藥膏膠體磨  藥膏膠體磨 透過膠體磨定、轉齒之間的間隙（間隙可調）時受到強大的剪切力、摩擦力、高頻振動等物理作用，使物料被有效地乳化、分散和粉碎，達到物料超細粉碎及乳化的效果。三級錯齒結構的研磨轉子，配合精密的定子腔。此款立式膠體磨比普通的臥式膠體磨的速度達到3倍以上,zui小的轉速可以達到14000RPM。所以可以達到更好的分散濕磨效果。

膠體磨的細化作用一般來說要弱于均質機，但它對物料的適應能力較強（如高粘度、大顆粒），所以在很多場合下，它用于均質機的前道或者用于高粘度的場合。在固態(tài)物質較多時也常常使用膠體磨進行細化。 

CM2000系列是專門為膠體溶液生產所設計，特別是那些需要很好乳化和分散效果的膠體生產。CM2000的線速度很高，剪切間隙非常小，這樣當物料經過的時候，形成的摩擦力就比較劇烈，結果就是通常所說的濕磨。定轉子被制成圓椎形，具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調整到所需要的與轉子之間的距離。在增強的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。高質量的表面拋光和結構材料，可以滿足不同行業(yè)的多種要求。

三級錯齒結構的研磨轉子，配合精密的定子腔。此款立式膠體磨比普通的臥式膠體磨的速度達到3倍以上,zui小的轉速可以達到14000RPM。所以可以達到更好的分散濕磨效果。

• 結合優(yōu)良的研磨效果的高吞吐量
• 定制不同的研磨刀頭，實現多種研磨剪切速率
• 為減少顆粒大小的控制，可無限調整定子/轉子之間的間隙設置
• IKN膠體磨CM與生產系統(tǒng)的密實度作為機器聯機設計的結果。
• 適合于粘度高達50,000 mPas的各種粘度范圍的物料
• 能在高達16 bar的壓力下操作
• 容易擴大規(guī)模生產，從實驗室機器CM開發(fā)到生產機器CM
• 所有接觸液體的部件為316L或316Ti不銹鋼
• 具有耐磨材料的高性能機械密封密封
• 高質量的表面處理，便于清洗
• 可根據要求提供其他材料和表面處理
• 機器可自動排水， 具有CIP和SIP功能
• 噪音低
• 根據符合EHEDG（歐洲衛(wèi)生工程設計集團）準則制造
• 符合3A衛(wèi)生和認證
• 根據需要提供制藥
• 根據提供的ATEX 95指導方針執(zhí)行防爆

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