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化工儀器網(wǎng)>產(chǎn)品展廳>光學(xué)儀器及設(shè)備>電子顯微鏡>掃描透射電子顯微鏡> CHI900D/920D掃描電化學(xué)顯微鏡

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CHI900D/920D掃描電化學(xué)顯微鏡

具體成交價以合同協(xié)議為準
  • 公司名稱 上海辰華儀器有限公司
  • 品牌 其他品牌
  • 型號
  • 產(chǎn)地
  • 廠商性質(zhì) 經(jīng)銷商
  • 更新時間 2019/4/17 9:10:12
  • 訪問次數(shù) 1319
產(chǎn)品標簽

掃描電子顯微鏡

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上海辰華儀器有限公司成立于1998年,與美國CH Instruments公司合作,以專業(yè)生產(chǎn)電化學(xué)分析儀/工作站產(chǎn)品為主,引進美國CHI公司的*技術(shù),在國內(nèi)進行組裝生產(chǎn)及銷售。主要服務(wù)于國內(nèi)客戶。

 

電化學(xué)儀器部件、外設(shè),電化學(xué)工作站、恒電位儀,石英晶體微天平

CH Instruments與University of Taxes at Austin的化學(xué)系的Allen J. Bard教授合作實現(xiàn)了電化學(xué)掃描顯微鏡的儀器商品化,從而使得這一強有力的研究方法走進了更多的實驗室。

         掃描電化學(xué)顯微鏡與掃描隧道顯微鏡(STM)的工作原理類似。但SECM測量的不是隧道電流,而是由化學(xué)物質(zhì)氧化或還原給出的電化學(xué)電流。盡管SECM的分辨率較STM低,但SECM的樣品可以是導(dǎo)體,絕緣體或半導(dǎo)體,而STM只限于導(dǎo)體表面的測量。SECM除了能給出樣品表面的地形地貌外,還能提供豐富的化學(xué)信息。其可觀察表面的范圍也大得多。

         在SECM的實驗中,探頭先移動到非常靠近樣品表面,然后在X-Y的平面上掃描。探頭是雙恒電位儀的*個工作電極。如果樣品也是導(dǎo)體,則通常作為第二個工作電極。探頭的電位控制在由傳質(zhì)過程控制的氧化或還原的電位。而樣品的電位被控制在其逆反應(yīng)的電位。由于探頭很靠近樣品,探頭上的反應(yīng)產(chǎn)物擴散到樣品表面又被反應(yīng)成為原始反應(yīng)物并回到探頭表面再作用,從而造成電流的增加。這被稱為"正反饋"方式。正反饋的程度取決于探頭和樣品間的距離。如果樣品是絕緣體,當(dāng)探頭靠近樣品時,反應(yīng)物到電極表面的擴散流量受到樣品的阻礙而造成電流的減少。這被稱為"負反饋"方式。負反饋的程度亦取決于探頭和樣品間的距離。探頭電流和探頭與導(dǎo)體或絕緣體樣品間的距離的關(guān)系可通過現(xiàn)有理論計算得到。

         基于以上特性,SECM已在多個領(lǐng)域發(fā)現(xiàn)了許多應(yīng)用。SECM能被用于觀察樣品表面的化學(xué)或生物活性分布,亞單分子層吸附的均勻性,測量快速異相電荷傳遞的速度,一級或二級隨后反應(yīng)的速度,酶-中間體催化反應(yīng)的動力學(xué),膜中離子擴散,溶液/膜界面以及液/液界面的動力學(xué)過程。SECM還被用于單分子的檢測,酶和脫氧核糖核酸的成像,光合作用的研究,腐蝕研究,化學(xué)修飾電極膜厚的測量,納米級刻蝕,沉積和加工,等等。SECM的許多應(yīng)用或是其他方法無法取代的,或是用其他方法很難實現(xiàn)的。

         CHI900D/920D掃描電化學(xué)顯微鏡是CHI900C/920C的改進型。儀器由雙恒電位儀/恒電流儀,高分辨的三維定位裝置,和樣品/電解池架子組成。三維定位裝置采用步進電機(CHI900D)或者步進電機與壓電晶體的組合(CHI920D),可允許50毫米的運行距離并達到納米的空間分辨。與CHI900B/910B采用的步進電機相比,新的步進電機的線性度和分辨率都明顯改善。步進電機移動平臺的分辨率可達4納米。這使得大部分SECM的應(yīng)用可以僅用步進電機定位器(CHI900D)來實現(xiàn)。從而進一步降低了儀器的價格。在需要不斷調(diào)整定位器而達到電流控制或其它控制的情況下,可采用步進電機與壓電晶體閉環(huán)控制定位器的組合(CHI920D)。CHI920D的壓電晶體閉環(huán)控制定位器為XYZ三維空間。

         CHI900D/920D掃描電化學(xué)顯微鏡集成了數(shù)字信號發(fā)生器和高分辨數(shù)據(jù)采集系統(tǒng)。電位范圍為±10V,電流范圍為±250mA。儀器的噪聲極低,其電流測量可低于1pA。兩個工作電極的電位可單獨控制,也允許同步掃描或階躍。與CHI900B相比,CHI900D在保持低噪聲的條件下,速度大為提高。信號發(fā)生器的更新速率為10MHz,數(shù)據(jù)采集采用兩個同步16位高分辨低噪聲的模數(shù)轉(zhuǎn)換器,雙通道同時采樣的高速率為1MHz。循環(huán)伏安法的掃描速度為1000V/s時,電位增量僅0.1mV,當(dāng)掃描速度為5000V/s時,電位增量為1mV。儀器增加了交流測量方法,如交流阻抗的測量頻率可達1MHz,交流伏安法的頻率可達10KHz。CHI900D仍具備恒電流儀,正反饋iR降補償,用于旋轉(zhuǎn)電極轉(zhuǎn)速控制的模擬電壓輸出信號(0-10V),外部信號輸入通道,以及一個16位高分辨高穩(wěn)定的電流偏置電路。

         除了SECM成像以外,儀器還提供探頭掃描曲線,探頭逼近曲線和表面成像處理。探頭可沿X,Y,或Z的方向掃描,探頭和第二工作電極的電位可獨立控制并分別測量兩個通道的電流。當(dāng)電流達到某一設(shè)定值時,探頭會停止掃描。探頭逼近表面時采用PID控制,可自動調(diào)節(jié)移動步長使得快速逼近但又避免探頭碰撞樣品表面。儀器的控制軟件是多用戶界面的視窗程序,十分友好易用。儀器的其他特點還包括靈活的實驗控制,數(shù)據(jù)分析,并集成了三維圖形。除了電流檢測方式,探頭的電位也能被檢測,從而允許用電位法做SECM。儀器還允許多種常規(guī)電化學(xué)測量方法。



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