產(chǎn)品描述：圓筒型腔體臺式反應(yīng)離子刻蝕（RIE）系統(tǒng)

VHF系列圓筒型腔體臺式反應(yīng)離子刻蝕（RIE）系統(tǒng)定義了一個新的臺式反應(yīng)離子刻蝕（RIE）系統(tǒng)圓筒型等離子處理方式。 該臺式反應(yīng)離子刻蝕（RIE）系統(tǒng)是基于臺式反應(yīng)離子刻蝕（RIE）系統(tǒng)模塊化設(shè)計理念，用一個通用的圓筒型臺式反應(yīng)離子刻蝕（RIE）系統(tǒng)作為基礎(chǔ)反應(yīng)離子刻蝕（RIE）設(shè)備，可與多種結(jié)構(gòu)真空反應(yīng)腔體及射頻電極模塊方便地插入到該圓筒型臺式反應(yīng)離子刻蝕（RIE）系統(tǒng)設(shè)備。該圓筒型臺式反應(yīng)離子刻蝕（RIE）系統(tǒng)設(shè)備可處理各種等離子處理工藝、可維護性高及其具有吸引力的價格優(yōu)勢，是任何其他圓筒型臺式反應(yīng)離子刻蝕（RIE）系統(tǒng)設(shè)備*的。

圓筒型臺式反應(yīng)離子刻蝕（RIE）系統(tǒng)設(shè)備具有如下特點：

• 可互換圓筒型臺式反應(yīng)離子刻蝕（RIE）系統(tǒng)真空反應(yīng)腔體和射頻電極模塊化設(shè)計

• 可選不同材質(zhì)的反應(yīng)離子刻蝕（RIE）系統(tǒng)真空腔體：不銹鋼、鋁、陽極化鋁

• 多種射頻電極配置：圓筒籠式（cage）電極、托盤式（tray）電極、反應(yīng)離子刻蝕（RIE）式電極、下游式 （Downstream）電極

• 成熟的圓筒型臺式反應(yīng)離子刻蝕（RIE）處理工藝程序

• 可靠的圓筒型臺式反應(yīng)離子刻蝕（RIE）系統(tǒng)部件

• 圓筒型臺式反應(yīng)離子刻蝕（RIE）系統(tǒng)終點檢測

• 臺式反應(yīng)離子刻蝕（RIE）系統(tǒng)配套射頻電源匹配器網(wǎng)絡(luò)

• 圓筒型臺式反應(yīng)離子刻蝕（RIE）系統(tǒng)下游（Downstream）壓力控制

• 圓筒型臺式反應(yīng)離子刻蝕（RIE）系統(tǒng)采用計算機控制系統(tǒng)

• 圓筒型臺式反應(yīng)離子刻蝕（RIE）系統(tǒng)多真空泵浦選選配

圓筒型臺式反應(yīng)離子刻蝕（RIE）系統(tǒng)概況

在等離子處理過程的研究和工藝研究中，用戶強烈需要一款功能高度多樣，同時也可靠的臺式反應(yīng)離子刻蝕（RIE）系統(tǒng)研發(fā)工具。 在等離子體處理工藝研究的不斷變化的需求中，選擇一款臺式反應(yīng)離子刻蝕（RIE）系統(tǒng)必須能夠處理廣泛的等離子處理工藝參數(shù)，及其可重復(fù)性程度*的驗證等離子處理工藝；并且很容易修改為新的等離子處理工藝要求。圓筒型臺式反應(yīng)離子刻蝕（RIE）系統(tǒng)的干法反應(yīng)離子刻蝕（RIE）工藝系統(tǒng)能滿足執(zhí)行這些反應(yīng)離子刻蝕（RIE）任務(wù)的苛刻要求。筒型臺式反應(yīng)離子刻蝕（RIE）系統(tǒng)是一款用于研究、工藝開發(fā)或小批量光刻膠去膠和清除浮渣，等離子各向同性刻蝕、等離子有機物灰化、混合電路等離子清洗、印刷電路去污、失效 分析、塑料的等離子表面處理及改性、聚合物沉積及其它廣泛的等離子應(yīng)用領(lǐng)域。圓筒型臺式反應(yīng)離子刻蝕（RIE）系統(tǒng)提供了一個*的新型模塊化方法來實現(xiàn)圓筒型離子系統(tǒng)。圓筒型臺式反應(yīng)離子刻蝕（RIE）系統(tǒng)具有兩個不同射頻頻率該的版本，即低版本的30kHz低頻射頻電源和13.56 MHz的高頻射頻電源系統(tǒng)。圓筒型臺式反應(yīng)離子刻蝕（RIE）系統(tǒng)可容納203毫米（8英寸）或更小基片的等離子處理。圓筒型臺式反應(yīng)離子刻蝕（RIE）系統(tǒng)選擇成熟、高質(zhì)量的部件，模塊化的組件，多功能真空艙-電極設(shè)計，體積小，自動化控制和等離子領(lǐng)域驗證的工藝程序?qū)⑹箞A筒型臺式反應(yīng)離子刻蝕（RIE）系統(tǒng)成為一款大多數(shù)等離子工藝工程師*的臺式反應(yīng)離子刻蝕（RIE）系統(tǒng)。

圓筒型臺式反應(yīng)離子刻蝕（RIE）系統(tǒng)應(yīng)用

多模塊設(shè)計及可選的真空腔和電極配置的圓筒型臺式反應(yīng)離子刻蝕（RIE）系統(tǒng)能夠滿足廣泛的等離子體處理條件。 這些等離子處理工藝的范圍包括從簡單的等離子表面清洗、到復(fù)雜的亞微米反應(yīng)離子刻蝕（RIE）刻蝕。成熟的工藝程序、的組件、多模塊系統(tǒng)提供zui高的運行時間保證反應(yīng)離子刻蝕（RIE）系統(tǒng)的可靠性，可重復(fù)性和可維護性。 典型的等離子工藝包括：

• 等離子清除浮渣

• 等離子光刻膠去膠

• 等離子表面處理

• 等離子各向異性和各向同性蝕刻（Anisotropic & Isotropic Etching）

• 故障分析應(yīng)用

• 等離子材料改性

• 等離子鈍化層腐蝕

• 等離子聚酰亞胺蝕刻

• 等離子促進粘合

• 生物醫(yī)學(xué)應(yīng)用

• 等離子聚合反應(yīng)

• 等離子混合清洗

圓筒型臺式反應(yīng)離子刻蝕（RIE）系統(tǒng)規(guī)格

圓筒型臺式反應(yīng)離子刻蝕（RIE）系統(tǒng)其高度的多功能設(shè)計理念，是其取得巨大成功的重要因素。圓筒型臺式反應(yīng)離子刻蝕（RIE）系統(tǒng)的特性包括設(shè)備安裝占地尺寸小、臺式反應(yīng)離子刻蝕（RIE）系統(tǒng)安裝簡易和滿足各種等離子體處理工藝的真空艙體模塊化設(shè)計和多種射頻電極配置。 此外射頻電源的工作頻率、工藝控制器、工藝氣體的控制及真空系統(tǒng)均可選配。

圓筒型臺式反應(yīng)離子刻蝕（RIE）系統(tǒng)的基礎(chǔ)系統(tǒng)平臺

通用的圓筒型臺式反應(yīng)離子刻蝕（RIE）系統(tǒng)的基礎(chǔ)系統(tǒng)平臺包含所有必要的閥門、真空管路，射頻電源、射頻電源匹配器、工藝氣體控制和系統(tǒng)邏輯提供一個*自動化的圓筒型臺式反應(yīng)離子刻蝕（RIE）系統(tǒng)。圓筒型臺式反應(yīng)離子刻蝕（RIE）系統(tǒng)的基礎(chǔ)平臺設(shè)計可容納各種模塊化的真空腔及射頻電極插入到基礎(chǔ)系統(tǒng)單元之中。圓筒型臺式反應(yīng)離子刻蝕（RIE）系統(tǒng)可以在幾分鐘內(nèi)從一般的圓筒型臺式反應(yīng)離子清洗系統(tǒng)轉(zhuǎn)換成圓筒型臺式反應(yīng)離子刻蝕（RIE）系統(tǒng)或圓筒型臺式平板電極系統(tǒng)。

圓筒型臺式反應(yīng)離子刻蝕（RIE）系統(tǒng)的模塊化真空艙及射頻電極配置

模塊化的真空艙和射頻電極組件是圓筒型臺式反應(yīng)離子刻蝕（RIE）系統(tǒng)的zui*的設(shè)計特點。 錢真空艙材質(zhì)可以是鋁、陽極氧化鋁和不銹鋼。圓筒型臺式反應(yīng)離子刻蝕（RIE）系統(tǒng)的真空艙可以很容易互換從一種轉(zhuǎn)換成另外一種。 真空處理艙的組成包括幾種不同的射頻電極設(shè)計，其中包括水冷[溫度控制]和用于反應(yīng)離子刻蝕（RIE）系統(tǒng)的平行射頻電極板，交變托盤式射頻電極用于等離子表面清潔或處理，用于普通的為zui大限度地減少離子損傷的下游電極和圓筒籠式（cage）電極。

圓筒型臺式反應(yīng)離子刻蝕（RIE）系統(tǒng)的射頻電源
圓筒型臺式反應(yīng)離子刻蝕（RIE）系統(tǒng)有兩種可選等離子工藝頻率即30 kHz射頻電源和13.56 MHz射頻電源。 每個射頻頻率具有*的處理特性，允許用戶選擇zui合適的頻率，從而滿足具體要求。 可用的射頻功率范圍從150瓦到1250瓦。 自動或手動匹配網(wǎng)絡(luò)，在必要時提供。

圓筒型臺式反應(yīng)離子刻蝕（RIE）系統(tǒng)的真空系統(tǒng)

根據(jù)所需的真空處理水平要求，圓筒型臺式反應(yīng)離子刻蝕（RIE）系統(tǒng)提供機械泵及羅茨鼓風(fēng)機用機械真空泵。 這些真空泵可提供在腐蝕性氣體如氧或腐蝕性化學(xué)應(yīng)用。 下游壓力控制和質(zhì)量流量控制也可獨立控制真空和處理氣體流量。

圓筒型臺式反應(yīng)離子刻蝕（RIE）系統(tǒng)的電腦控制系統(tǒng)

嵌入式計算機的鍵盤和顯示屏提供完整的自動化圓筒型臺式反應(yīng)離子刻蝕（RIE）系統(tǒng)。 無限等離子工藝存儲設(shè)有多級的處理步驟。圓筒型臺式反應(yīng)離子刻蝕（RIE）系統(tǒng)提供了顯示所有的運行參數(shù)，用戶可以很容易地編程。 

圓筒型臺式反應(yīng)離子刻蝕（RIE）系統(tǒng)尺寸

反應(yīng)離子刻蝕（RIE）系統(tǒng) ： 度62厘米  x 深63.5厘米  x 高40厘米

反應(yīng)離子刻蝕（RIE）系統(tǒng)重量： 約45公斤

圓筒型臺式反應(yīng)離子刻蝕（RIE）系統(tǒng)機電信息
圓筒型臺式反應(yīng)離子刻蝕（RIE）系統(tǒng)： 220V AC，50Hz，7A

H20  用于射頻電極冷卻 （因不同射頻電極而異]

空氣  用于電磁閥門操作

N2  用于等離子真空艙泄壓

氣  工藝氣體

如果您對GIK圓筒型臺式反應(yīng)離子刻蝕（RIE）系統(tǒng)感興趣，請索取更詳盡資料！
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