HL-7A高溫裂解爐
樣品被引入高溫裂解爐后發(fā)生氧化裂解反應(yīng),在 1000℃左右的高溫下,樣品中的氮化物定量地轉(zhuǎn)化為一氧化氮(NO),硫化物定量地轉(zhuǎn)化為二氧化硫(SO?)。
加熱系統(tǒng):采用加熱絲加熱元件,能快速升溫并維持穩(wěn)定的高溫環(huán)境,以確保樣品充分裂解。
爐管:通常由耐高溫、耐腐蝕的碳化硅材料制成,可保證在高溫下不與樣品及反應(yīng)產(chǎn)物發(fā)生化學(xué)反應(yīng),同時能承受高溫下的氣體壓力。
溫度控制系統(tǒng):配備高精度的熱電偶或其他溫度傳感器,實時監(jiān)測爐內(nèi)溫度,并將溫度信號反饋給控制器,實現(xiàn)對爐溫的精確控制。
溫度范圍:常用溫度在 1000℃-1150℃左右,如 RKTN-2000 化學(xué)發(fā)光氮測定儀的裂解爐溫度范圍為室溫 - 1100℃,控溫精度可達 ±3℃。
控溫精度:控溫精度一般在 ±1℃-±5℃之間,如 tn-100 化學(xué)發(fā)光測氮儀控溫精度為 ±1℃,微機多樣定硫儀的控溫精度為 ±5℃。
升溫速度:較快的升溫速度可提高分析效率,一般從室溫升至 1000℃以上只需幾分鐘到十幾分鐘不等。
定期清理:定期清理爐管內(nèi)的積碳、積灰等雜質(zhì),防止其影響樣品的裂解效果和檢測結(jié)果。清理時需小心操作,避免損壞爐管。
檢查加熱元件:定期檢查加熱絲或加熱棒等加熱元件的狀態(tài),如有老化、斷裂等情況,應(yīng)及時更換,以保證加熱系統(tǒng)的正常運行。
校準(zhǔn)溫度:定期使用標(biāo)準(zhǔn)溫度計對高溫裂解爐的溫度進行校準(zhǔn),確保溫度顯示的準(zhǔn)確性和控溫的精確性。
HL-7A高溫裂解爐,可從中間打開,并開安裝石英管。保修期12個月