wayes-zm 桌面型磁控濺射鍍膜機
| 參考價 | ￥ 198000 |
| 訂貨量 | ≥1 |
具體成交價以合同協(xié)議為準(zhǔn)
- 公司名稱 北京維意真空技術(shù)應(yīng)用有限責(zé)任公司
- 品牌
- 型號 wayes-zm
- 產(chǎn)地 北京大興舊橋路
- 廠商性質(zhì) 生產(chǎn)廠家
- 更新時間 2019/7/29 16:04:35
- 訪問次數(shù) 522
產(chǎn)品標(biāo)簽
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| 產(chǎn)地類別 | 國產(chǎn) | 價格區(qū)間 | 10萬-30萬 |
|---|---|---|---|
| 應(yīng)用領(lǐng)域 | 電子/電池,包裝/造紙/印刷,航空航天,電氣 |
桌面型磁控濺射鍍膜機設(shè)備用途：
桌面型磁控濺射鍍膜機用于納米級單層及多層功能膜、硬質(zhì)膜、金屬膜、半導(dǎo)體膜、介質(zhì)膜等新型薄膜材料的制備?？蓮V泛應(yīng)用于大專院校、科研院所的薄膜材料的科研與小批量制備。
設(shè)備組成
系統(tǒng)主要由濺射真空室、永磁磁控濺射靶（3個靶）、單基片加熱臺、直流電源、射頻電源、工作氣路、抽氣系統(tǒng)、真空測量、電控系統(tǒng)及安裝機臺等部分組成。
技術(shù)指標(biāo)：
1. 極限真空度6.7×10-5Pa； 分子泵滿速1小時后真空度達(dá)到4×10-4Pa；
2. 超高真空磁控靶：有效尺寸3英寸，數(shù)量：3支，永磁靶（自帶側(cè)開擋板），水冷；
3. 靶基距120-200mm可調(diào)，用光軸加直線軸承導(dǎo)向，可手動連續(xù)調(diào)節(jié)，有刻度指示；三靶共濺射，靶可擺角度，角度為0～45℃；
4. 樣品加熱：采用碘鎢燈加熱方式對樣品進(jìn)行加熱，樣品zui高可加熱400℃；
5. 磁控濺射樣品有效尺寸：Φ60mm，一次只鍍1片；鍍膜時樣品架實現(xiàn)自轉(zhuǎn)，自轉(zhuǎn)轉(zhuǎn)速為0～50轉(zhuǎn)/分；樣品加負(fù)偏壓0-200V可調(diào)；
6. 氣體控制：氣體流量通過兩路質(zhì)量流量控制器控制，流量范圍為：0～50 sccm；
7. 系統(tǒng)帶有手動控制功能，主要實現(xiàn)樣品的加熱控制；樣品的旋轉(zhuǎn)控制；磁控靶檔板的控制；真空度的采集。
采購中心
化工儀器網(wǎng)