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VibroMet™ 2振動(dòng)拋光機(jī)
- 公司名稱 上海西努光學(xué)科技有限公司
- 品牌
- 型號(hào)
- 產(chǎn)地
- 廠商性質(zhì) 代理商
- 更新時(shí)間 2025/3/21 11:48:03
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奧林巴斯顯微鏡,奧林巴斯工業(yè)內(nèi)窺鏡,iX高速攝像機(jī),標(biāo)樂(lè)金相制樣設(shè)備,威爾遜硬度計(jì),navitar鏡頭,日立掃描電鏡,加拿大WDI光學(xué)設(shè)備
VibroMet™ 2振動(dòng)拋光機(jī)可快速去除樣品表面機(jī)械化制樣后殘留的細(xì)微變形層，從而得到無(wú)應(yīng)力的制備表面，而不必使用電解拋光制備所必需的危險(xiǎn)電解液。結(jié)合VibroMet 2與MasterMet 2二氧化硅拋光液對(duì)樣品進(jìn)行化學(xué)-機(jī)械拋光，可適用于背散射電子衍射（EBSD）或原子力顯微鏡分析（AFM）。不同于傳統(tǒng)的振動(dòng)拋光機(jī)，VibroMet 2可以產(chǎn)生幾乎*水平方向的振動(dòng)，zui大限度地提高了樣品接觸拋光布的時(shí)間。用戶設(shè)定好程序后就可以離開(kāi)，樣品會(huì)在拋光盤中自動(dòng)地開(kāi)始振動(dòng)拋光。
VibroMet™ 2振動(dòng)拋光機(jī)快速去除樣品表面變形層
水平運(yùn)動(dòng)溫和地拋光樣品不引起機(jī)械應(yīng)力
所得樣品表面適用于背散射電子衍射（EBSD）或原子力顯微鏡分析（AFM）
對(duì)混合材料和不均勻樣品都能達(dá)到*的制備效果
無(wú)需使用危險(xiǎn)電解液
替換電解拋光儀和危險(xiǎn)電解液
結(jié)合VibroMet 2 與MasterMet二氧化硅拋光液，MicroCloth 拋光布對(duì)樣品進(jìn)行化學(xué)-機(jī)械拋光
設(shè)定后無(wú)需過(guò)多留心
樣品在拋光盤中可自動(dòng)開(kāi)始振動(dòng)拋光
12in [305 mm]直徑拋光盤可同時(shí)制備多達(dá)18個(gè)樣品
VibroMet™ 2 振動(dòng)拋光機(jī)
• 振動(dòng)拋光機(jī)用于在機(jī)械制備后去除剩余的輕微變形，以顯現(xiàn)無(wú)應(yīng)力的表面，而不必使用電解拋光所需的危險(xiǎn)的電解液
• 將VibroMet™ 2 振動(dòng)拋光機(jī) 和MasterMet™ 2 膠體二氧化硅配合使用，進(jìn)行化學(xué)機(jī)械拋光的試樣表面可滿足電子背散射衍射（EBSD）或原子
力顯微鏡(AFM) 分析
• 和zui終拋光液配合使用(pg.69-70)
• 磨盤尺寸為12in [305mm]
| Part Number | 電壓/頻率 |
| 67-1635-160 | 115VAC, 60Hz |
| 67-1635-250 | 220VAC, 50Hz |
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