化工儀器網(wǎng)>產(chǎn)品展廳>半導(dǎo)體行業(yè)專用儀器>薄膜生長(zhǎng)設(shè)備>化學(xué)氣相沉積設(shè)備>ICP-500D ICP等離子沉積系統(tǒng)-SI 500D
ICP-500D ICP等離子沉積系統(tǒng)-SI 500D
- 公司名稱 北京亞科晨旭科技有限公司
- 品牌 其他品牌
- 型號(hào) ICP-500D
- 產(chǎn)地 德
- 廠商性質(zhì) 生產(chǎn)廠家
- 更新時(shí)間 2024/9/25 12:16:56
- 訪問次數(shù) 914
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應(yīng)用領(lǐng)域 | 電子 |
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SENTECH ICP等離子沉積系統(tǒng)-SI 500D
是主流的半導(dǎo)體設(shè)備商,研發(fā)、制造和銷售良好的薄膜測(cè)量?jī)x器(反射儀、橢偏儀、光譜橢偏儀)和等離子工藝設(shè)備(等離子刻蝕機(jī)、等離子沉積系統(tǒng)、用戶定制系統(tǒng))。
SI 500D等離子沉積系統(tǒng)是ICP-PECVD設(shè)備,利用ICP高密度等離子源來(lái)沉積電介質(zhì)薄膜??稍跇O低溫度下(< 100oC)沉積高質(zhì)量SiO2, Si3N4, 和SiOxNy薄膜??梢詫?shí)現(xiàn)沉積薄膜厚度、折射率、應(yīng)力的連續(xù)調(diào)節(jié)。
SI 500 D主要特點(diǎn):
適用于8寸以及以下晶片
低溫沉積高質(zhì)量電介質(zhì)膜:80°C~350°C
高速率沉積
低損傷
薄膜特性 (厚度、折射率、應(yīng)力) 連續(xù)可調(diào)
平板三螺旋天線式PTSA等離子源 (Planar Triple Spiral Antenna)
SENTECH高級(jí)等離子設(shè)備操作軟件
穿墻式安裝方式