真空式等離子處理系統(tǒng)CRF-VPO-MC-6L

名稱（Name）

真空式等離子處理系統(tǒng)

型號（Model）

CRF-VPO-MC-6L

控制系統(tǒng)（Control system）

PLC+觸摸屏

電源（Power supply）

380V/AC,50/60Hz,12.5kw

中頻電源功率（MF Power）

2000W/40kHz

容量（Volume）

235L（Option）

層數(shù)（Electrode of plies）

6（Option）

有效處理面積（Area）

500（L）*500（W）（Option）

氣體通道（Gas）

兩路工作氣體可選： Ar、N2、CF4、O2

產(chǎn)品特點：處理空間大，提升處理產(chǎn)能，采用PLC+觸摸屏控制系統(tǒng)，有效控制設(shè)備運行。

可按照客戶要求定制設(shè)備腔體容量和層數(shù)，滿足客戶的需求。

保養(yǎng)維修成本低，便于客戶成本控制。

高精度，快響應(yīng)，良好的操控性和兼容性，完善的功能和專業(yè)的技術(shù)支持。

應(yīng)用范圍：主要適用于生物醫(yī)療行業(yè)，印制線路板行業(yè)，半導體IC領(lǐng)域，硅膠、塑膠、聚合體領(lǐng)域，汽車電子行業(yè)，航空工業(yè)等。

等離子清洗產(chǎn)品前要做哪些準備呢

等離子清洗機設(shè)備的工作原理：以氣體為清洗介質(zhì)，能有效地避免液體清洗介質(zhì)對清洗物體的二次污染。通過外置真空泵，清洗腔體內(nèi)的等離子體沖刷待清洗物體的表面，可以在短時間內(nèi)*清洗有(機)污染物。同時污染物被真空泵抽走，從而達到清洗的目的。在特定的環(huán)境中，其屬性可以根據(jù)不同的材料表面而改變。等離子體作用于材料表面，重組材料表面的分子化學鍵，形成新的表面特性。
等離子清洗設(shè)備的基本構(gòu)造：
根據(jù)使用的需要，可以選擇多種結(jié)構(gòu)的等離子清洗設(shè)備，也可以選擇無用氣型，通用的調(diào)節(jié)裝置包括真空室、真空泵、高頻電源、接觸器、氣體輸入系統(tǒng)、工作輸送系統(tǒng)和控制系統(tǒng)等。真空泵一般采用旋轉(zhuǎn)泵，高頻電源一般采用13.56兆赫無線電波，工作流程如下:
1.清潔后的工件送入真空室并固定好，啟動運轉(zhuǎn)裝置，開始排氣，使真空室的真空度達到10帕標準真空。通常的排氣時間大約2毫秒。
2.向真空室中注入等離子清洗用的氣體，并保持壓力為100pa。根據(jù)不使用的清潔材料，可以選擇氧氣、氫氣或氮氣。
3.對真空室電極和接地裝置之間施加高頻電壓，會引起氣體破裂，產(chǎn)生離子化作用，使電漿通過輝光放電產(chǎn)生電漿。將真空室產(chǎn)生的等離子體完(全)覆蓋在處理后的工件上，并開始清洗操作。一般的清理過程會持續(xù)幾十秒到幾分鐘。
4.清潔完畢后，切斷高頻電壓，把氣體和蒸發(fā)的污物排出，同時把氣體壓入真空室內(nèi)，使空氣壓力升高，使空氣壓力上升。