎn)業(yè)成果展等形式，搭建學(xué)術(shù)界與產(chǎn)業(yè)界的交流平臺(tái)，互學(xué)互鑒、共同探索，促進(jìn)材料領(lǐng)域創(chuàng)新成果孵化。

02展會(huì)現(xiàn)場(chǎng)

2024年11月9日至11日，備受矚目的2024國(guó)際二維材料會(huì)議在溫州盛大召開，吸引了來自世界各地的材料科學(xué)專家、學(xué)者和企業(yè)代表。本次會(huì)議不僅為行業(yè)內(nèi)的專業(yè)人士提供了一個(gè)交流和學(xué)習(xí)的平臺(tái)，更是展示科研成果和前沿技術(shù)的盛會(huì)。

托托科技也受邀參加了此次盛會(huì)。在為期三天的展覽中，托托科技展出了其自主研發(fā)的磁光克爾顯微測(cè)試系統(tǒng)和無掩膜版紫外光刻機(jī)，這兩項(xiàng)技術(shù)在二維材料研究領(lǐng)域具有重要的應(yīng)用價(jià)值。

磁光克爾顯微測(cè)試系統(tǒng)是托托科技的明星產(chǎn)品之一，它能夠提供高分辨率的磁性信息，對(duì)于研究二維材料的磁性特性具有重要意義。該系統(tǒng)以其性能和穩(wěn)定性，受到了與會(huì)專家的高度評(píng)價(jià)。

另一款展出的設(shè)備——無掩膜版紫外光刻機(jī)，是托托科技在光刻技術(shù)領(lǐng)域的突破性產(chǎn)品。該設(shè)備摒棄了傳統(tǒng)光刻技術(shù)中對(duì)掩膜版的依賴，大幅降低了光刻成本，同時(shí)提高了光刻效率和精度。

托托科技的展臺(tái)成為了本次會(huì)議的焦點(diǎn)之一，眾多參會(huì)者紛紛駐足了解和交流。托托科技的技術(shù)人員耐心地向參觀者介紹產(chǎn)品的技術(shù)特點(diǎn)和應(yīng)用場(chǎng)景，積極回應(yīng)與會(huì)者的提問，現(xiàn)場(chǎng)氣氛熱烈。

通過此次會(huì)議，托托科技不僅展示了其在二維材料領(lǐng)域的技術(shù)實(shí)力，也進(jìn)一步加強(qiáng)了與行業(yè)內(nèi)外的交流合作。未來，托托科技將繼續(xù)致力于科技創(chuàng)新，為推動(dòng)二維材料及相關(guān)領(lǐng)域的研究和發(fā)展做出更大的貢獻(xiàn)。

03展品介紹

磁光克爾顯微鏡綜合測(cè)試設(shè)備

磁光克爾顯微鏡綜合測(cè)試設(shè)備，顯微磁疇空間分辨率優(yōu)于0.5微米，磁光克爾角分辨率優(yōu)于0.1毫度，支持極向克爾、縱向克爾、橫向克爾三種磁光克爾效應(yīng)測(cè)量方式。在追蹤平面內(nèi)數(shù)百萬點(diǎn)的磁疇動(dòng)態(tài)信息的同時(shí)，可搭配探針臺(tái)實(shí)現(xiàn)電學(xué)、磁學(xué)、光學(xué)同步觀測(cè)。廣泛應(yīng)用于磁學(xué)和自旋電子學(xué)領(lǐng)域中磁光克爾效應(yīng)，磁滯回線，磁疇翻轉(zhuǎn)或擴(kuò)展等觀測(cè)。

案例分享

梯度自旋流實(shí)現(xiàn)無場(chǎng)翻轉(zhuǎn)

(a) 在外磁場(chǎng)HZ=0 Oe，HX=0 Oe下，脈沖電流實(shí)現(xiàn)磁疇無場(chǎng)翻轉(zhuǎn)及對(duì)應(yīng)的翻轉(zhuǎn)回線。1，2，3，…6表示負(fù)向的脈沖電流不斷增加直至磁疇翻轉(zhuǎn)圖片;

(b)a，b，c…f表示正向電流不斷增加直至磁疇翻轉(zhuǎn)。其中頂層Pt厚度為2.5 nm。

DMI有效場(chǎng)以及磁疇速度測(cè)試

(a)DMI有效場(chǎng)(HDMI) 測(cè)量裝置。

(b)垂直各向異性樣品在面內(nèi)磁場(chǎng)作用下，發(fā)生各向異性翻轉(zhuǎn)。

(c)不同覆蓋層的異質(zhì)結(jié)樣品，其磁疇運(yùn)動(dòng)速度隨面內(nèi)輔助磁場(chǎng)的變化

(d)DMI有效場(chǎng)導(dǎo)致磁疇翻轉(zhuǎn)過程中出現(xiàn)傾斜角且DMI越大傾斜角越大。

無掩膜版紫外光刻機(jī)

托托科技無掩膜版紫外光刻機(jī)具有 高精度，高穩(wěn)定性 的特點(diǎn)。光刻圖案設(shè)計(jì)靈活，能夠?qū)崿F(xiàn)所見即所得的精準(zhǔn)套刻以及灰度光刻。

案例分享

平面光刻

TUOTUO LOGO

IC

MEMS器件（a）

500 nm掩膜版

套刻精度測(cè)量標(biāo)記圖

MEMS器件（b）

灰度光刻

托托科技無掩膜版紫外光刻機(jī)支持256階灰度光刻

菲涅爾透鏡

TOF擴(kuò)散器

波前調(diào)控器件

04關(guān)于托托

托托科技是一家是專注于光學(xué)顯微加工及檢測(cè)的光學(xué)設(shè)備制造廠商。目前公司擁有五個(gè)核心產(chǎn)品線：

(A)無掩膜版光刻設(shè)備

(B)磁學(xué)產(chǎn)品

(C)多模態(tài)光電顯微鏡

(D)超高精度3D光刻產(chǎn)品

(E)3D顯微鏡

已經(jīng)形成了集設(shè)計(jì)、研發(fā)、制造、銷售及客戶咨詢服務(wù)為一體的高科技企業(yè)，致力于給客戶提供技術(shù)支持，以技術(shù)和細(xì)致設(shè)計(jì)造就品質(zhì)，以耐心服務(wù)和企業(yè)擔(dān)當(dāng)贏得良好口碑。

公司旗下產(chǎn)品的品牌名稱為TuoTuo，擁有中國(guó)及新加坡兩個(gè)研發(fā)中心，其中托托科技(蘇州)是中國(guó)區(qū)業(yè)務(wù)的運(yùn)營(yíng)主體，TuoTuo Technology (Singapore) Pte.Ltd. 是國(guó)際業(yè)務(wù)的運(yùn)營(yíng)主體。