鍍膜設(shè)備，耐火保溫材料，智能化設(shè)備，真空設(shè)備，實(shí)驗(yàn)室設(shè)備，光學(xué)設(shè)備，機(jī)械設(shè)備，電氣設(shè)備，儀表儀器生產(chǎn)銷售。
| 應(yīng)用領(lǐng)域 | 地礦,能源,電子/電池,鋼鐵/金屬,綜合 |
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一、EMDH-1000科研用真空電弧爐高溫熔煉爐設(shè)備用途 ：
用于熔煉高熔點(diǎn)金屬/合金，以及真空吸鑄法制備大塊非晶材料。適用于高校、科研院所進(jìn)行真空冶金新材料的科研與小批量制備。
二、真空電弧爐，非自耗電弧爐紐扣爐設(shè)備組成：
主要由電弧熔煉真空室、電弧槍、電弧熔煉電源、五工位水冷銅坩堝、翻轉(zhuǎn)機(jī)械手、真空吸鑄裝置、工作氣路、系統(tǒng)抽氣、真空測量及電氣控制系統(tǒng)、安裝機(jī)臺(tái)等各部分組成。
三、EMDH-1000科研用真空電弧爐高溫熔煉爐設(shè)備主要技術(shù)參數(shù)：
1、型號： KDH-1000
2、電弧熔煉室：立式圓筒型真空室
3、真空系統(tǒng)配置：VRD-30直聯(lián)泵、TK-150擴(kuò)散泵、三臺(tái)氣動(dòng)擋板閥和各種管路
4、冷態(tài)極限真空度 ≤6.67x10E-3Pa
5、熔煉電流：額定電流1000A
6、熔煉坩堝 ：多工位組合銅模，可根據(jù)客戶要求定做，配有電磁攪拌，非晶吸鑄工位等
7、熔煉合金工位： （其中兩個(gè)工位帶磁攪拌）一個(gè)吸鑄工位一個(gè)熔煉除氣工位
8、熔煉樣品重量 (以鐵標(biāo)定) 200克，可選擇20g 30g 80g 150g不同容量的電弧爐
9、真空吸鑄裝置 提供標(biāo)準(zhǔn)吸鑄模具1套
10、電弧熔煉陰極裝置：引弧方式為高頻引弧
一、設(shè)備用途 ：
用于熔煉高熔點(diǎn)金屬/合金，以及真空吸鑄法制備大塊非晶材料。適用于高校、科研院所進(jìn)行真空冶金新材料的科研與小批量制備。
二、真空電弧爐，非自耗電弧爐紐扣爐設(shè)備組成：
主要由電弧熔煉真空室、電弧槍、電弧熔煉電源、五工位水冷銅坩堝、翻轉(zhuǎn)機(jī)械手、真空吸鑄裝置、工作氣路、系統(tǒng)抽氣、真空測量及電氣控制系統(tǒng)、安裝機(jī)臺(tái)等各部分組成。
三、設(shè)備主要技術(shù)參數(shù)：
1、型號： KDH-1000
2、電弧熔煉室：立式圓筒型真空室
3、真空系統(tǒng)配置：VRD-30直聯(lián)泵、TK-150擴(kuò)散泵、三臺(tái)氣動(dòng)擋板閥和各種管路
4、冷態(tài)極限真空度 ≤6.67x10E-3Pa
5、熔煉電流：額定電流1000A
6、熔煉坩堝 ：多工位組合銅模，可根據(jù)客戶要求定做，配有電磁攪拌，非晶吸鑄工位等
7、熔煉合金工位： （其中兩個(gè)工位帶磁攪拌）一個(gè)吸鑄工位一個(gè)熔煉除氣工位
8、熔煉樣品重量 (以鐵標(biāo)定) 200克，可選擇20g 30g 80g 150g不同容量的電弧爐
9、真空吸鑄裝置 提供標(biāo)準(zhǔn)吸鑄模具1套
10、電弧熔煉陰極裝置：引弧方式為高頻引弧
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