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EA4210XO-BN Eagle XO前端開放式直接探測(cè)X射線相機(jī)
- 公司名稱 上海五鈴光電科技有限公司
- 品牌 其他品牌
- 型號(hào) EA4210XO-BN
- 產(chǎn)地
- 廠商性質(zhì) 代理商
- 更新時(shí)間 2024/11/22 8:57:42
- 訪問次數(shù) 1374
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機(jī)載高光譜、在線高光譜、實(shí)時(shí)高光譜、顯微高光譜、太赫茲光譜探測(cè)系統(tǒng)、紅外相機(jī)、高速相機(jī)、3D相機(jī)
產(chǎn)地類別 | 進(jìn)口 | 價(jià)格區(qū)間 | 面議 |
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應(yīng)用領(lǐng)域 | 醫(yī)療衛(wèi)生,生物產(chǎn)業(yè),能源,電子 |
Eagle XO前端開放式直接探測(cè)X射線相機(jī)
采用 CF152(6”) 法蘭設(shè)計(jì),可以與真空室直接連接。相機(jī)采用e2v的背照CCD芯片,分辨率2048x512,不帶增透膜,可實(shí)現(xiàn)對(duì)真空紫外VUV、軟X-ray射線的直接探測(cè),探測(cè)能量范圍覆蓋2eV到20keV。該系列提供不同分辨率相機(jī), 制冷方式有風(fēng)冷和水冷兩種方式,方便用戶選擇在特殊環(huán)境下進(jìn)行科研和系統(tǒng)的集成。
Eagle XO前端開放式直接探測(cè)X射線相機(jī)
主要特性:
• 直接探測(cè)、前端開放
• 來自Teledyne e2v公司CCD
• 探測(cè)能量1.2eV-20KeV
• CF152法蘭設(shè)計(jì)可以直接與真空室連接
• TEC深度制冷,制冷到-80℃,降低暗電流, 以延長(zhǎng)曝光時(shí)間
• 超高動(dòng)態(tài)范圍93dB/43000:1
典型應(yīng)用:
X-ray顯微成像、斷層影像、相襯成像和源特性、X-ray等離子診斷、晶體學(xué)、極紫外/真空紫外成像、全息成像和半導(dǎo)體光刻、高次諧波產(chǎn)生
>>X-ray衍射(XRD)
X-ray衍射是一種研究物質(zhì)特性的技術(shù),如大分子、晶體、粉末、 聚合物和纖維。 當(dāng)X-ray穿過物質(zhì)時(shí),它們與原子中的電子相互作用,并分散開 來。如果原子是在平面上組織的(即物質(zhì)是結(jié)晶的),并且原子之間 的距離與X-ray的波長(zhǎng)大小相同,則會(huì)發(fā)生構(gòu)造性和破壞性的干涉, 并形成衍射圖案。根據(jù)所研究物質(zhì)的種類,可以使用單色X-ray、粉 紅束(窄帶)X-ray或白束(寬帶)X-ray。
>>極紫外(EUV)光刻
半導(dǎo)體工業(yè)使用波長(zhǎng)從 365nm 到 248nm 到 193/157nm 的光 源,其特征尺寸小于100nm,但已達(dá)到光刻技術(shù)的極限。認(rèn)識(shí)到這 一限制,該行業(yè)在過去幾年中一直在尋找一種潛在的后繼技術(shù),以生 產(chǎn)小于100nm的特性。半導(dǎo)體工業(yè)研究的下一代光刻技術(shù)包括超視 距光刻、X-ray光刻、離子束投影光刻和電子束投影光刻。盡管EUV 光刻技術(shù)也有其挑戰(zhàn),但它經(jīng)常被使用,因?yàn)樗A袅松鲜龉饪碳夹g(shù) (波長(zhǎng)13.5nm)的外觀和感覺,以及使用了相同的基本設(shè)計(jì)工具。 因此,直接探測(cè)X-ray相機(jī)為光刻系統(tǒng)工作中提供了好的診斷 和監(jiān)控手段。
>>軟X-ray顯微鏡
軟X-ray顯微鏡用于研究生物、材料科學(xué)和其它樣品的元素組成 和結(jié)構(gòu)。這些顯微鏡的波長(zhǎng)范圍在4.0埃(-3.0keV)到44埃(-300 eV)之間,能夠?qū)崿F(xiàn)數(shù)百埃的空間分辨率,比可見光顯微鏡的最大 分辨率高出約10倍。 軟X-ray顯微鏡具有設(shè)計(jì)簡(jiǎn)單,能夠在近自然環(huán)境中形成厚的含 水生物樣品的高空間分辨率圖像,而無需電子顯微鏡所需的耗時(shí)制 備的特點(diǎn)。由于生物樣品主要由氫、碳、氧和氮組成,它們的主要 吸收邊緣(除氫以外)位于碳(284eV,4.4nm)和氧(543eV, 2.3nm)吸收邊緣之間的水窗中,軟X-ray顯微鏡提供出色的光譜信 息,并提供高對(duì)比度圖像。
水中軟X-ray和生物樣品中主要元素的吸收長(zhǎng)度