VTC-2RF 射頻等離子磁控濺射鍍膜儀

具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)

公司名稱 中美合資合肥科晶材料技術(shù)有限公司
品牌
型號(hào) VTC-2RF
產(chǎn)地
廠商性質(zhì) 生產(chǎn)廠家
更新時(shí)間 2025/2/11 10:11:45
訪問次數(shù) 4295

產(chǎn)品標(biāo)簽

射頻等離子磁控濺射鍍膜儀 300W射頻等離子磁控濺射鍍膜儀

在線交流發(fā)送詢價(jià) 進(jìn)入商鋪同類產(chǎn)品

聯(lián)系方式：朱沫浥18255163376 查看聯(lián)系方式

聯(lián)系我們時(shí)請(qǐng)說明是化工儀器網(wǎng)上看到的信息，謝謝!

索取相關(guān)資料

公司介紹 主營(yíng)產(chǎn)品

　　合肥科晶材料技術(shù)有限公司成立于1997年，是由一群來自麻省理工學(xué)院和加州大學(xué)伯克利分校的材料研究人員創(chuàng)辦的美國(guó)MTI公司與中科院合肥物質(zhì)科學(xué)研究院合資興辦的高新技術(shù)企業(yè)。主要生產(chǎn)氧化物晶體(A--Z)和材料實(shí)驗(yàn)室成套設(shè)備：包括“混料-壓料-燒料”(混料機(jī)、壓片機(jī)、箱式爐、真空管式爐)以及“定向-切割-研磨-拋光”(X射線定向儀、低速外圓鋸、金剛石線切割機(jī)、自動(dòng)研磨、拋光機(jī))。公司自主研發(fā)生產(chǎn)上百款不同規(guī)格尺寸、溫度、高溫高壓及快速升溫等產(chǎn)品，其中包括：箱式爐、氣氛爐、管式爐、井式爐、RTP快速升溫爐、高溫高壓爐、鍍膜機(jī)、清洗劑及新能源鋰離子電池研發(fā)等相關(guān)實(shí)驗(yàn)室設(shè)備?，F(xiàn)已成為氧化物晶體(A--Z)的主要制造商和材料研究實(shí)驗(yàn)室設(shè)備的*，為科研工作者提供材料研究解決方案。產(chǎn)品設(shè)計(jì)*、性能優(yōu)異，質(zhì)量可靠，性價(jià)比高，環(huán)保節(jié)能、返修率低，遠(yuǎn)銷到歐洲，美國(guó)，日本，德國(guó)等許多國(guó)家，廣泛應(yīng)用于物理、化學(xué)、冶金、醫(yī)學(xué)、新能源材料研發(fā)等領(lǐng)域，受到客戶*好評(píng)。

　　科晶公司秉承"以人為本、技術(shù)為導(dǎo)、誠(chéng)信為基、積極創(chuàng)新"的經(jīng)營(yíng)理念,全力打造材料研發(fā)設(shè)備的品牌,竭力為科學(xué)進(jìn)步和社會(huì)發(fā)展做出貢獻(xiàn)。

展開

真空管式爐，高溫箱式爐，高速震動(dòng)球磨機(jī)，RTP快速退火爐，高溫高壓爐，涂覆機(jī)，電池制備設(shè)備等

詳細(xì)信息 在線詢價(jià)

射頻等離子磁控濺射鍍膜儀是一款小型的射頻（RF）等離子體磁控濺射鍍膜儀系統(tǒng)，系統(tǒng)中包含了所有所需的配件，如300W（13.5MHz）的RF電源、2"的磁控濺射頭、石英真空腔體、真空泵和溫度控制器等。對(duì)于制作一些金屬薄膜及非金屬薄膜，它是一款物美價(jià)廉的實(shí)驗(yàn)幫手。
我們用此設(shè)備得到擇優(yōu)取向的ZnO薄膜

技術(shù)參數(shù)

輸入電源	220VAC 50/60Hz, 單相 800W (包括真空泵）
等離子源	一個(gè)300W，13.5MHz的射頻電源安裝在移動(dòng)柜內(nèi) (點(diǎn)擊圖片查看詳細(xì)資料）
磁控濺射頭	一個(gè) 2英寸磁控濺射頭（帶有水冷夾層），采用快速接頭與真空腔體相連接靶材尺寸: 直徑為50mm,zui大厚度6.35mm 一個(gè)快速擋板安裝在法蘭上（手動(dòng)操作，見圖左3）濺射頭所需冷卻水：流速10ml/min（儀器中配有一臺(tái)流速為16ml/min的循環(huán)水冷機(jī)）同時(shí)可選配1英寸濺射頭
真空腔體	真空腔體：160 mm OD x 150 mm ID x 250mm H，采用高純石英制作密封法蘭:直徑為165 mm . 采用金屬鋁制作，采用硅膠密封圈密封一個(gè)不銹鋼網(wǎng)罩住整個(gè)石英腔體，以屏蔽等離子體真空度：10-3 Torr （采用雙極旋片真空泵） 10-5 torr （采渦旋分子泵）
載樣臺(tái)	載樣臺(tái)可旋轉(zhuǎn)（為了制膜更加均勻）并可加熱載樣臺(tái)尺寸：直徑50mm （zui大可放置2英寸的基片）旋轉(zhuǎn)速度：1 - 20 rpm 樣品的zui高加熱溫度為700℃，(短期使用，恒溫不超過1小時(shí))，長(zhǎng)期使用溫度500℃ 控溫精度+/- 10℃
真空泵	可選用直聯(lián)式雙極旋片泵,也可選用德國(guó)制作的分子泵系統(tǒng)
薄膜測(cè)厚儀	一個(gè)精密的石英振動(dòng)薄膜測(cè)厚儀安裝在儀器上，可實(shí)時(shí)監(jiān)控薄膜的厚度，分辨率為0.10 ? LED顯示屏顯示，同時(shí)也輸入所制作薄膜的相關(guān)數(shù)據(jù)
外形尺寸
質(zhì)保和質(zhì)量認(rèn)證	一年質(zhì)保期，終生維護(hù) CE認(rèn)證
使用注意事項(xiàng)	這款2英寸的射頻濺射鍍膜儀主要是用于在單晶基片上制備氧化物膜，所以并不需要太高的真空度為了較好地排出真空腔體中的氧氣，建議用5%H2+95 %N2對(duì)真空腔體清洗，可有效減少真空腔體中的氧含量請(qǐng)用純度大于5N的Ar來進(jìn)行等離子濺射，甚至5N的Ar中也含有10- 100 ppm的氧和水，所以建議將鋼瓶中的惰性氣體通過凈化系統(tǒng)過后，再導(dǎo)入到真空腔體內(nèi)