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薄膜/涂層殘余應(yīng)力儀

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      巨力光電(北京)有限公司立足于北京市副中心通州區(qū),專門引進(jìn)歐洲、美國、日本等國家制造的先進(jìn)科學(xué)儀器設(shè)備,為客戶提供完備的售前咨詢和售后服務(wù)、技術(shù)支持。公司骨干在該行業(yè)有超過10年的經(jīng)驗(yàn),專業(yè)的服務(wù)水平、完整的售后服務(wù)體系。

 目前主要產(chǎn)品涉及材料科學(xué)、微納米技術(shù)、表面測量和光電器件、光伏產(chǎn)品、半導(dǎo)體器件的檢測與研發(fā)等領(lǐng)域。

 公司本著以科技為導(dǎo)向、以客戶為中心、以服務(wù)為宗旨,竭誠為新老客戶提供貼心的服務(wù)!


AAA 太陽光模擬器,IV測試,雙燈太陽光模擬器,太陽能電池載流子遷移率測試系統(tǒng),太陽能電池瞬態(tài)光電壓 光電流測試,鈣鈦礦太陽能電池&疊層太陽能電池仿真軟件,多通道太陽能電池穩(wěn)定性測試系統(tǒng),OLED光譜測量系統(tǒng)/角譜儀分析儀,OLED仿真軟件,高分子壓電系數(shù)測試儀,薄膜應(yīng)力測試系統(tǒng),薄膜應(yīng)力測試儀,薄膜熱應(yīng)力測試儀,桌面原子層沉積系統(tǒng),鈣鈦礦LED壽命測試儀,太陽能電池量子效率QE測量系統(tǒng),石墨烯/碳納米管制備技術(shù),桌面型納米壓印機(jī),太陽能電池光譜響應(yīng)測試儀,SPD噴霧熱解成膜系統(tǒng),電滯回線及高壓介電擊穿強(qiáng)度測試系統(tǒng),電容充放電測試儀,薄膜生長速率測試儀

應(yīng)用領(lǐng)域 醫(yī)療衛(wèi)生,環(huán)保,生物產(chǎn)業(yè),農(nóng)林牧漁,能源

薄膜/涂層殘余應(yīng)力儀同樣采用多光束MOS技術(shù),可裝在各種真空沉積設(shè)備上(如:MBE, MOCVD, sputtering, PLD, PECVD, and annealing chambers ects),對(duì)于薄膜生長過程中的應(yīng)力變化進(jìn)行實(shí)時(shí)原位測量和二維成像分析;


 *薄膜熱應(yīng)力測量系統(tǒng)(kSA MOS Thermal-Scan Film Stress Tester)


薄膜/涂層殘余應(yīng)力儀

技術(shù)參數(shù):
kSA MOS Film Stress Tester, kSA MOS Film Stress Measurement System,kSA MOS Film Stress Mapping System;
1.XY雙向程序控制掃描平臺(tái)掃描范圍:300mm (XY)(可選);
2.XY雙向掃描速度:up to 
20mm/s;

3.XY雙向掃描平臺(tái)掃描小步進(jìn)/分辨率:2 μm ;
4.樣品holder兼容:50mm, 75mm, 100mm, 150mm, 200mm, and 300mm直徑樣品;
5.程序化控制掃描模式:選定區(qū)域、多點(diǎn)線性掃描、全樣品掃描;
6.成像功能:樣品表面2D曲率、應(yīng)力成像,及3D成像分析;
7.測量功能:曲率、曲率半徑、應(yīng)力強(qiáng)度、應(yīng)力、Bow和翹曲等;


主要特點(diǎn):
1.程序化控制掃描模式:單點(diǎn)掃描、選定區(qū)域、多點(diǎn)線性掃描、全樣品掃描;
2.成像功能:樣品表面2D曲率成像,定量薄膜應(yīng)力2D成像分析;
3.測量功能:薄膜應(yīng)力、翹曲、曲率半徑等;
4.支持變溫?zé)釕?yīng)力測量功能,溫度范圍-65C to 1000C;
5.薄膜殘余應(yīng)力測量;


涂層應(yīng)力測量系統(tǒng)(kSA MOS Coating Stress tester)采用非接觸MOS激光技術(shù);不但可以對(duì)樣品表面應(yīng)力分布進(jìn)行統(tǒng)計(jì)分析,而且還可以進(jìn)行樣品表面二維應(yīng)力、曲率成像分析;并且這種設(shè)計(jì)始終保證所有陣列的激光光點(diǎn)始終在同一頻率運(yùn)動(dòng)或掃描,從而有效的避免了外界振動(dòng)對(duì)測試結(jié)果的影響;同時(shí)提高了測試的分辨率;適合各種材質(zhì)和厚度薄膜應(yīng)力分析;


典型用戶:Harvard University 2套,Stanford University,Johns Hopkins University,Brown University 2套,Karlsruhe Research Center,Max Planck Institute,西安交通大學(xué),中國計(jì)量科學(xué)研究院等、半導(dǎo)體和微電子制造商(如IBM.,Seagate Research Center,Phillips Semiconductor,NEC,Nissan ARC,Nichia Glass Corporation)等;




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