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化工儀器網>產品展廳>實驗室常用設備>凈化/清洗/消毒>紫外臭氧清洗儀> 英國Ossila-UVO

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英國Ossila-UVO

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企業(yè)歷程 :

◆ 2006 年,在美國加州洛杉磯注冊成立賽福國際集團有限公司(CIF International Group Co.,Ltd)。成立之初是一 家面向大學科研院所銷售儀器設備的供應商。

◆ 2008 年, 自主研發(fā)生產石墨電熱板以來, 先后研發(fā)生產酸蒸逆流清洗器、酸純化器、智能消解儀等理化實驗儀器設備, 從此走上研發(fā)生產專業(yè)化道路。

◆ 2010 年,掌握了等離子核心技術,自主研發(fā)生產科研型等離子清洗機系列產品。

◆ 2014 年, 在中國注冊成立華儀行(北京) 科技有限公司, 正式進入中國市場, 部分儀器設備研發(fā)、制造業(yè)務移至中國。

◆ 2015 年,自主研發(fā)生產專為處理粉體樣品而設計轉瓶等離子清洗機。

◆ 2017 年,自主研發(fā)生產紫外臭氧清洗機系列產品。

◆ 2018 年,在中國成注冊立賽福儀器承德有限公司,將研發(fā)制造業(yè)務全部移至中國。

◆ 2019 年,電鏡專用遠程等離子清洗機研發(fā)成功。

◆ 2021 年,自主研發(fā)生產中試、生產型等離子清洗系列產品,完善了等離子產品線。

◆ 2023 年,科研型等離子去膠機、RIE 蝕刻機研發(fā)成功。


公司專注材料表面處理技術:

◆ 改性(等離子清洗機、紫外臭氧清洗機)                   ◆ 去膠(等離子去膠機)

◆ 蝕刻(等離子刻蝕機)                                              ◆ 涂層(等離子濺射鍍膜機、勻膠機、烤膠機)

企業(yè)愿景:

致力于為全球用戶提供專業(yè)的表面處理整體解決方案。

企業(yè)使命:

CIF與我們的員工、客戶乃至商業(yè)伙伴在內的所有人,同呼吸,共命運,共同成長,共同發(fā)展,共同成就夢想!


半導體領域儀器設備:等離子清洗機、紫外臭氧清洗機、勻膠機、烤膠機等。 理化實驗室儀器設備:酸蒸逆流清洗器、真空趕酸系統(tǒng)、酸純化器、智能消解儀、恒溫電熱板等

產地類別 進口 應用領域 醫(yī)療衛(wèi)生,環(huán)保,食品/農產品,化工,生物產業(yè)

英國Ossila公司提供的紫外臭氧清洗機(UVO),是一種簡單,經濟,快速的材料表面清洗設備,只需把樣品放置到樣品盤上,關上艙門,設置時間,并按運行,就可以了,能快速去除大多數無機基材(比如石英,硅片,金,鎳,鋁,砷化鎵,氧化鋁等)上的有機污染物。特別是當基材和薄膜蒸鍍需要很好的粘接時,紫外清洗非常理想。要獲得超潔凈的表面,只需要在傳統(tǒng)清洗后,再用紫外臭氧清洗幾分鐘就可獲得!
目前紫外臭氧清洗機的主要應用表面UV光清洗和表面UV光改質。
表面UV光清洗:利用紫外光以及由其產生的臭氧OZONE,對有機物質所起的光敏氧化分解作用,以達到去除粘附在物體表面上的有機化合物(碳氫化合物),獲得超潔凈的表面。
表面UV光改質:利用紫外光照射有機表面,在將有機物分解的同時,254nm波長的紫外光被物體表面吸收后,將表層的化學結構切斷,光子作用產生原子氧會與被切斷的表層分子結合,并將之變換成具有高度親水性的官能基(如-OH,-CHO,-COOH),從而提高表面的浸潤性。
主要應用:
石英/玻璃制品的表面清洗:液晶面板,等離子電視屏幕,彩色過濾片,光罩,棱鏡,透鏡,反射鏡,平板電視等。
微電子產品的表面清洗:微型馬達軸,磁頭驅動架,光盤,光電器件,手機攝像頭,微型喇叭/受話器震膜,半導體硅片,掩膜版。
精密集成電路的表面清洗:液晶顯示器ITO,精密電路板,軟性電路板接頭,BGA基板的清洗,COG的清洗,COF(ILB)接合面的清洗,薄膜基板的清洗,金屬基板的清洗,BGA基板與粘結墊的清洗。
在膠粘接或是印刷之前,對高分子聚合制品的表面改性:橡膠粘接,塑料汽車部件,透鏡保護膜,塑料薄膜,樹脂成型空氣袋,IC包裝,注射針接合部份的表面性,介入導管的表面改型等。
科研過程的表面清洗及處理:半導體,生物芯片,納米材料,聚合物,光化學等。

產品特點
成本低;
?120x120mm樣品臺;
?zui大處理樣品高14mm;
?抽屜式樣品臺,簡單方便;                                  
?樣品臺自動安全開關,打開UV自動關閉,防止對人身傷害;     UVO顯示器
?LCD屏顯示“已用時間”和“剩余時間”;
?60分鐘定時器;
?高強度UV燈源;
?可控溫的樣品臺;
?樣品清洗無需溶劑;
?超凈表面。

       

技術參數

在紫外線臭氧清洗前水滴在OTS-treated硅基質上(300納米二氧化硅表面)(左)紫外臭氧清洗10分鐘后(右)。



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