化工儀器網(wǎng)>產(chǎn)品展廳>實(shí)驗(yàn)室常用設(shè)備>制樣/消解設(shè)備>拋光機(jī)/磨拋機(jī)/磨樣機(jī)>QPOL 200 M 研磨拋光機(jī)
QPOL 200 M 研磨拋光機(jī)
- 公司名稱(chēng) 南京智聯(lián)光學(xué)科技有限公司
- 品牌 其他品牌
- 型號(hào) QPOL 200 M
- 產(chǎn)地
- 廠(chǎng)商性質(zhì) 生產(chǎn)廠(chǎng)家
- 更新時(shí)間 2022/2/10 16:15:29
- 訪(fǎng)問(wèn)次數(shù) 1715
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日本OLYMPUS、奧地利Qness，德國(guó)ATM，美國(guó)MTS,產(chǎn)品涵蓋3D激光共聚焦顯微鏡、光學(xué)顯微鏡、工業(yè)內(nèi)窺鏡、自動(dòng)維氏硬度計(jì)、洛氏硬度計(jì)、布氏硬度計(jì)、金相切割機(jī)、精密切割機(jī)、自動(dòng)磨拋機(jī)、自動(dòng)鑲嵌機(jī),材料試驗(yàn)機(jī)
| 產(chǎn)地類(lèi)別 | 國(guó)產(chǎn) | 價(jià)格區(qū)間 | 面議 |
|---|---|---|---|
| 應(yīng)用領(lǐng)域 | 化工,生物產(chǎn)業(yè),能源 |
Qpol 200 M是一款用于金相制備的手動(dòng)單盤(pán)磨拋機(jī),工作盤(pán)直徑為200 mm。
耐沖擊塑料內(nèi)槽，采用粉末涂層的鋁制外殼及設(shè)備內(nèi)部的高標(biāo)準(zhǔn)技術(shù)，賦予了其安靜、平穩(wěn)運(yùn)行的特點(diǎn)及最佳的制備結(jié)果。優(yōu)點(diǎn)
研磨拋光機(jī)單盤(pán)研磨/拋光機(jī)
速度可調(diào)
磨盤(pán)脫水旋轉(zhuǎn)功能（清潔加速）
快速，便捷且無(wú)需工具的磨盤(pán)更換
通過(guò)抬起工作盤(pán)，可輕松清潔/沖洗底槽
鋁制外殼，粉末涂層
抗撞擊塑料內(nèi)槽
手動(dòng)水電磁閥
內(nèi)槽沖洗軟管
包括防濺擋圈和罩蓋
帶狀態(tài)指示的開(kāi)始-停止按鈕
旋鈕&加速清潔功能
帶有亮起狀態(tài)指示的開(kāi)始/停止開(kāi)關(guān)及帶有刻度并集成了加速清潔按鈕的旋轉(zhuǎn)開(kāi)關(guān)可以直觀地操作手動(dòng)設(shè)備。設(shè)定的速度在整個(gè)磨拋過(guò)程中保持恒定。
在制樣過(guò)程結(jié)束時(shí)，可以激活加速清潔功能，磨盤(pán)以750rpm的速度高速旋轉(zhuǎn)3秒鐘，有助于甩出磨拋介質(zhì)上殘留的液體。
整盤(pán)設(shè)計(jì)
防濺擋圈移開(kāi)后，可輕松接觸到工作盤(pán)。歸功于創(chuàng)新的安裝系統(tǒng)，工作盤(pán)會(huì)自動(dòng)鎖住。 抬起工作盤(pán)后，下方的所有部件都觸手可及從而節(jié)省設(shè)備清潔時(shí)間。
研磨拋光機(jī) QPOL 200 M技術(shù)參數(shù)
| 工作盤(pán) | ? 200 mm |
| 轉(zhuǎn)速 | 20 - 600 rpm, 連續(xù)可調(diào) |
| 連接電源 | 0.7 kVA |
| 電源供應(yīng) | 200-240 V / 50/60 Hz (1Ph/N/PE) / 100-120 V / 50/60 Hz (1Ph/N/PE) |
| 寬 x 高 x 深 | ~ 401 x 286 x 603 mm |
| 重量 | ~ 20-25 kg |
| 加液系統(tǒng)（可選） | Qdoser ONE |
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