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EMS550 離子濺射鍍膜儀

參考價(jià) 11
訂貨量 ≥1
具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)

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      桑戈國(guó)際貿(mào)易(上海)有限公司是一家銷(xiāo)售國(guó)內(nèi)外生化試劑、實(shí)驗(yàn)耗材,并向客戶提供技術(shù)支持服務(wù)的生物科技公司。公司秉承“以客戶為中心、視質(zhì)量為生命、以信譽(yù)求發(fā)展”的發(fā)展理念,在客戶的大力支持和公司員工的不懈努力下取得了快速的成長(zhǎng)。公司努力將產(chǎn)品及時(shí)介紹給廣大客戶。"以信譽(yù)求發(fā)展"與廣大客戶建立信任關(guān)系,與科研工作者一起為生物技術(shù)而努力。

桑戈公司代理20多家歐美生物技術(shù)公司產(chǎn)品,銷(xiāo)售的實(shí)驗(yàn)儀器、消耗品、分子生化試劑、免疫試劑和細(xì)胞培養(yǎng)試劑等,應(yīng)用于生命科學(xué)基礎(chǔ)研究、開(kāi)發(fā)應(yīng)用、制藥、疾病診斷與控制、人口與健康、生物技術(shù)等諸多領(lǐng)域。公司客戶遍布大學(xué)、研究所、醫(yī)院、衛(wèi)生防疫、商品檢驗(yàn)檢疫、制藥公司、生物技術(shù)公司和食品工業(yè)等單位。公司不但擁有一批掌握現(xiàn)代科技的市場(chǎng)人員,還有一支訓(xùn)練有素的技術(shù)支持隊(duì)伍。公司在美國(guó)還有顧問(wèn)團(tuán)隊(duì),顧問(wèn)團(tuán)隊(duì)由美國(guó)各大學(xué)從事生物醫(yī)學(xué)研究的博士后,博士和技術(shù)人員組成。隨時(shí)為您提供技術(shù)咨詢、及售后服務(wù)。

 

 

 

 

 

 

 

ATCC菌種、質(zhì)控菌株、標(biāo)準(zhǔn)菌株、微生物菌種、CMCC菌株

應(yīng)用領(lǐng)域 醫(yī)療衛(wèi)生,化工,生物產(chǎn)業(yè),石油

離子濺射鍍膜儀

    什么是離子濺射鍍膜?在陽(yáng)極與陰極之間使用合適的氣體(常用的是氬氣)和電壓,當(dāng)出現(xiàn)輝光放電時(shí),陰極材料在氣體離子的轟擊下將侵蝕目標(biāo)材料,其結(jié)果是濺射出來(lái)的原子(陰極材料)將在樣本(通常樣本固定于陽(yáng)極上)表面形成一層薄膜,均勻分布在樣本的表面,這個(gè)過(guò)程就叫離子濺射鍍膜。

    陰極材料通常使用金,習(xí)慣稱之為金靶,故離子濺射鍍膜儀常常又稱噴金儀、離子濺射鍍金儀、離子濺射噴金儀等等。

    EMS公司提供系列產(chǎn)品,型號(hào)有EMS500、EMS550、EMS575X、EMS575T、EMS650、EMS650T、EMS675、EMS3000等等,下面我們將一一列出傳品的詳細(xì)參數(shù)供大家選擇使用。

 

一、EMS550和EMS500   

    EMS 550具有旋轉(zhuǎn)樣品臺(tái),可傾斜,適合各種樣品。參數(shù)可預(yù)設(shè),全自動(dòng)控制保證獲得準(zhǔn)確的鍍層厚度。 低電壓濺射、冷濺射、細(xì)顆粒等功能的使用,大大提高了工作效率。腔室直徑為165 mm(6英寸),非常方便裝載及移走樣品。 儀器裝有60mm直徑、0.1mm厚的金靶(可選)??蛇x靶材包括金/鈀,鉑/鈀和鉑。 各種功能都集中設(shè)計(jì)在儀表板上,使用方便,滿足不同學(xué)科的用戶使用要求。 濺射參數(shù)可預(yù)設(shè),包括氣體放氣針閥(此閥為電磁閥),一旦設(shè)置,就不需要再調(diào)節(jié)。濺射頭互鎖,系統(tǒng)可選配EMS250鍍碳附件。

    EMS 550本儀器為全自動(dòng)操作,可控制獨(dú)立的真空泵。EMS500是EMS550的手動(dòng)版本,其樣品臺(tái)不帶自動(dòng)旋轉(zhuǎn)功能,其它參數(shù)與550*相同。下圖為EMS550的外觀圖片:

<strong><strong><strong><strong><strong><strong><strong></strong></strong></strong></strong></strong></strong></strong>

性能特征:

· 旋轉(zhuǎn)且可傾斜樣品臺(tái)

· 高質(zhì)量鍍層厚度(2nm 金膜).

準(zhǔn)確的可重復(fù)性能

均勻沉積厚度

復(fù)合樣本固定器

· 全自動(dòng)控制

低耗冷卻系統(tǒng),無(wú)需冷卻樣本及樣品臺(tái)

低壓濺射

20nm(或20埃)

微電子控制

聚碳酸脂安全殼體

 


儀器參數(shù):

儀器尺寸

450mm(W) x 350mm(D) x 175mm(H)

工作腔室

硼硅酸鹽玻璃: 165mm(Dia.) x 125mm(H)

安全罩

聚碳酸酯

重量

18Kg

靶材

60 mm 直徑 x 0.1mm 厚(金靶為標(biāo)準(zhǔn)靶材)

樣品臺(tái)

60mm(Dia.) ,靶面距在25mm-45mm之間可調(diào)

真空泵工作范圍

ATM-1x10-2 mbar

濺射電流

0-50mA

濺射鍍膜時(shí)間

0-4 minutes

沉積速率

0-25nm/分

電源配置

230 volts 50Hz (6 amp Max incl pump)

 

二、EMS575 HIGH RESOLUTION SPUTTER COATER(EMS575X和EMS575T)

    EMS-575T是一款渦輪泵雙頭高分辨率噴金儀。EMS-575T樣本放置在旋轉(zhuǎn)樣品臺(tái)上(the rotary stage),蓋好蓋子(the chamber lid),按下啟動(dòng)按鈕,渦輪分子泵開(kāi)始加速,5秒鐘后,機(jī)械泵開(kāi)始啟動(dòng),同時(shí)十秒氣體排空程序啟動(dòng),兩個(gè)泵同時(shí)運(yùn)行確保一個(gè)高真空。當(dāng)渦輪泵加速,它的速度由柱狀圖來(lái)標(biāo)示,到達(dá)速度的一半時(shí),真空計(jì)扭至自動(dòng)狀態(tài)。當(dāng)腔內(nèi)氣體壓降為10-4 mbar,排氣開(kāi)始,腔內(nèi)氣壓維持在1 x 10-2 and 1 x 10-3 mbar之間,排氣的蕞后階段,靶材按照預(yù)訂鍍膜時(shí)間開(kāi)始噴鍍。鍍膜需要兩種不同金屬的,不需要關(guān)泵,繼續(xù)濺射另一種金屬。噴鍍完成后,兩個(gè)泵停止,排氣閥排氣。 

    儀器質(zhì)保期2年。模塊化的單元結(jié)構(gòu)使得儀器維護(hù)方便,摘掉問(wèn)題模塊,換上無(wú)問(wèn)題的模塊,儀器即可很好的運(yùn)行,一點(diǎn)不會(huì)耽誤實(shí)驗(yàn)進(jìn)程。

性能特征:

· 全自動(dòng)一鍵式操作,微處理器數(shù)字控制方式,可預(yù)設(shè)參數(shù)

· LCD屏實(shí)時(shí)顯示狀態(tài)參數(shù)

· 質(zhì)保期:標(biāo)準(zhǔn)保修期為一年

· 高分辨率精細(xì)鍍層(不超過(guò)0.5nm的鉻顆粒大?。?/span>

· 薄金屬鍍層,典型5nm厚

· 渦輪分子泵

· Peltier冷卻雙濺射頭,無(wú)需冷卻水

· 雙濺射頭:一次真空條件下,可順序?yàn)R射兩種不同的材料,對(duì)于需要依次噴鍍兩種金屬的樣品特別適用

· 磁控濺射靶源設(shè)計(jì)

· 旋轉(zhuǎn)機(jī)械泵為備用泵,機(jī)械泵為外部安裝式

<strong><strong><strong><strong><strong><strong><strong></strong></strong></strong></strong></strong></strong></strong>

儀器參數(shù):

儀器尺寸

450mm(W) x 350mm(D) x 175mm(H)

工作腔室

硼硅酸鹽玻璃: 165mm(Dia.) x 125mm(H)

加不銹鋼底座

110mm(Dia.) x 115mm(H)

重量

42Kg

靶材

54mm(Dia.) x 0.2mm(Thick) (標(biāo)準(zhǔn)鉻靶材和金靶材)

樣品臺(tái)

60mm(Dia.) ,以60 r.p.m 旋轉(zhuǎn),一定的傾斜度

真空泵工作范圍 (Penning)

ATM to 1x10-7 mbar,鍍膜腔體極限真空度10-7 mbar

操作真空

1x10-3 mbar to 1x10-4 mbar

濺射電流

0-175mA

濺射時(shí)間

0-4 minutes

功率

1000v at 100 ma, 100 watts

沉積速率

30nm/min at 100ma

渦輪分子泵

60 litres/Second (Ultimate vacuum 1x10-8 mbar)

電源配置

230 volts 50Hz (6 amp Max incl pump)

Services

Argon ­ Nominal 4 psi

真空泵(推薦配件)

附帶真空管和油氣過(guò)濾器



三、EMS650和EMS650T

    EMS 650配套裝有直徑60mm、厚度0.1mm的金靶(用戶可以選擇其它材質(zhì)的靶材);面板式控制,蕞佳的人性化設(shè)計(jì);濺射參數(shù)可預(yù)先設(shè)置,包括控制排氣的電磁閥(自動(dòng)控制),可以獲得準(zhǔn)確的可重復(fù)的鍍膜厚度;濺射頭互鎖,EMS 650和EMS 250鍍碳配件通用;EMS 650可控制獨(dú)立的真空泵。EMS 650T是在EMS 650基礎(chǔ)上加裝了一個(gè)功率為60L/秒的渦輪增壓泵,能夠獲得更高更潔凈的真空。

 

性能特征:

  全自動(dòng)控制

  低能冷卻系統(tǒng)((功率是6W)

  低電壓濺射(100V,DC;每分鐘溫度升高不到2°C)

  鍍膜厚度準(zhǔn)確(2nm金粒)

  準(zhǔn)確的可重復(fù)性

  鍍膜厚度20nm或200A(掃描電鏡)

  微電子控制

  三個(gè)靶臺(tái)同時(shí)濺射

  聚碳酸脂安全外殼

產(chǎn)品參數(shù):

 

儀器尺寸:

450mm(W) x 350mm(D) x 175mm(H)

工作腔室

硼硅酸鹽玻璃: 225mm(Dia.) x 125mm(H)

重量:

24Kg

靶臺(tái):

3 x 60mm Dia.x0.1mm 厚

旋轉(zhuǎn)樣品臺(tái):

155mm Dia. 距離靶臺(tái)40 to 50mm可調(diào)

真空范圍:

ATM ­1x10-2 mbar

鍍膜電流范圍:

0-100mA

鍍膜速率:

0-20nm/minute

濺射鍍膜時(shí)間:

0-4 minutes

電源:

230 volts 50Hz (蕞大8 amp 包括泵)

維護(hù):

氬氣 ­ 通常 4 psi

真空泵(推薦)

整套真空泵軟管和油氣過(guò)濾器135L/Min

 


 

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