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FEI “Q系列”掃描電子顯微鏡

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廣州貝拓科學(xué)技術(shù)有限公司成立于2010年8月,是國(guó)家高業(yè),廣州科技小巨人企業(yè),并在廣東股權(quán)交易中心成功掛牌(股權(quán)代碼:892081),通過ISO9001-2015質(zhì)量體系認(rèn)證和知識(shí)產(chǎn)權(quán)貫標(biāo)認(rèn)定體系,擁有近20項(xiàng)國(guó)家磚利。貝拓科學(xué)一直從事光譜分析儀器領(lǐng)域,自主研發(fā)儀器有光學(xué)接觸角測(cè)量?jī)x,顯微拉曼光譜儀,表界面張力儀,白光干涉膜厚分析儀,陣列式紫外可見分光光度計(jì),積分球式透反射率測(cè)試儀等。具備光學(xué)設(shè)計(jì)、機(jī)械設(shè)計(jì)、軟件編寫和算法編寫核心能力,和中山大學(xué)、廣州大學(xué)、華南師范大學(xué)有緊密的合作關(guān)系,并且是廣州大學(xué)物理與光電學(xué)院的長(zhǎng)期實(shí)習(xí)基地。貝拓科學(xué)所研發(fā)生產(chǎn)的產(chǎn)品定位在國(guó)內(nèi)高水平,未來面向市場(chǎng)。

前臺(tái).jpg

貝拓科學(xué)陪伴著科學(xué)家一起探索未知事件,“Touch the future”作為我們的口號(hào),貝拓科學(xué)尊重以嚴(yán)謹(jǐn)?shù)目茖W(xué)理論為指導(dǎo),為科學(xué)家提供有力的科研工具。我們默默堅(jiān)持做前沿分析儀器的搬運(yùn)工,陪伴科學(xué)家不斷成長(zhǎng)。我們很榮幸作為一些有儀器生產(chǎn)廠家,例如:日本Hitachi,德國(guó)WITec,德國(guó)Bruker,英國(guó)OXFORD,美國(guó)ThermoFisher,Ametek旗下輸力強(qiáng)和普林斯頓,以及中國(guó)臺(tái)灣OtO等大電子儀器廠家的代理,一起為中國(guó)的科學(xué)家提供專業(yè)的服務(wù)。


我們的宗旨是為科學(xué)學(xué)提供更專業(yè),更貼心的服務(wù)。

我們的優(yōu)勢(shì)和專注點(diǎn)集中于材料測(cè)試方面,為了普惠科研工作者,我們還提供測(cè)試服務(wù),其中包括材料的結(jié)構(gòu)、元素分布、表面特征、物理化學(xué)特性以及光學(xué)、電學(xué)特性的分析。

材料分析領(lǐng)域代理品牌:

OXFORD(牛津)、FEI(賽默飛)、KeySight(前安捷倫納米部)、STOE、AMETEK(阿美特克)、TESCAN(泰思肯)、LEICA、KRUSS、BEL、HITACHI(日立)、OTO(中國(guó)臺(tái)灣超微光學(xué))、WITec(威泰克)、BRUKER(布魯克)、普析、徠卡、本原納米等。




接觸角測(cè)量?jī)x、在線測(cè)厚儀、光學(xué)膜厚儀、紅外光譜儀、拉曼成像光譜儀、拉曼電鏡、低溫恒溫器、掃描探針顯微鏡/原子力、納米壓痕劃痕儀、橢偏儀、熱分析、差示掃描熱儀

FEI “Q系列”掃描電子顯微鏡

對(duì)于失效分析、質(zhì)量控制和材料表征而言、Q25是最經(jīng)濟(jì)、高效的高分辨成像和分析應(yīng)用的解決方案。在設(shè)計(jì)上側(cè)重易用性、Q25可以讓用戶迅速得到他們所需的數(shù)據(jù)。 

為應(yīng)對(duì)不導(dǎo)電樣品、Q25提供了低真空模式下的高性能、消除了對(duì)的樣品制備步驟或者附加的樣品鍍膜儀的需求。Q25樣品室的設(shè)計(jì)和真空系統(tǒng)能夠快速更換樣品、允許日常高效、快速檢測(cè)樣品。 

為滿足客戶對(duì)大樣品或塊狀樣品的要求、Q45提供了更大的真空樣品室和100mm的樣品臺(tái)行程。另外、Q45加上了環(huán)境掃描(ESEM)模式、擴(kuò)展了SEM的成像和分析功能到加熱、含水或放氣的樣品。

 簡(jiǎn)單易用,即使是新手利用直觀的軟件可實(shí)現(xiàn)高效操作。 
 利用穩(wěn)定的高束流(上至2 μA)電子束可以迅速獲得精確的分析結(jié)果。 
快速輕松表征導(dǎo)電和非導(dǎo)電樣品 
 支持可選的分析功能。利用獨(dú)有的多級(jí)穿過透鏡的真空系統(tǒng)在高真空和低真空下使導(dǎo)電樣品和不導(dǎo)電樣品的精確EDS分析成為可能。 
Q45 SEM: 采用為ESEM選配的帕爾貼冷臺(tái)可在樣品的自然含水狀態(tài)下完成樣品的動(dòng)態(tài)原位分析。

FEI “Q系列”掃描電子顯微鏡

 分辨率加速
電壓
探針電流 樣品臺(tái)放大率試件室尺寸
Q25 SEM

High vacuum 

  • 3.0 nm at 30 kV (SE)

  • 4.0 nm at 30 kV (BSE)*

  • 8.0 nm at 3 kV (SE)

Low vacuum

  • 3.0 nm at 30 kV (SE)

  • 4.0 nm at 30k V (BSE)*

  • 10 nm at 3 kV (SE)

*optional

200 V - 30 kVup to 2 μA, continuously adjusted13 to 1000000x284 mm size left to right
Q45 SEM

High vacuum 

  • 3.0 nm at 30 kV (SE)

  • 4.0 nm at 30 kV (BSE)*

  • 8.0 nm at 3 kV (SE)

High vacuum with beam deceleration option 7.0 nm at 3 kV(BD mode* + vCD*) 

Low vacuum

  • 3.0 nm at 30 kV (SE)

  • 4.0 nm at 30k V (BSE)*

  • 10 nm at 3 kV (SE)

Extended vacuum mode (ESEM)
3.0 nm at 30 kV (SE) 

*optional

200 V - 30 kVup to 2 μA, continuously adjusted6 to 1000000x284 mm size left to right
 


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