原理：

濺射功能依據(jù)二極(DC)直流濺射原理。濺射電流調(diào)整控制器、微型真空氣閥在工作時結(jié)合內(nèi)部自動控制電路控制真空室壓強、電離電流及任意選擇所需要的電離氣體。根據(jù)電場中氣體電離特性，采用大容量樣品濺射真空室和相應(yīng)面積濺射靶，使濺射鍍層均勻純凈。

熱蒸發(fā)功是能通過對碳纖維繩加熱使其蒸發(fā)氣化而沉積與基體或工件表面并形成薄膜或涂層的工藝。

參數(shù)：

2  儀器尺寸 ：主機    300mm×360mm×380mm（W×D×H）

              蒸鍍  300mm×360mm×160mm（W×D×H）

2  真空樣品室： 玻璃腔體 160mm×110mm（D×H）

2  靶（上部電極）：50mm×0.1mm（D×H）

2  濺射靶 ：二極直流濺射靶 （標配）磁控靶（選配）    

2  濺射靶材：Au

2  濺射靶材大?。害?/span>50mm

2  樣品臺：50mm (D)

2  濺射工作電壓：0-1600V (DC)可調(diào)

2  濺射電流：0-50 mA (磁控0-100mA)

2  濺射定時：0-999S

2  蒸碳電流    0-100A(AC)

2  蒸發(fā)材料：碳纖維

2  蒸發(fā)工作電壓：0-30V

2  蒸發(fā)時間：0-1S

2  微型真空氣閥：可連接φ3mm軟管

2  可通入氣體： 多種

2  真空泵：    2升機械旋轉(zhuǎn)泵（國產(chǎn)VRD-8）

2  速率：0--10nm/min（磁控0—60nm/min）

用途：

1、適用于電鏡實驗室的掃描電子顯微鏡（SEM）觀察前對樣品的噴金、噴鉑、噴碳等。

2、非導(dǎo)體材料實驗電極制作（噴金、噴鉑、噴銀等）

3、其他可以滿足條件的鍍膜實驗。

特點：

1、簡單、經(jīng)濟、可靠、外觀精美。

2、可調(diào)節(jié)濺射電流和真空室壓強以控制鍍膜的速率和顆粒的大?。w粒大小約4-20nm）。

3、SETPLASMA手動啟動按鈕可預(yù)先設(shè)置好壓強和濺射電流避免對膜造成不必要的損傷。

4、真空保護可避免真空過低造成設(shè)備短路。

5、同時可以通過更換不同的靶材（金、鉑、銥、銀、銅等），以達到更細顆粒的涂層。

6、通過通入不同的惰性氣體以達到更純凈的涂層。

7、獨立的濺射、蒸發(fā)上蓋和玻璃腔體防止交叉污染。

8、一體機更加經(jīng)濟實惠。

9、碳纖維繩更加細膩均勻、快速，更有利于分析材料結(jié)構(gòu)。

10、濺射蒸發(fā)功能轉(zhuǎn)換方便快捷。