DMD無掩膜光刻機
- 公司名稱 上海昊量光電設(shè)備有限公司
- 品牌 其他品牌
- 型號
- 產(chǎn)地
- 廠商性質(zhì) 代理商
- 更新時間 2021/9/10 9:50:25
- 訪問次數(shù) 5965
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上海昊量光電設(shè)備有限公司
Aunion Tech Co., Ltd
專業(yè)源自專注 專注成就未來
自2008年成立以來，昊量光電專注于光電領(lǐng)域的技術(shù)服務(wù)與產(chǎn)品經(jīng)銷，致力于引進guo外*先進性與創(chuàng)新性的光電技術(shù)與可靠產(chǎn)品，為國內(nèi)Z前沿的科研與工業(yè)領(lǐng)域提供優(yōu)質(zhì)的產(chǎn)品與服務(wù)，助力中國智造與中國創(chuàng)造! 目前，昊量光電已經(jīng)與來自美國、歐洲、日本的多家光電產(chǎn)品制造商建立了緊密的合作關(guān)系。其代理品牌均處于相關(guān)領(lǐng)域的發(fā)展前沿，產(chǎn)品包括各類激光器、光電調(diào)制器、光學(xué)測量設(shè)備、精密光學(xué)元件等，所涉足的領(lǐng)域涵蓋了材料加工、光通訊、生物醫(yī)療、科學(xué)研究與國防等。
昊量光電堅持“專業(yè)源自專注，專注成就未來”的經(jīng)營理念。近年來，我們專注于前沿的細分市場，為量子光學(xué)、生物顯微、物聯(lián)傳感、精密加工、先進激光制造等領(lǐng)域的客戶提供系統(tǒng)解決方案。
作為一家以技術(shù)溝通與技術(shù)服務(wù)見長的高科技企業(yè)，我們所有的銷售與技術(shù)服務(wù)團隊成員都具有理工科方面的專業(yè)背景，并在公司接受相關(guān)領(lǐng)域的專業(yè)培訓(xùn)，在售前技術(shù)溝通、售后產(chǎn)品安裝培訓(xùn)、產(chǎn)品問題解決、軟硬件增值服務(wù)等方面為客戶提供更加專業(yè)化的服務(wù)！我們專業(yè)高效的商務(wù)與物流部門憑借多年積累的貿(mào)易經(jīng)驗與規(guī)范化的制度流程，保障每一筆訂貨準時安全到達目的地，免除客戶的后顧之憂！
秉承誠信、高效、創(chuàng)新、共贏的核心價值觀，昊量光電堅持以誠信為基石，憑借高效的運營機制和勇于創(chuàng)新的探索精神為我們的客戶與與合作伙伴不斷創(chuàng)造價值，實現(xiàn)各方共贏！
立足于光電產(chǎn)業(yè)，昊量光電始終堅持價值創(chuàng)造與創(chuàng)新，贏得客戶與合作伙伴的認可，不斷拓展業(yè)務(wù)領(lǐng)域的新邊疆，立志打造的代理服務(wù)品牌！
激光器調(diào)制器,激光測量加工設(shè)備,光學(xué)部件,光譜儀,光纖器件,晶體,精密定位系統(tǒng)掃描系統(tǒng),探測器光子計數(shù)器,專用實驗設(shè)備,相機
| 產(chǎn)地類別 | 國產(chǎn) | 應(yīng)用領(lǐng)域 | 化工,電子 |
|---|
DMD無掩膜光刻機無需制造掩膜，采用DMD數(shù)字掩膜,可在抗蝕劑內(nèi)曝光所希望的任意圖案。無掩膜光刻機可以讀取任何CAD數(shù)據(jù)，除此之外DMD式無掩膜光刻機還可以讀取Bitmap, PNG, DXF, GDSⅡ等其它格式。DMD式無掩膜光刻機使用365nmLED光源，降低價格的同時實現(xiàn)了穩(wěn)定的曝光。采用10倍物鏡，一次曝光面積可達1mm´0.6mm，曝光時間僅需1s。結(jié)合電動移動平臺，可實現(xiàn)曝光拼接，分辨率可達到3mm?？赏ㄟ^公司編寫的軟件完成詳細設(shè)定，使操作簡潔方便。
DMD無掩膜光刻機與傳統(tǒng)的光刻機不同，AU-PALET光刻機采用DMD數(shù)字掩膜光刻技術(shù)，無需制造掩膜。大大降低了時間和成本。無掩膜光刻機可以讀取任何創(chuàng)建的CAD文件，直接進行光刻。除了CAD文件，還可以讀取豐富的其它格式的數(shù)據(jù)，例如Bitmap, PNG, DXF, GDSⅡ等。
AU-PALET DMD式無掩膜光刻機采用短波段的LED燈為光源，相對于其它的光源，擁有更高的穩(wěn)定性和更長的壽命，降低價格的同時實現(xiàn)了穩(wěn)定的曝光。AU-PALET 無掩膜光刻機為面曝光，采用10倍的物鏡，一次曝光面積可達到1mm´0.6mm，結(jié)合電動平移臺可實現(xiàn)曝光拼接，可達到更大的曝光面積。可通過公司編寫的軟件完成簡單操作和詳細設(shè)定，操作簡潔方便。
設(shè)備有限公司推出的DMD式無掩膜光刻機有兩種。
① AU-PALET是一款快速光刻的無掩膜光刻機。本裝置采用375nm的LED光源，實現(xiàn)了穩(wěn)定的曝光，并且擁有更高的穩(wěn)定性和更長的壽命。采用10´的物鏡曝光面積達到1mm´0.6mm，光刻分辨率達到5mm，并在10s 內(nèi)完成曝光。
②
②AU-PALET_new 是AU-PALET的升級版本，在光源上采用波長更短的365nm的LED燈作為光源，采用10´的物鏡曝光面積達到1mm´0.6mm，光刻分辨率達到3mm，并在1s 內(nèi)完成曝光。
u 主要特點
-
高速度（1s）
-
廣范圍（1´0.6mm）
-
365nm LED光源
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高分辨率 （3mm）
-
成本低
u 主要應(yīng)用
磁性薄膜等的任意形狀的圖案的形成
傳感器，半導(dǎo)體器件的制作
MEMS器件的試制、
光電子，LED的試制
微流體器件的試制
掩膜版制作
細胞分離通道等的制作
光波導(dǎo)路的制作
主要參數(shù)
| 型號 參數(shù) | AU-PALET | AU-PALET_new |
| 光源 | 375nm LED | 365nm LED |
| 光刻分辨率（使用10倍物鏡） | 5 mm | 3 mm |
| 曝光面積（使用10倍物鏡） | 1mm´0.6mm | 1mm´0.6mm |
| 平臺 | 手動XYZq平臺 | 手動XYZq平臺 |
| 構(gòu)成 | 裝置本身，電腦， 軟件 | 裝置本身，電腦， 軟件 |
| 外形尺寸 | 420(W) x 300(D) x 600(H) | 300(W) x 450(D) x430(H) |
| 選項 | 2x鏡頭，電動平臺等 | 2x鏡頭，電動平臺等 |
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