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SF-3 分光干渉式晶圓膜厚儀

具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)
  • 公司名稱 大塚電子(蘇州)有限公司
  • 品牌 OTSUKA/日本大塚
  • 型號(hào) SF-3
  • 產(chǎn)地
  • 廠商性質(zhì) 生產(chǎn)廠家
  • 更新時(shí)間 2020/6/12 16:11:24
  • 訪問次數(shù) 1388

聯(lián)系我們時(shí)請(qǐng)說明是化工儀器網(wǎng)上看到的信息,謝謝!


大塚電子(蘇州)有限公司成立于20074月,致力于讓中國客戶能安心使用已有50年歷史的日本大塚電子所研發(fā)與生產(chǎn)的測(cè)量與分析設(shè)備。

我們的產(chǎn)品涵蓋LED、OLED等光源和照明行業(yè),產(chǎn)品包括有液晶和有機(jī)EL顯示行業(yè)的光學(xué)特性評(píng)估與檢測(cè)設(shè)備;用于測(cè)量半導(dǎo)體晶圓和薄膜化學(xué)品厚度的設(shè)備;以及評(píng)估墨水、研磨劑、醫(yī)藥和化妝品材料的納米顆粒(粒徑和ζ電位測(cè)量)設(shè)備,這些設(shè)備均應(yīng)用了我們的“光”技術(shù)。

在日本,我們的產(chǎn)品擁有眾多交付實(shí)績。為提供全面的售前和售后支持,我們?cè)O(shè)立了技術(shù)和維護(hù)中心,努力提供快速、令客戶滿意并能使客戶感受到關(guān)懷和價(jià)值的服務(wù)。

我們致力于不斷提升產(chǎn)品價(jià)值和支持服務(wù),做到讓客戶能主動(dòng)向他人推薦大塚電子的產(chǎn)品。

我們是大塚集團(tuán)的一員,繼承了集團(tuán)的企業(yè)理念「Otsuka-people creating new products for better health worldwide

以及大塚集團(tuán)歷代的3個(gè)思想,即「流汗悟道」「實(shí)證」「創(chuàng)造性」,并以此行動(dòng)。我們推出創(chuàng)新產(chǎn)品,開展業(yè)務(wù),為社會(huì)做出貢獻(xiàn)。

對(duì)于那些挑戰(zhàn)可能性邊界的人來說,天空是無限的。超越它,就會(huì)有一個(gè)全新的前沿世界。

利用大塚電子的技術(shù)“光”的力量,為業(yè)界提供解決方案是我們的使命。

Otsuka-people creating new products for better health worldwide

傳承大塚的“實(shí)證與創(chuàng)造”精神,時(shí)刻為了實(shí)踐“因?yàn)槭谴髩V所以能做到”、"只有大塚才能做到"的口號(hào)而努力奮斗。

大塚電子,通過革新的且富有創(chuàng)造性的產(chǎn)品(設(shè)備)服務(wù),在「健康和生活」的領(lǐng)域,不斷地為人民的生活做著貢獻(xiàn)。



zeta電位?粒徑?分子量測(cè)量系統(tǒng),晶圓在線測(cè)厚系統(tǒng),線掃描膜厚儀,顯微分光膜厚儀,線掃描膜厚儀,分光干涉式晶圓膜厚儀,相位差膜?光學(xué)材料檢測(cè)設(shè)備,非接觸光學(xué)膜厚儀,小角激光散射儀,多檢體納米粒徑量測(cè)系統(tǒng),量子效率測(cè)量系統(tǒng)

產(chǎn)地類別 進(jìn)口 價(jià)格區(qū)間 面議
應(yīng)用領(lǐng)域 醫(yī)療衛(wèi)生,化工,電子/電池,包裝/造紙/印刷,電氣

分光干渉式晶圓膜厚儀

 item_0010SF-3_bg.jpg

分光干渉式晶圓膜厚儀即時(shí)檢測(cè)
WAFER基板于研磨制程中的膜厚
玻璃基板于減薄制程中的厚度變化
(強(qiáng)酸環(huán)境中)

 

產(chǎn)品特色

  • 非接觸式、非破壞性光學(xué)式膜厚檢測(cè)
  • 采用分光干涉法實(shí)現(xiàn)高度檢測(cè)再現(xiàn)性
  • 可進(jìn)行高速的即時(shí)研磨檢測(cè)
  • 可穿越保護(hù)膜、觀景窗等中間層的檢測(cè)
  • 可對(duì)應(yīng)長工作距離、且容易安裝于產(chǎn)線或者設(shè)備中
  • 體積小、省空間、設(shè)備安裝簡(jiǎn)易
  • 可對(duì)應(yīng)線上檢測(cè)的外部信號(hào)觸發(fā)需求
  • 采用適合于膜厚檢測(cè)的獨(dú)自解析演算法。
  • 可自動(dòng)進(jìn)行膜厚分布制圖(選配項(xiàng)目)

規(guī)格式樣

 

SF-3

膜厚測(cè)量范圍

0.1 μm ~ 1600 μm※1

膜厚精度

±0.1% 以下

重復(fù)精度

0.001% 以下

測(cè)量時(shí)間

10msec 以下

測(cè)量光源

半導(dǎo)體光源

測(cè)量口徑

Φ27μm※2

WD

3 mm ~ 200 mm

測(cè)量時(shí)間

10msec 以下

※1 隨光譜儀種類不同,厚度測(cè)量范圍不同
※2 小Φ6μm

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