微電極拋光（磨針）儀（Microelectrode Beveler）用于打磨拉制好的玻璃微電極*，主要是將*打磨成斜面，使電極更尖，同時使電極開口變大，一方面在進行細胞內記錄時有利于電極刺入細胞，一方面在進行細胞內注射時有利于注射物質進入細胞。電阻測量儀可以在打磨完成后對電極電阻進行測量。

美國Sutter公司 BV-10型磨針儀美國 

    用于細胞內記錄，打磨后可降低電極電阻，同時幫助電極刺入細胞（尤其是小細胞）。用于細胞內注射，減小對細胞的損傷，促進注射物質進入細胞

技術參數(shù)

 根據(jù)選擇的打磨盤不同，可打磨口徑0.1-50μm的玻璃電極

 打磨盤無振動，表面有磁力耦合。

 大磨盤表面為半波長（250nm）光學平面。

 同步鐘電動機確保穩(wěn)定轉速。

 7磅重的底座增大了振動阻尼。

 配有鹵素燈。

 配有微操縱器，控制打磨的精度與角度。

 打磨的差異：小于1.0μm

 打磨速度：60RPM

 打磨角度：5-90度可調

 微操：粗調1.9mm，微調0.01mm

 可選配體式顯微鏡（80x）和電極電阻測量儀

 電極電阻測量儀測量范圍：0-10，0-100，0-500Ω

 有多種型號選擇：BV-10-B（打磨儀），BV-10-C（打磨儀與電阻測量儀），BV-10-D（配有顯微    鏡的打磨儀），BV-10-E（配有顯微鏡的打磨儀與電阻測    量儀）。