等離子體化學氣相沉積設備

產品特點：

等離子源采用頻率為13.56MHz射頻發(fā)生器，同時具備物理清洗和化學清洗能力。

電源功率為200W，覆蓋常規(guī)處理需求

創(chuàng)新設計，可調整電極之間距離，調整等離子體濃度和強度，大提升處理效率和能力

真空腔體和管道連接件均采用316不銹鋼，電極6061航空鋁合金，配件材質精良，保證設備穩(wěn)定高效運行

樣品處理面積可達125mm（大處理面積可達200mm，如有需求請咨詢銷售人員）

4.3寸工業(yè)級觸摸屏，操作簡單，可設置多種實驗參數

性能穩(wěn)定可靠，質量穩(wěn)定，自主研發(fā)，售后有保障

等離子體化學氣相沉積設備

產品參數:

1. 真空腔規(guī)格: 316不銹鋼腔體,直徑210mm*(深)230mm 約4L

2. 電極：兩個自適應平板電極，材質T6061鋁合金

3. 電極尺寸：120*135mm 間距20~75mm 可調

4. 等離子體發(fā)生器：RF射頻發(fā)生器，頻率：13.56MHz

5. 功率：0-200W連續(xù)可調，精度1W

6. 氣體控制：針式氣體流量閥，標配1路氣體

7. 控制方式：4.3寸工業(yè)控制觸摸屏

控制軟件功能：界面顯示實時工作狀態(tài)，

可顯示設置值與實際值，便于實時控制。

可自由設置等離子功率，通入氣體時間

全手動控制和全自動控制可選

8. 保護裝置：一鍵急停保護按鈕