化工儀器網(wǎng)>產(chǎn)品展廳>物理特性分析儀器>表面/界面性能測定儀>LB膜分析儀>LB20-DC,Mini-LB20 LB膜沉積分析系統(tǒng) (薄膜/測量/性能研究/制備/轉(zhuǎn)移/張力測量/分析...
LB20-DC,Mini-LB20 LB膜沉積分析系統(tǒng) (薄膜/測量/性能研究/制備/轉(zhuǎn)移/張力測量/分析/吸附/解吸)
- 公司名稱 極科有限公司
- 品牌
- 型號 LB20-DC,Mini-LB20
- 產(chǎn)地
- 廠商性質(zhì) 生產(chǎn)廠家
- 更新時間 2016/12/24 7:00:53
- 訪問次數(shù) 1914
LB膜沉積分析系統(tǒng)薄膜/沉積/測量(測定)LB膜分析儀LANGMUIR-BLODGETT膜沉積分析系統(tǒng)薄膜制備/轉(zhuǎn)移/張力測量/分析
聯(lián)系我們時請說明是化工儀器網(wǎng)上看到的信息,謝謝!
X射線和γ射線探測器,半導(dǎo)體晶圓片處理儀,勻膠旋涂儀,高通量微波消解儀,生物顯微鏡,離心機(jī),蒸汽消毒柜,視頻光學(xué)接觸角測量儀,等離子清洗機(jī),等離子體表面處理儀,等離子蝕刻系統(tǒng),等離子光刻膠去膠系統(tǒng),低溫等離子體滅菌系統(tǒng),等離子表面活化處理系統(tǒng),色譜儀,光譜儀,醫(yī)療輔助設(shè)備,醫(yī)療器械涂層,
產(chǎn)品介紹:
LANGMUIR-BLODGETT膜沉積分析系統(tǒng),LB朗繆爾薄膜分析系統(tǒng)
LANGMUIR-BLODGETT朗繆爾薄LB膜沉積系統(tǒng)是一款全電腦控制的薄膜沉積系統(tǒng)設(shè)備,用于測量表面張力變化、單層薄膜性能研究及轉(zhuǎn)移單層膜至固態(tài)基片,是一款價位低廉、性能*的多功能LB薄膜沉積系統(tǒng),具有用戶友好界面。
LANGMUIR-BLODGETT朗繆爾薄LB膜沉積系統(tǒng)可用于以下領(lǐng)域:
Ø 蛋白組織學(xué)Proteomics,
Ø 人工膜Artificial membrane,
Ø 生物傳感器Biosensor,
Ø 生物表面活性劑Bio-surfactant,
Ø 聚合物Polymers,
Ø 薄膜的非線性光學(xué)性質(zhì)的研究Thin film NLO studies,
Ø 有機(jī)發(fā)光二極管Organic light emitting diodes,
Ø 有機(jī)場效應(yīng)晶體管Organic field effect transistors,
Ø 納米/微米域制造Nano/micro domain fabrication,
Ø 單分子光譜學(xué)Single molecule spectroscopy.
LANGMUIR-BLODGETT朗繆爾薄LB膜沉積系統(tǒng)用途功能:
Ø 基于Windows操作系統(tǒng)面向菜單的用戶友好程序;
Ø 能夠測量壓力(π) –面積(A) 等溫線 Pressurey(π) –Area(A) Isotherm ;
Ø 能夠測量壓力(π) –面積(A) 等溫線 Pressurey(π) –Area(A) Isotherm的磁滯曲線;
Ø 能夠測量恒定壓力下的面積 VS時間 Area vs. Time(穩(wěn)定特性曲線)
Ø 能夠測量恒定壓力下的壓力 VS時間Pressure vs. Time 吸附動力學(xué)/解吸動力學(xué)
Ø 能夠轉(zhuǎn)移單層或多層薄膜;
Ø 能夠測量轉(zhuǎn)移系數(shù);
LANGMUIR-BLODGETT朗繆爾薄LB膜沉積系統(tǒng)P/N: LB20-DC)技術(shù)規(guī)格:
Ø LB 膜槽類型:全特氟龍材質(zhì)模壓托盤;
Ø 柵欄材質(zhì):方形特氟龍條;
Ø 柵欄類型:雙層;
Ø 工作區(qū)域范圍:650 mm X 200 mm
Ø 柵欄壓縮/擴(kuò)張速度:0-90 mm/min 壓縮/擴(kuò)張分辨率:0.005 mm
Ø 溫度控制用熱缸;
Ø 浸入長度:80 mm (其它浸入長度可按照用戶需要調(diào)整)
Ø 浸入/提拉速度:0-90 mm/min;
Ø 薄膜壓力范圍:0-75 mN/m;
Ø 壓力測量分辨率:±0.02 mN/m
LANGMUIR-BLODGETT朗繆爾薄LB膜沉積系統(tǒng)(P/N: Mini-LB20)技術(shù)規(guī)格:
Ø LB 膜槽類型:全特氟龍材質(zhì)模壓托盤;
Ø 柵欄材質(zhì):方形特氟龍條;
Ø 柵欄類型:雙層;
Ø 工作區(qū)域范圍:300 mm X 150 mm
Ø 柵欄高度:2.5-3 mm
Ø 柵欄壓縮/擴(kuò)張速度:可達(dá)90 mm/min 壓縮/擴(kuò)張分辨率:0.005 mm
Ø 浸入長度:可達(dá)30 mm (其它浸入長度可按照用戶需要調(diào)整)
Ø 浸入/提拉速度:0-90 mm/min;
Ø 薄膜壓力范圍:0-75 mN/m;
Ø 壓力測量分辨率:±0.02 mN/m
LANGMUIR-BLODGETT朗繆爾薄LB膜沉積系統(tǒng)(P/N: Mini-LB206)技術(shù)規(guī)格:
Ø LB 膜槽類型:全特氟龍材質(zhì)模壓托盤;
Ø 柵欄材質(zhì):方形特氟龍條;
Ø 柵欄類型:雙層;
Ø 工作區(qū)域范圍:300 mm X 150 mm
Ø 膜槽高度:2.5-3 mm
Ø 防溢槽壓縮/擴(kuò)張速度:0-80 mm/min 壓縮/擴(kuò)張分辨率:0.005 mm
Ø 浸入長度:20 mm (其它浸入長度可按照用戶需要調(diào)整)
Ø 浸入/提拉速度:0-90 mm/min;
Ø 薄膜壓力范圍:0-75 mN/m;
Ø 壓力測量分辨率:±0.02 mN/m
如果您對LANGMUIR-BLODGETT朗繆爾薄LB膜沉積分析系統(tǒng)感興趣,請索取更詳盡資料!
極科有限公司
客服:
:
電郵: sales@gikinco.com gikinco: www.gikinco.com
相關(guān)分類
該廠商的其他產(chǎn)品
- 接觸角測量儀,視頻接觸角測量儀,視頻光學(xué)接觸角測量儀,動態(tài)接觸角測量儀
- 界面流變儀、表面張力儀、接觸角測量儀、自由能測定儀、濕潤、擴(kuò)張、表面不均勻性
- 光學(xué)張力計,接觸角測量儀,自由能、濕潤、擴(kuò)張、表面不均勻性、界面流變
- 臺式緊湊型等離子清洗機(jī)、小型等離子清洗機(jī)、微創(chuàng)傷納米級等離子清洗機(jī)
- GPC-102 A PDMS芯片鍵合儀、PDMS芯片等離子鍵合機(jī)、PDMS微流控芯片氧等離子體鍵合儀
- Spin-X 勻膠機(jī)、旋轉(zhuǎn)涂布機(jī)、涂層儀、旋涂儀、涂膜儀、涂覆儀、甩膠機(jī)、Spin Coater
- PS PS系列圓筒式等離子處理系統(tǒng) (材料改性/混合電路清洗/聚合物沉積、鈍化層刻蝕)
- IL-ICP 深反應(yīng)離子刻蝕及化學(xué)氣相沉積等離子處理系統(tǒng) (蝕刻、沉積、等離子處理系統(tǒng))