光學(xué)真空鍍膜機(jī)
- 公司名稱 武漢賽斯特精密儀器有限公司
- 品牌 其他品牌
- 型號
- 產(chǎn)地
- 廠商性質(zhì) 生產(chǎn)廠家
- 更新時(shí)間 2021/6/22 15:37:07
- 訪問次數(shù) 1203
聯(lián)系方式：左斌斌15015569504 查看聯(lián)系方式
聯(lián)系我們時(shí)請說明是化工儀器網(wǎng)上看到的信息，謝謝!
實(shí)驗(yàn)室檢測儀器，測試儀器設(shè)備等
| 產(chǎn)地類別 | 國產(chǎn) | 價(jià)格區(qū)間 | 面議 |
|---|---|---|---|
| 應(yīng)用領(lǐng)域 | 醫(yī)療衛(wèi)生,化工,電子 |
光學(xué)真空鍍膜機(jī)
是一種用于物理學(xué)、化學(xué)、材料科學(xué)領(lǐng)域的工藝試驗(yàn)儀器是一種用于物理學(xué)、化學(xué)、材料科學(xué)領(lǐng)域的工藝試驗(yàn)儀器
技術(shù)指標(biāo)
1．極限真空：7×10-6Pa2．磁控靶：Φ英寸×5只（永磁）3．靶—基距：20—100mm4．基片架：直接水冷，可轉(zhuǎn)動5．樣品：2.6×76mm或F60mm×8（最大）6．氣路：0～10sccm，0～10sccm，0～100sccm質(zhì)量流量計(jì)、共4路進(jìn)氣7．電源：RF13.65MHZ600W×2（進(jìn)口）DC1000W×1（進(jìn)口）RF500W×2（國產(chǎn)）8．機(jī)械手：2只。
主要功能
可制備各種金屬、非金屬薄膜的復(fù)合多層薄膜，特別是磁性薄膜；可進(jìn)行多元共濺射，并可同時(shí)導(dǎo)入二種反應(yīng)氣體進(jìn)行反應(yīng)濺射；可對基片加熱濺射和反濺射清洗。
特點(diǎn)：
1、支持向上或向下的鍍膜方式；
2、*的濺射靶材結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)，實(shí)現(xiàn)膜厚分部的穩(wěn)定可靠；
3、高速旋轉(zhuǎn)的傘具與實(shí)際鍍膜工件的監(jiān)控位置，實(shí)現(xiàn)了所見即所得；
4、多通道透射式監(jiān)控，配合可調(diào)節(jié)膜厚修正板，實(shí)現(xiàn)了膜厚分布的反饋控制；
5、支持任意膜厚的控制；
6、通用的控制平臺，友好的人機(jī)界面，使客戶可以自行設(shè)置鍍膜機(jī)的所有控制參數(shù)；
7、開放式接口，方便安裝第三方的光學(xué)膜厚儀；
8、氣流和氣壓同時(shí)實(shí)時(shí)控制，適用出氣量大的低溫鍍膜。
光學(xué)真空鍍膜機(jī)
工藝參數(shù)：
1、真空系統(tǒng)
a) 極限真空度：4.0×10-5Pa
b) 抽至10Pa所用時(shí)間：≦ 10 分鐘
c) 漏率： 3.0×10-5Pa m3/sec
2、控制精度
a) 靶材尺寸：8寸直徑
b) 工件旋速: 20-120RPM
c) 工件尺寸：直徑900mm
d) 離子源：等離子體離子源
e) 加熱溫度：上下雙加熱控制，Z高溫度350度
f）高真空泵：DN400油擴(kuò)散泵或電子泵
g）低真空泵組：機(jī)械泵+羅茨泵機(jī)組
h）冷阱：雙組Polycold
3、光學(xué)監(jiān)控系統(tǒng)OMS
a) 波長精度：0.2nm
b) 光強(qiáng)波動: 白光< 0.1%，激光< 0.02%
c) 波長范圍: 400nm-1650nm
采購中心
化工儀器網(wǎng)