CMD2000 醫(yī)藥研磨分散機(jī)
參考價(jià) | ¥ 219856 |
訂貨量 | ≥1 |
- 公司名稱 上海依肯機(jī)械設(shè)備有限公司
- 品牌
- 型號(hào) CMD2000
- 產(chǎn)地 松江區(qū)陳春公路700號(hào)
- 廠商性質(zhì) 生產(chǎn)廠家
- 更新時(shí)間 2018/4/20 4:53:41
- 訪問次數(shù) 597
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醫(yī)藥研磨分散機(jī),醫(yī)藥研磨分散設(shè)備,醫(yī)藥研磨機(jī)是。IKN濕磨機(jī)的輸入剪切能大,可實(shí)現(xiàn)10 μm及以下粒度。IKN濕磨機(jī)能夠處理寬粘度范圍的產(chǎn)品。干磨的一種安全而高效的替代方案。
醫(yī)藥研磨分散機(jī)
干磨產(chǎn)生大量灰塵,從而需要配備適當(dāng)?shù)倪^濾系統(tǒng)。當(dāng)研磨其粉塵與大氣氧氣混合會(huì)產(chǎn)生XX性混合物的物質(zhì)時(shí),這一點(diǎn)尤其重要。達(dá)到規(guī)定的安全等級(jí)通常需要精心設(shè)計(jì)的技術(shù)解決方案,如除塵和惰性氣體覆蓋系統(tǒng)。這些過濾系統(tǒng)的成本通常大大超出實(shí)際研磨機(jī)的成本。
用轉(zhuǎn)子-定子裝置濕磨此類物質(zhì)具有諸多好處:
- 研磨得到的細(xì)顆粒被直接融合到懸浮液中,因而從開始就避免了灰塵的形成。
- 與干磨系統(tǒng)不同,被研磨的物質(zhì)保持在系統(tǒng)內(nèi),從而大幅減少了損失。因此,濕磨非常適合有機(jī)化學(xué)品,尤其是優(yōu)質(zhì)物質(zhì),或者有毒物質(zhì)的研磨。
- 相對(duì)干磨過程而言,濕磨的產(chǎn)品進(jìn)料和計(jì)量較容易。
濕磨被用于醫(yī)藥工業(yè)的許多應(yīng)用中,并且取得了良好的效果,因?yàn)樗浅_m用于API(活性藥用成分)。
IKN分散機(jī)可直接結(jié)合到物質(zhì)合成過程中。這使得濕磨過程與其他過程同時(shí)進(jìn)行,從而能夠刪除后續(xù)工步。除了節(jié)省時(shí)間以外,需要的系統(tǒng)數(shù)量和接觸產(chǎn)品的表面尺寸可大幅減少。管線式濕磨機(jī)非常適合于CIP或者SIP清潔。濕磨機(jī)的好處使其成為具有吸引力的投資產(chǎn)品。
INA濕磨機(jī)基于轉(zhuǎn)子-定子原理。IKN濕磨機(jī)的輸入剪切能大,可實(shí)現(xiàn)10 μm及以下粒度。IKN濕磨機(jī)能夠處理寬粘度范圍的產(chǎn)品。鑒于其處理能力,IKN濕磨機(jī)被用于諸多應(yīng)用,如織物涂料、漆、染紙顏料和潤(rùn)滑脂濕磨。
如研磨 各型糖漿、營(yíng)養(yǎng)液、中成藥、膏狀藥劑、生物制品、魚肝油、花粉、蜂皇漿、疫苗、各種藥膏、各種口服液、針劑、注射液,混懸注射液,脂肪乳,靜滴液,乳化豬皮
磺胺嘧啶混懸液 復(fù)方磺胺甲噁唑口服混懸液 磺胺二甲嘧啶混懸 液硫酸鋇(Ⅰ型)混懸液
棕櫚氯霉素混懸液 布洛芬口服混懸液 復(fù)方磺胺甲噁唑口服?... 磺胺二甲嘧啶混懸液 硫酸鋇(Ⅰ型)混懸液(1...
布洛芬混懸液 硫糖鋁混懸液
棕櫚氯霉素混懸液 鋁鎂混懸液
頭孢克洛混懸液 蒙脫石混懸液
鋁鎂加混懸液 右美沙芬緩釋混懸液
苯酰甲硝唑混懸液 依托紅霉素混懸液
硫酸鋇混懸液 布洛偽麻混懸液 對(duì)乙酰氨基酚混懸液
他們不外乎兩點(diǎn),一方面是混懸液中的顆粒過大,容易分成 ,而是研磨效果差,但不到應(yīng)有的藥物功效
研磨分散機(jī)的結(jié)構(gòu)
一款新型產(chǎn)品,該機(jī)特別適合于需要研磨分散乳化均質(zhì)一步到位的物料。我們將多級(jí)高剪切均質(zhì)乳化機(jī)進(jìn)行改裝,我們將多級(jí)變跟為一級(jí),然后在乳化頭上面加配了膠體磨磨頭,使物料可以先經(jīng)過膠體磨細(xì)化物料,然后再經(jīng)過乳化機(jī)將物料分散乳化均質(zhì)。膠體磨可根據(jù)物料要求進(jìn)行更換(我們提供了2P,2G,4M,6F,8SF等五種乳化頭供客戶選擇)
1 線速度很高,剪切間隙非常小,當(dāng)物料經(jīng)過的時(shí)候,形成的摩擦力就比較劇烈,結(jié)果就是通常所說的濕磨
② 定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形,具有精細(xì)度遞升的多級(jí)鋸齒突起和凹槽。
③ 定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離
④ 在增強(qiáng)的流體湍流下,凹槽在每級(jí)都可以改變方向。
⑤ 高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料,可以滿足不同行業(yè)的多種要求。
IKN 藥物研磨分散的效果主要是可他們呢內(nèi)部結(jié)構(gòu)
影響研磨粉碎結(jié)果的因素有以下幾點(diǎn)
2 膠體磨磨頭頭的剪切速率 (越大,效果越好)
3 膠體磨頭的齒形結(jié)構(gòu)(分為初齒,中齒,細(xì)齒,超細(xì)齒,約細(xì)齒效果越好)
4 物料在研磨腔體的停留時(shí)間,研磨粉碎時(shí)間(可以看作同等的電機(jī),流量越小,效果越好)
5 循環(huán)次數(shù)(越多,效果越好,到設(shè)備的期限,就不能再好)
線速度的計(jì)算
剪切速率的定義是兩表面之間液體層的相對(duì)速率。
剪切速率 (s-1) = v 速率 (m/s)
g 定-轉(zhuǎn)子 間距 (m)
由上可知,剪切速率取決于以下因素:
轉(zhuǎn)子的線速率
在這種請(qǐng)況下兩表面間的距離為轉(zhuǎn)子-定子 間距。
IKN 定-轉(zhuǎn)子的間距范圍為 0.2 ~ 0.4 mm
速率V= 3.14 X D(轉(zhuǎn)子直徑)X 轉(zhuǎn)速 RPM / 60
所以搞得轉(zhuǎn)速和精密磨非常重要
的額參數(shù)型號(hào)
磨分散機(jī) | 流量* | 輸出 | 線速度 | 功率 | 入口/出口連接 |
類型 | l/h | rpm | m/s | kW | |
CMSD 2000/4 | 400 | 14,000 | 41 | 4 | DN25/DN15 |
CMSD 2000/5 | 1500 | 10,500 | 41 | 11 | DN40/DN32 |
CMSD 2000/10 | 4000 | 72,200 | 41 | 22 | DN80/DN65 |
CMSD 2000/20 | 10000 | 2,850 | 41 | 45 | DN80/DN65 |
CMSD 2000/30 | 20000 | 1,420 | 41 | 90 | DN150/DN125 |
CMSD2000/50 | 60000 | 1,100 | 41 | 160 | DN200/DN150 |
*流量取決于設(shè)置的間隙和被處理物料的特性,同時(shí)流量可以被調(diào)節(jié)到zui大允許量的10%。 |
1 表中上限處理量是指介質(zhì)為“水”的測(cè)定數(shù)據(jù)。
醫(yī)藥研磨粉碎機(jī),