NX-B100/B200整片基板納米壓印系統(tǒng)經(jīng)過了大量的實(shí)時(shí)實(shí)地驗(yàn)證，質(zhì)量可靠，性能*穩(wěn)定。具備全部壓印模式：熱固化、紫外固化和壓印?；?保護(hù)的Nanonex氣墊軟壓技術(shù)（ACP），不論模版或基板背面粗糙程 度如何，或是模版或基板表面波浪和弧形結(jié)構(gòu)，NX-B100/B200均可對(duì)其校 正補(bǔ)償從而獲得的壓印均勻性， ACP消除了基板與模版之間側(cè)向偏移，有效地延長了模版使用壽命。通過微小熱容設(shè)計(jì)可獲得快速的熱壓印周 期，終得到快速的工藝循環(huán)，適用于小于4英寸的晶圓片。

所有形式的
? 熱塑化
? 紫外固化 (NX-B200)
? 熱壓與紫外壓印同時(shí)進(jìn)行(NX-B200)
? 熱固化
氣墊軟壓技術(shù)(ACP)
? Nanonex技術(shù)
? 完美的整片基板均勻性
? 高通量
低于10nm分辨率
快速工藝循環(huán)時(shí)間（小于60秒） 靈活性
? 大75毫米直徑壓印面積 ? 各種尺寸及不規(guī)則形狀模
板與基板均可壓印
方便用戶操作
基于超過12年、15代產(chǎn)品開發(fā) 經(jīng)驗(yàn)的自動(dòng)化壓印操作
Nanonex壓印系統(tǒng)經(jīng)過大量實(shí) 時(shí)實(shí)地驗(yàn)證，質(zhì)量可靠，性 能*穩(wěn)定
全自動(dòng)納米壓印

技術(shù)參數(shù)

熱塑壓印模塊（NX-B100/B200）
● 溫度范圍0～250℃
● 加熱速度>200℃/分鐘
● 制冷速度>60℃/分鐘
● 壓力范圍0 ～ 3.45 MPa（500 psi）
紫外固化模塊（NX-B200）
● 58mW/cm2紫外LED光源
● 365納米或395納米波長可選
● 全自動(dòng)化控制

模版裝載功能
● 大3″模板可用于標(biāo)配系統(tǒng)
基板裝載
● 標(biāo)配系統(tǒng)可裝載3″基板
● 各種尺寸及不規(guī)則形狀模板與基板均可壓印
● *保護(hù)ACP技術(shù)可大限度保護(hù)模板和基板，特別對(duì) 于象磷化銦（InP）等極易碎模板和基板給予大限度。