DaLI高分辨無掩膜納米光刻機
DaLI高分辨無掩膜納米光刻機
無掩膜激光直寫光刻設(shè)備
LPKF ProtoLaser LDI采用UV紫外激光技術(shù)，直接讀取設(shè)計數(shù)據(jù)，激光直接在感光層上形成精細(xì)結(jié)構(gòu)。無需昂貴的曝光設(shè)備，也無需外加工昂貴的掩膜。
這一工藝可加工多種平整的基材表面，無特殊環(huán)境條件要求（*使用黃燈）。只需將樣品放入標(biāo)準(zhǔn)或客戶定制的承載裝置，然后直接推入ProtoLaser設(shè)備中即可。
該工藝為非接觸式，因此不涉及工具損耗，設(shè)備多年不需要維護，幾乎沒有運行成本。這使得該設(shè)備對于創(chuàng)新性設(shè)計測試方面，是一款非常*、耐用的工具。LPKF ProtoLaser LDI很大程度上提高了創(chuàng)新實現(xiàn)的可能性。
LDI的優(yōu)點：快穩(wěn)準(zhǔn)，功能強大易操作
通過聲光偏轉(zhuǎn)器將100kHz光束定位，使激光極速直寫成為可能，只需花費幾分鐘即可制作一款典型的微流體通道。自動檢測功能可以彌補基材面或感光層不平的問題。
ProtoLaser LDI 支持DXF文件，并且可以對CAD文件進行修改。多種嵌入功能使微流體通道設(shè)計非常簡單和高效?？蛇x擇不同激光*和算法，來優(yōu)化直寫速度得到精細(xì)結(jié)構(gòu)。所有的準(zhǔn)備工作都可以通過可視化軟件進行控制。
技術(shù)參數(shù)
| 基材尺寸 | 可達100 mm x 100 mm (4’’ x 4’’) |
| 激光波長 | 375 nm |
| 激光光斑尺寸 (TEM00) | 1 µm (0.04 Mil) and/或 3 µm (0.12 Mil), 用戶可自選 |
| 激光光斑定位分辨率 | < 1 nm |
| 激光直寫速度 | 可至100 000 spots per second |
| 圖形尺寸 | 可至 1 µm (0.04 Mil) |
| 數(shù)據(jù)輸入格式 | DXF, Gerber, BMP |
電源 | 230 V/50 Hz, 100 VA |
| 設(shè)備尺寸 (W x H x D) | 650 mm x 522 mm x 626 mm (25.6” x 20.6” x 24.6”) |
| 重量 | 80 kg (176.4 lbs) |
| 集成攝像頭 | 用于樣品檢測和校正攝像頭 |
| 硬件和軟件的要求配置 | Windows 7, 32 bit or Windows XP, 32 bit with service pack 3,1.3 GHz processor or higher, 2 GB RAM (4 GB recommended), 160 MB of available hard-disk space for installtion， screen resolution min.1024*768 pixles (1600 x 1050 recommended) |
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