產(chǎn)品介紹：P-10臺(tái)式等離子蝕刻系統(tǒng) / 緊湊型等離子體刻蝕機(jī)

配備真空泵的P-10是一款成套臺(tái)式等離子蝕刻系統(tǒng)，因其可靠的設(shè)計(jì)、較低的價(jià)位，使其成為滿足中小企業(yè)、醫(yī)學(xué)實(shí)驗(yàn)室和研發(fā)機(jī)構(gòu)的一款緊湊型等離子蝕刻設(shè)備。

P-10具有三個(gè)*的等離子工作模式：
1）反應(yīng)離子蝕刻（RIE），
2）普通的等離子清洗（Plasma Cleaning）和等離子體刻蝕（Plasma Etching）
3）P-10具有多功能等離子工藝配置，一臺(tái)具備各向異性（anisotropic）和各向同性（isotropic ）等離子刻蝕處理的系統(tǒng)。 并且配有可拆卸的托盤(pán)設(shè)置。

P-10 縱覽       

全鋁合金材質(zhì)真空艙可以容納超過(guò)1500平方厘米的處理表面積，及配備三層處理托盤(pán)支架。 內(nèi)置框架采用了簡(jiǎn)潔的設(shè)計(jì)，噴涂工業(yè)粉末涂層，以保護(hù)等離子處理環(huán)境免于污染。

當(dāng)P-10在反應(yīng)離子蝕刻（RIE）模式下工作時(shí)，專(zhuān)門(mén)設(shè)計(jì)的電極用于定向等離子體處理，即起到垂直向下的蝕刻效果。 此種等離子工藝主要是用于蝕刻微孔或清洗化學(xué)品無(wú)法達(dá)到的空間，因?yàn)橐后w的流動(dòng)往往只限于在這些小的空間。

應(yīng)用范圍包括醫(yī)療設(shè)備，太陽(yáng)能電池，印刷電路板（PCB），連接器，MEMS，納米技術(shù)，晶圓級(jí)封裝，以及許多其他相關(guān)的半導(dǎo)體工藝。

P-10特點(diǎn)

采用等離子清洗提高了任何材料表面處理的均勻性，減少或消除不必要且昂貴的化學(xué)試劑廢物排放。簡(jiǎn)單易用，直觀的觸摸屏界面提供等離子操作界面，控制等離子刻蝕的各個(gè)方面，確保等離子工藝的重復(fù)性。 我們可以提供定制真空艙，電極配置，滿足被蝕刻工件或工藝需要的定制平板電極，RIE（反應(yīng)離子刻蝕）和等離子處理過(guò)程的溫度控制。

P-10技術(shù)規(guī)格

P-10配置
真空艙體材質(zhì)：全鋁合金
電極設(shè)置：3套規(guī)格為 23cm X 41cm 電極，每套電極板間隔7.6cm
射頻電源：300瓦@100KHz射頻電源;
工藝氣體控制：單套 O-50cc質(zhì)量流量控制器
真空監(jiān)測(cè)系統(tǒng)：皮拉尼真空計(jì)0-1托
控制器系統(tǒng)：微處理器系統(tǒng)，配備觸摸屏界面
真空泵浦系統(tǒng)：8CFM氧氣服務(wù)真空泵系統(tǒng)，配備油霧分離器

P-10可選配置：
300瓦@13.56MHz射頻電源;
真空艙靜電屏蔽
工藝溫度控制
定制電極配置
RIE（反應(yīng)離子刻蝕電極）
真空泵氮或CDA吹洗

P-10規(guī)格
P-10：43cm X 71cm X 76cm  凈重：70公斤
P-10配套真空泵：15cm X 46cm X 23cm 凈重：31公斤

P-10設(shè)備外部安裝要求
電源：380/3/50 Hz
壓縮空氣：0.55~0.70 MPa，14升/分鐘
工藝氣體壓力：0.1MPa,
系統(tǒng)環(huán)境溫度：29攝氏度

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（材料科學(xué)部）