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AGS TT-RIE Bench-Top Plasma Tool (薄膜沉積)

具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)
產(chǎn)品標(biāo)簽

播磨沉積系統(tǒng)等離子工具

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First-Nano System GmbH 

  • 2003年          創(chuàng)立于德國(guó)德累斯頓工業(yè)大學(xué)(Dresden University of Technology)

  • 2008年          香港成立德國(guó)韋氏納米系統(tǒng)(香港)有限公司   

  • 2015年          上海成立德國(guó)韋氏納米系統(tǒng)(香港)有限公司中國(guó)代表處,負(fù)責(zé)中國(guó)區(qū)業(yè)務(wù)

  • 2018年          深圳正式成立韋氏納米系統(tǒng)(深圳)有限公司,更好的為中國(guó)南方區(qū)市場(chǎng)

     

德國(guó)韋氏納米系統(tǒng)成立以來(lái),一直為客戶想的更多,Thinking more ?。?!

 

產(chǎn)品范圍:

薄膜沉積/Thin Film Deposition 
E-Beam and Thermal Evaporation, PECVD, PLD, DLC, DC & RF Sputtering, Ion Beam Sputtering
刻蝕/Etching
RIE, DRIE, ICP, Ion Beam Milling, RIBE, Plasma, ALE
薄膜制程/Growth
ALD, PA-MOCVD, CNT, Graphene
表面處理/Surface Treatment
Ion Beam, PIII, Plasma Cleaner, RTP
清洗/Cleaning
- Dry: Ion Beam, Plasma Cleaner
- Wet: Megasonic, 杜邦EKC清洗液
其他/Other,
Device Testing System for Space Simulation, Heated Platens, Plasma Sources, Resist Stripping Systems

等離子清洗機(jī),均膠機(jī),薄膜沉積,刻蝕

AGS Plasma Systems, Inc.

Now Celebrating Our 25th year!

 

    美國(guó)AGS公司成立于1991年,在等離子系統(tǒng)領(lǐng)域已有25年的歷程,是一家歷史悠久的等離子系統(tǒng)供應(yīng)商,提供的真空等離子系統(tǒng)主要應(yīng)用于圖案轉(zhuǎn)換中薄膜沉積,刻蝕,如微電子,MEMS,光伏,光電,納米科技等行業(yè)領(lǐng)域。

 

 

2012年Semicon West ,AGS公司推出一個(gè)新型的,桌面式 TT-150—RIE/CVD 系統(tǒng),非常經(jīng)濟(jì)實(shí)用,對(duì)世界各地大學(xué),研究所來(lái)說(shuō)這樣如此特色的RIE和CVD應(yīng)用是非常*的。
  • 模塊化的TT-150適合半導(dǎo)體MEMS,TFT,PV的2寸---6寸應(yīng)用。

  • AGS TT 等離子系統(tǒng)在一個(gè)平臺(tái)上提供了所有的功能特征

  • RIE,PECVD,和等離子刻蝕PE都能在一個(gè)易操作,低維護(hù),實(shí)用簡(jiǎn)單的平臺(tái)上實(shí)現(xiàn),同時(shí)可以根據(jù)您的工藝要求升級(jí)您的需求

  • 當(dāng)您需要更換工藝技術(shù)是,腔體的部件,材料,進(jìn)氣裝置提供更多的工藝擴(kuò)展

  • AGS依靠公司豐富的經(jīng)驗(yàn)為新工藝開(kāi)發(fā)提供低成本的*的技術(shù)資源便于提前研發(fā)*的領(lǐng)域技術(shù)

  • 桌面式,占地面積小,節(jié)省實(shí)驗(yàn)室空間

  • 工藝控制簡(jiǎn)單,易于使用者操作

  • 兼容等離子刻蝕PE和PECVD,成本低?

      

?

 

 

 

 

 

 



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