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化工儀器網(wǎng)>產(chǎn)品展廳>化工機(jī)械設(shè)備>粉碎設(shè)備>研磨機(jī)>CMD2000 醫(yī)藥研磨分散機(jī)

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CMD2000 醫(yī)藥研磨分散機(jī)

參考價(jià) 219856
訂貨量 ≥1
具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)
  • 公司名稱 上海依肯機(jī)械設(shè)備有限公司
  • 品牌
  • 型號(hào) CMD2000
  • 產(chǎn)地 松江區(qū)陳春公路700號(hào)
  • 廠商性質(zhì) 生產(chǎn)廠家
  • 更新時(shí)間 2018/4/20 4:53:41
  • 訪問次數(shù) 597

聯(lián)系我們時(shí)請(qǐng)說明是化工儀器網(wǎng)上看到的信息,謝謝!


~ 上海依肯機(jī)械設(shè)備有限公司是一家中德合作經(jīng)營(yíng)企業(yè),依肯通過引進(jìn)德國(guó)IKN技術(shù)和科學(xué)管理模式,形成了完整的研發(fā)、制造及營(yíng)銷體系。她保持與的混合乳化技術(shù)同步,同時(shí)擁有xx的技術(shù)研究人才和生產(chǎn)能力,為中國(guó)及提供多元化的產(chǎn)品及技術(shù)服務(wù)。她已經(jīng)發(fā)展成為中國(guó)流體高剪切混合設(shè)備行業(yè)的XX者。
      公司主要研發(fā),生產(chǎn)制造,銷售流體領(lǐng)域的幾大系列:一乳化機(jī)(乳化機(jī),高剪切乳化機(jī),管線式乳化機(jī))二 均質(zhì)機(jī),三 分散機(jī),四 膠體磨,五 乳化泵,六 研磨機(jī),七濕法粉碎機(jī),九成套設(shè)備等系列。為混合、分散、均質(zhì)、懸浮、乳化、濕磨、粉液混合等領(lǐng)域提供高品質(zhì)的解決方案,設(shè)備加工材料細(xì)度可達(dá)微納米級(jí)別。依肯公司作為國(guó)內(nèi)的XX供應(yīng)商,憑借著對(duì)廣大客戶要求的深入了解,為客戶解決流程工藝中的難題,混合技術(shù),乳化均質(zhì),粉液混合技術(shù)和合理的配置方案,確保設(shè)備運(yùn)行穩(wěn)定的可靠性。她已廣泛應(yīng)用于石油、石化、化工、食品、生物制藥、核工業(yè)、精細(xì)化工等領(lǐng)域,并成功為x'x工程配套,部分產(chǎn)品返銷國(guó)外,取得了顯著的經(jīng)濟(jì)效益和社會(huì)效益。

“追求*品質(zhì)”是依肯公司是的宗旨。“成功源自創(chuàng)新”亦是公司全體員工一直努力追隨的目標(biāo)。上海依肯機(jī)械設(shè)備有限公司將以求實(shí)、創(chuàng)新的企業(yè)精神走向市場(chǎng)。在您在關(guān)注和支持下、她將以不斷發(fā)展壯大,在分散乳化均質(zhì)粉碎設(shè)備制造的廣闊天地中散發(fā)出*的魅力。

 

 

乳化機(jī),膠體磨,分散機(jī),粉液混合機(jī),納米乳化機(jī),納米分散機(jī),納米研磨機(jī),納米粉碎機(jī),高速膠體磨

醫(yī)藥研磨分散機(jī),醫(yī)藥研磨分散設(shè)備,醫(yī)藥研磨機(jī)是。IKN濕磨機(jī)的輸入剪切能大,可實(shí)現(xiàn)10 μm及以下粒度。IKN濕磨機(jī)能夠處理寬粘度范圍的產(chǎn)品。干磨的一種安全而高效的替代方案。 

醫(yī)藥研磨分散機(jī)

干磨產(chǎn)生大量灰塵,從而需要配備適當(dāng)?shù)倪^濾系統(tǒng)。當(dāng)研磨其粉塵與大氣氧氣混合會(huì)產(chǎn)生XX性混合物的物質(zhì)時(shí),這一點(diǎn)尤其重要。達(dá)到規(guī)定的安全等級(jí)通常需要精心設(shè)計(jì)的技術(shù)解決方案,如除塵和惰性氣體覆蓋系統(tǒng)。這些過濾系統(tǒng)的成本通常大大超出實(shí)際研磨機(jī)的成本。 

用轉(zhuǎn)子-定子裝置濕磨此類物質(zhì)具有諸多好處:

  • 研磨得到的細(xì)顆粒被直接融合到懸浮液中,因而從開始就避免了灰塵的形成。
  • 與干磨系統(tǒng)不同,被研磨的物質(zhì)保持在系統(tǒng)內(nèi),從而大幅減少了損失。因此,濕磨非常適合有機(jī)化學(xué)品,尤其是優(yōu)質(zhì)物質(zhì),或者有毒物質(zhì)的研磨。
  • 相對(duì)干磨過程而言,濕磨的產(chǎn)品進(jìn)料和計(jì)量較容易。

濕磨被用于醫(yī)藥工業(yè)的許多應(yīng)用中,并且取得了良好的效果,因?yàn)樗浅_m用于API(活性藥用成分)。 

IKN
分散機(jī)可直接結(jié)合到物質(zhì)合成過程中。這使得濕磨過程與其他過程同時(shí)進(jìn)行,從而能夠刪除后續(xù)工步。除了節(jié)省時(shí)間以外,需要的系統(tǒng)數(shù)量和接觸產(chǎn)品的表面尺寸可大幅減少。管線式濕磨機(jī)非常適合于CIP或者SIP清潔。濕磨機(jī)的好處使其成為具有吸引力的投資產(chǎn)品。 

INA
濕磨機(jī)基于轉(zhuǎn)子-定子原理。IKN濕磨機(jī)的輸入剪切能大,可實(shí)現(xiàn)10 μm及以下粒度。IKN濕磨機(jī)能夠處理寬粘度范圍的產(chǎn)品。鑒于其處理能力,IKN濕磨機(jī)被用于諸多應(yīng)用,如織物涂料、漆、染紙顏料和潤(rùn)滑脂濕磨。 

如研磨 各型糖漿、營(yíng)養(yǎng)液、中成藥、膏狀藥劑、生物制品、魚肝油、花粉、蜂皇漿、疫苗、各種藥膏、各種口服液、針劑、注射液,混懸注射液,脂肪乳,靜滴液,乳化豬皮


磺胺嘧啶混懸液      復(fù)方磺胺甲噁唑口服混懸液   磺胺二甲嘧啶混懸  液硫酸鋇(Ⅰ)混懸液

 棕櫚氯霉素混懸液   布洛芬口服混懸液   復(fù)方磺胺甲噁唑口服?... 磺胺二甲嘧啶混懸液   硫酸鋇(Ⅰ型)混懸液(1...

布洛芬混懸液   硫糖鋁混懸液  

棕櫚氯霉素混懸液   鋁鎂混懸液

頭孢克洛混懸液    蒙脫石混懸液

鋁鎂加混懸液   右美沙芬緩釋混懸液

苯酰甲硝唑混懸液   依托紅霉素混懸液

硫酸鋇混懸液   布洛偽麻混懸液    對(duì)乙酰氨基酚混懸液



他們不外乎兩點(diǎn),一方面是混懸液中的顆粒過大,容易分成 ,而是研磨效果差,但不到應(yīng)有的藥物功效


研磨分散機(jī)的結(jié)構(gòu)  

一款新型產(chǎn)品,該機(jī)特別適合于需要研磨分散乳化均質(zhì)一步到位的物料。我們將多級(jí)高剪切均質(zhì)乳化機(jī)進(jìn)行改裝,我們將多級(jí)變跟為一級(jí),然后在乳化頭上面加配了膠體磨磨頭,使物料可以先經(jīng)過膠體磨細(xì)化物料,然后再經(jīng)過乳化機(jī)將物料分散乳化均質(zhì)。膠體磨可根據(jù)物料要求進(jìn)行更換(我們提供了2P,2G,4M,6F,8SF等五種乳化頭供客戶選擇)

線速度很高,剪切間隙非常小,當(dāng)物料經(jīng)過的時(shí)候,形成的摩擦力就比較劇烈,結(jié)果就是通常所說的濕磨

②   定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形,具有精細(xì)度遞升的多級(jí)鋸齒突起和凹槽。

③   定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離

④   在增強(qiáng)的流體湍流下,凹槽在每級(jí)都可以改變方向。

⑤   高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料,可以滿足不同行業(yè)的多種要求。


IKN 藥物研磨分散的效果主要是可他們呢內(nèi)部結(jié)構(gòu)  

影響研磨粉碎結(jié)果的因素有以下幾點(diǎn)


2 膠體磨磨頭頭的剪切速率  (越大,效果越好)

3 膠體磨頭的齒形結(jié)構(gòu)(分為初齒,中齒,細(xì)齒,超細(xì)齒,約細(xì)齒效果越好)

物料在研磨腔體的停留時(shí)間,研磨粉碎時(shí)間(可以看作同等的電機(jī),流量越小,效果越好)

5 循環(huán)次數(shù)(越多,效果越好,到設(shè)備的期限,就不能再好)


線速度的計(jì)算

剪切速率的定義是兩表面之間液體層的相對(duì)速率。

剪切速率 (s-1) =          v  速率 (m/s)  
                            g -轉(zhuǎn)子 間距 (m)

由上可知,剪切速率取決于以下因素:

轉(zhuǎn)子的線速率

在這種請(qǐng)況下兩表面間的距離為轉(zhuǎn)子-定子 間距。
IKN -轉(zhuǎn)子的間距范圍為 0.2 ~ 0.4 mm 


速率V=  3.14 X  D(轉(zhuǎn)子直徑)X 轉(zhuǎn)速 RPM  /   60


所以搞得轉(zhuǎn)速和精密磨非常重要


的額參數(shù)型號(hào)

磨分散機(jī)

流量*

輸出

線速度

功率

入口/出口連接

類型

l/h

rpm

m/s

kW


CMSD 2000/4

400

14,000

41

4

DN25/DN15

CMSD 2000/5

1500

10,500

41

11

DN40/DN32

CMSD 2000/10

4000

72,200

41

22

DN80/DN65

CMSD 2000/20

10000

2,850

41

45

DN80/DN65

CMSD 2000/30

20000

1,420

41

90

DN150/DN125

CMSD2000/50

60000

1,100

41

160

DN200/DN150

*流量取決于設(shè)置的間隙和被處理物料的特性,同時(shí)流量可以被調(diào)節(jié)到zui大允許量的10%。

1 表中上限處理量是指介質(zhì)為“水”的測(cè)定數(shù)據(jù)。


醫(yī)藥研磨粉碎機(jī), 





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