磁控離子濺射儀為掃描電鏡用戶在制樣過程中提供了更廣泛的選擇，以便適用支持掃描電子顯微鏡所需的涂層要求。

在電子顯微鏡領域內，往往需要對樣品進行表面鍍膜從而使樣品表面成像或者圖像質量得到改善。在樣品表面覆蓋一層導電的金屬薄膜可以消除荷電反應，降低電子束對樣品表面的熱量損傷，可以提高SEM對樣品進行形貌觀察,所需要的二次電子信號量。噴金后可以提供二次電子產額,提升信號強度和圖像質量。

　 濺射電流12mA,濺射時間10s 濺射電流10mA,濺射時間20s 　 濺射電流12mA,濺射時間30s 　 濺射電流10mA,濺射時間60s

離子濺射儀系統(tǒng)特點：

○ 儀器采用微處理器控制，自動化程度高精確控制、易于操作；

○ 低電壓、較好真空度下的實現大電流濺射，可濺射金、銀、銅、鉑等常用金屬靶材；

○ 金膜顆粒絕大多數＜10nm，顆粒更細，均勻度更好，附著力更強，觀測效果更佳；

○ 靶材利用率更高，磁控濺射靶材利用率為直流濺射的2倍,為用戶節(jié)約靶材費用.

○ 電子和負離子被磁場束縛在靶材附近，鍍膜過程中基本沒有溫升，適用溫度敏感性樣品；

○ 采用微處理器控制，擴展性能好，可實時顯示真空度、濺射電流、濺射時間、設備運行時間、靶材使用時間等，方便了解設備情況，具備過流、真空保護功能，安全可靠；

○ 內置用戶使用向導和說明書，方便用戶 操作；內置膜厚估算公式，便于用戶了 解離子濺射儀工作狀態(tài)；