沉積系統(tǒng)
具體成交價以合同協(xié)議為準(zhǔn)
- 公司名稱 北京瑞科中儀科技有限公司
- 品牌 其他品牌
- 型號
- 產(chǎn)地
- 廠商性質(zhì) 經(jīng)銷商
- 更新時間 2024/7/10 8:51:01
- 訪問次數(shù) 869
產(chǎn)品標(biāo)簽
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應(yīng)用領(lǐng)域 | 環(huán)保,化工,電子/電池 |
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沉積系統(tǒng)介紹
高產(chǎn)量
等離子蝕刻和沉積腔體可以與多達(dá)兩個片盒站組合,用于到200 mm晶片的高產(chǎn)量工藝。
研發(fā)
三到六個端口傳送腔室可用于集成ICP等離子刻蝕機(jī)、RIE刻蝕機(jī)、原子層沉積系統(tǒng)、PECVD和ICPECVD沉積設(shè)備,以滿足研發(fā)的要求。樣品可以通過預(yù)真空室和/或真空片盒站加載。
沉積系統(tǒng)包括等離子刻蝕和/或沉積腔體、傳送腔室、預(yù)真空室或片盒站。傳送腔室包括傳送機(jī)械手臂,可適用于三至六個端口??梢允褂枚噙_(dá)兩個片盒站來增加產(chǎn)量。傳送腔室可以配備多種選擇。
用于研發(fā)的SENTECH多腔系統(tǒng)通過圖形用戶界面控制軟件操作。強(qiáng)大的控制軟件可用于工業(yè)領(lǐng)域高產(chǎn)量的多腔系統(tǒng)。







