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300KV冷凍透射電鏡Krios G4 Cryo-TEM

具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)
  • 公司名稱 賽默飛電子顯微鏡
  • 品牌 FEI/賽默飛
  • 型號(hào)
  • 產(chǎn)地
  • 廠商性質(zhì) 生產(chǎn)廠家
  • 更新時(shí)間 2024/8/28 13:35:31
  • 訪問(wèn)次數(shù) 951

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FEI公司,2016年被賽默飛世爾科技收購(gòu),成為賽默飛材料與結(jié)構(gòu)分析(MSD) 電鏡事業(yè)部,是顯微鏡和微量分析解決方案的創(chuàng)新者和供應(yīng)商。 我們提供掃描電子顯微鏡SEM,透射電子顯微鏡TEM和雙束-掃描電子顯微鏡DualBeam FIB-SEM,結(jié)合先進(jìn)的軟件套件,運(yùn)用廣泛的樣本類型,通過(guò)將高分辨率成像與物理、元素、化學(xué)和電學(xué)分析相結(jié)合,使客戶的問(wèn)題變成有效可用的數(shù)據(jù)。

掃描電子顯微鏡,雙束電鏡,透射電子顯微鏡,冷凍電鏡,X射線光電子能譜儀,三維可視化軟件

價(jià)格區(qū)間 面議 儀器種類 熱場(chǎng)發(fā)射
應(yīng)用領(lǐng)域 環(huán)保,化工

為了讓科學(xué)家們更好地了解復(fù)雜樣品并開(kāi)發(fā)新材料,他們需要具有相應(yīng)構(gòu)造與功能的設(shè)備——不但能夠分辨空間、時(shí)間和頻率,而且可靠精確。

賽默飛世爾科技推出了Thermo Scientific Spectra 300 (S)TEM,這是一種適用于所有材料科學(xué)應(yīng)用的最高分辨率像差校正掃描透射電子顯微鏡。

建立在一個(gè)超穩(wěn)定的基礎(chǔ)上

所有的Spectra 300 (S)TEM都安裝在新平臺(tái)上,旨在通過(guò)被動(dòng)和(可選配)主動(dòng)隔振提供機(jī)械穩(wěn)定性和最高成像質(zhì)量。

該系統(tǒng)安裝在一個(gè)重新設(shè)計(jì)的外殼內(nèi),內(nèi)置屏幕顯示,便于裝載和取出標(biāo)本。這是電子顯微鏡可以對(duì)無(wú)矯正器和單矯正器配置時(shí)的不同高度提供模塊化和可升級(jí)性,從而為不同的房間配置提供最大的靈活性。

Spectra 300 (S)TEM:重新設(shè)計(jì)的底座和外殼采用集成式被動(dòng)或主動(dòng)隔振配置選件來(lái)提供最高成像質(zhì)量。


300KV冷凍透射電鏡Krios G4 Cryo-TEM主要特點(diǎn)

    Spectra 300 (S)TEM可配置高能量分辨率電子源

Spectra 300 (S)TEM 可選配高能量分辨率極場(chǎng)發(fā)射槍 (X-FEG)/Mono 或超高能量分辨率 X-FEG/UltiMono。兩種電子源的單色器分別使用 OptiMono 或 OptiMono+ 實(shí)現(xiàn)每種配置的最高能量分辨率(見(jiàn)下面的視頻),通過(guò)軟件單擊操作自動(dòng)激發(fā)和調(diào)整。

X-FEG/Mono 可以從 1 eV 自動(dòng)下調(diào)到 0.2 eV,而 X-FEG/UltiMono 可以從 1 eV 自動(dòng)下調(diào)到 <30 meV。

兩種電子源均可在 30 – 300 kV 范圍內(nèi)工作,以適應(yīng)廣泛的標(biāo)本。兩者都可以在單色器關(guān)閉的標(biāo)準(zhǔn)模式下運(yùn)行,以適應(yīng)需要高亮度的實(shí)驗(yàn),包括 STEM EDS 映射、超高分辨率 STEM 或高總電流,如 TEM 成像,所有這些都不會(huì)影響到系統(tǒng)的其他指標(biāo)。這種靈活性使 Spectra 300 (S)TEM 能夠滿足在一個(gè)系統(tǒng)上進(jìn)行大量各種實(shí)驗(yàn)工作的要求。

還可配置超高亮度X-CFEG光源

Spectra 300 (S)TEM 可選配新型冷場(chǎng)發(fā)射槍 (X-CFEG)。X-CFEG 具有亮度 (>>1.0 x 108 A/m2/Sr/V*) 和窄能量分布 (<0.4 eV),并能在 30 – 300 kV 范圍內(nèi)操作。這同時(shí)提供了高分辨率 STEM 成像和高探針電流,實(shí)現(xiàn)高通量、快速采集 STEM 分析與高能量分辨率。憑借 X-CFEG 和 S-CORR 探針像差校正器的強(qiáng)大組合,可以常規(guī)地實(shí)現(xiàn)亞埃 (<0.8 ?) STEM 成像分辨率和超過(guò) 1000 pA 的探針電流。

High-angle annular dark-field (HAADF) images of silicon.
使用 X-CFEG/S-CORR 組合采集的 Si[110] HAADF 圖像;探針電流范圍從 0.016 nA(左)到 1 nA(右),同時(shí)保持 <76 pm STEM 分辨率。

此外,探針電流可以靈活地在 <1 pA 到 nA 范圍調(diào)節(jié),同時(shí)精確控制電子槍和聚光鏡系統(tǒng),所有這些操作都對(duì)聚光鏡像差影響很小,因此可以適應(yīng)廣泛的樣品和實(shí)驗(yàn)。

與所有冷場(chǎng)發(fā)射源一樣,尖銳的需要周期性再生(稱為 flashing)以維持探針電流。使用 X-CFEG,每個(gè)工作日只需要 flashing 一次,過(guò)程只需不到一分鐘。即使在最高分辨率成像條件下,對(duì)探針像差也沒(méi)有可測(cè)量的影響,并且每日f(shuō)lashing 過(guò)程對(duì)壽命沒(méi)有影響。

X-CFEG 的 flashing:在 flashing 之前和之后 200 kV 下保持 60 pm 的分辨率而不用調(diào)整光路。整個(gè)過(guò)程耗時(shí) <1 min,每個(gè)工作日僅需要一次,并且對(duì)壽命沒(méi)有影響。

在使用大平行探針進(jìn)行標(biāo)準(zhǔn) TEM 成像實(shí)驗(yàn)(例如原位)時(shí),新一代 X-CFEG 還可以產(chǎn)生足夠的總束流 (>14 nA) 使其具有通用性,同時(shí)又是高性能 C-FEG。

除了靈活性,X-CFEG 還具有通過(guò)改變提取電壓來(lái)調(diào)整能量分辨率的能力。

在下例中,在 0.39eV(探針電流 <500pA)和 0.31eV(探針電流 >300pA)之間調(diào)整了能量分辨率。在高能量分辨率下保持高探針電流可以對(duì)能量損失近邊結(jié)構(gòu) (ELNES) 進(jìn)行詳細(xì)分析,而無(wú)需在核心損失邊緣上使用單色器??臻g分辨率(如 DyScO3 的 HAADF 圖像所示)仍然不受影響(在本例中 <63pA),這意味著現(xiàn)在可以同時(shí)進(jìn)行高空間分辨率、能量分辨率和信噪比的 STEM EELS 實(shí)驗(yàn)。

壽命不受選擇用于進(jìn)行實(shí)驗(yàn)的提取電壓的影響。


超高亮度 X-CFEG 的能量分辨率可以通過(guò)提取電壓來(lái)調(diào)節(jié)。在上例中,在 0.39eV(探針電流 <500pA)和 0.31eV(探針電流 >300pA)之間調(diào)整了能量分辨率??臻g分辨率(如 DyScO3 的 HAADF 圖像所示)仍然保持不變(在本例中 <63pA)。樣品承蒙康奈爾大學(xué)教授 L.F.Kourkoutis 提供


    300KV冷凍透射電鏡Krios G4 Cryo-TEM提供最高分辨率的STEM成像性能

最新的 5 階聚光鏡像差校正器增強(qiáng)了機(jī)械穩(wěn)定性,與高分辨率 (S-TWIN) 寬間隙極靴相結(jié)合,使得儀器具有最高的市售 STEM 分辨率指標(biāo)。

Spectra 300 (S)TEM 配置 X-FEG/Mono 或 X-FEG/UltiMono,使用 30 pA 探針電流,或者 X-CFEG 使用 100 pA 探針電流,可提供的 STEM 分辨率指標(biāo)為:300 kV 下 50 pm,60 kV 下 96 pm,30 kV 下 125 pm。

High-angle annular dark-field (HAADF) images of GaN[212].
Spectra 300 (S)TEM 上的超高分辨率 HAADF STEM 成像。GaN[212] 212 在 300 kV 下成像,40.5 pm Ga-Ga 啞鈴分辨,以及 FFT 中的 39 pm 分辨率。圖像是在寬間隙 S-TWIN 極片上以 30 pA 的探針電流采集的。
    Panther STEM探頭系統(tǒng)具有靈敏度

Spectra (S)TEM 上的 STEM 成像已經(jīng)經(jīng)過(guò)重新設(shè)計(jì),采用了 Panther STEM 探頭系統(tǒng),該系統(tǒng)包括一個(gè)新的數(shù)據(jù)采集架構(gòu)和兩個(gè)新的固態(tài)八段環(huán)形和盤式 STEM 探頭(總共 16 段)。新的探頭幾何結(jié)構(gòu)具有先進(jìn)的 STEM 成像能力以及測(cè)量單個(gè)電子的靈敏度。

Schematic representation of STEM detectors.
Panther STEM 探頭系統(tǒng)的 16 段環(huán)形和盤式探頭無(wú)需多個(gè)探頭便可實(shí)現(xiàn)一系列 STEM 信號(hào)。

整個(gè)信號(hào)經(jīng)過(guò)優(yōu)化和調(diào)整,以極低劑量提供信噪比成像能力,便于對(duì)電子束敏感性材料進(jìn)行成像。此外,重新開(kāi)發(fā)的數(shù)據(jù)采集基礎(chǔ)架構(gòu)可以組合不同的單個(gè)探頭區(qū)段,未來(lái)可能以任意方式組合檢測(cè)器區(qū)段,生成新的 STEM 成像方法并揭示傳統(tǒng) STEM 技術(shù)中不能夠獲得的信息。該架構(gòu)還具有可擴(kuò)展性,并提供了同步多個(gè) STEM 和譜信號(hào)的接口。

High-angle annular dark-field (HAADF) images of SrTiO?.
用 Panther STEM 探頭系統(tǒng),在 3 pA,1.3 pA 和 <1 pA 探針電流下采集的 SrTiO? [001] HAADF 圖像對(duì)比。即使探頭電流 <1 pA,圖像中的信噪比也允許像 OptiSTEM + 這樣的自動(dòng)化程序校正聚光鏡光學(xué)系統(tǒng)中的一階和二階像差,從而提供清晰的圖像。
Scanning transmission electron microscopy image of a metal organic framework.
Spectra 300 (S)TEM 上金屬有機(jī)框架 (MOF) UiO 66 的極低劑量成像。將 <0.5 pA 的探針電流與 iDPC 和 Panther STEM 探頭系統(tǒng)結(jié)合使用,在這種高劑量靈敏度材料中對(duì)原子級(jí)細(xì)節(jié)進(jìn)行成像,空間分辨率達(dá) 1.4 ?。圖像是一個(gè)幀時(shí)間為 23.5 秒的單次激發(fā)(標(biāo)本承蒙阿卜杜拉國(guó)王科技大學(xué)的 Y. Han 教授提供)。
   先進(jìn)的STEM成像能力

Spectra 300 (S)TEM 可配置電子顯微鏡像素陣列探頭(EMPAD)或具有速度增強(qiáng)功能的 Thermo Scientific Ceta 相機(jī),以收集 4D STEM 數(shù)據(jù)集。

EMPAD 能夠用在 30-300 kV 并提供高動(dòng)態(tài)范圍(像素之間 1:1,000,000 e-)、高信噪比(1/140 e-)和 128 x 128 像素陣列上的高速度(每秒 1100 幀),這使其成為 4D STEM 應(yīng)用的最佳探頭。(例如,需要同時(shí)分析中心束和衍射束細(xì)節(jié)的應(yīng)用,如下面的疊層成像圖像。)

更多細(xì)節(jié)可以在  EMPAD 數(shù)據(jù)表中找到。

MoS? 的電子顯微鏡像素陣列探頭 (EMPAD) 圖像。

EMPAD 檢測(cè)器可用于各種應(yīng)用領(lǐng)域。在左側(cè),它用于在 2D 材料雙層 MoS? 將低加速電壓 (80 kV) 空間分辨率擴(kuò)展到光闌限制分辨率更高 (0.39 ?)( Jiang, Y. 等人Nature 559、343–349,2018)。在右邊,它用于暗場(chǎng)反射的獨(dú)立成像,揭示出高溫合金中析出相的復(fù)雜微觀結(jié)構(gòu)(樣品由曼徹斯特大學(xué)的 G. Burke 教授提供)。

當(dāng)需要將 EDS 分析與 STEM 掃描中的每個(gè)點(diǎn)組合時(shí),具有速度增強(qiáng)功能的 Ceta 相機(jī)為需要更多像素的 4D STEM 應(yīng)用提供了另一種選擇。該解決方案提供更高分辨率的衍射圖案(高達(dá) 512 x 512 像素分辨率),適用于應(yīng)力測(cè)量等應(yīng)用。

    Spectra 300 (S)TEM靈活的能譜配置

從 EDS 高通量、高信噪比元素映射到超高分辨率 EELS 探測(cè)氧化態(tài)和表面聲子,Spectra 300 (S)TEM 提供靈活的能譜配置,以適應(yīng)廣泛的分析要求。

Spectra 300 (S)TEM 可根據(jù)客戶選擇配置三種不同能量分辨率的電子源(X-FEG Mono、X-FEG UltiMono 和 X-CFEG),兩種不同幾何構(gòu)造的 EDS 探頭(Super-X 和 Dual-X),以及一系列 Gatan Continuum 能譜儀和能量過(guò)濾器,使您可以自由配置系統(tǒng)以滿足您的研究需求。

Thermo Scientific EDS 探頭系列產(chǎn)品提供多種探頭形狀選擇,以滿足您的實(shí)驗(yàn)要求并優(yōu)化 EDS 結(jié)果。兩種配置都具有對(duì)稱設(shè)計(jì),可生成定量數(shù)據(jù)。 請(qǐng)注意,在兩種探頭配置下,樣品桿對(duì)信號(hào)遮擋與傾轉(zhuǎn)角的關(guān)系函數(shù)在內(nèi)置的 Thermo Scientific Velox 軟件功能中得到補(bǔ)償。

Spectra 300 (S)TEM 可配置 Super-X(獲得更干凈的能譜和定量)或配置 Dual-X(獲得最大立體角和高通量 STEM EDS 映射)。

Super-X 探頭系統(tǒng)提供 0.7 Sr 的高準(zhǔn)直立體角和大于 4000 的 Fiori 數(shù)。Super-X 專為 STEM EDS 實(shí)驗(yàn)而設(shè)計(jì),在這里EI實(shí)驗(yàn)中,能譜清潔度和量化的要求至關(guān)重要。

Dual-X 探頭系統(tǒng)提供 1.76 Sr 的立體角和大于 2000 的 Fiori 數(shù)。Dual-X 專為高通量 STEM EDS 實(shí)驗(yàn)而設(shè)計(jì),例如 EDS 三維成像或信號(hào)產(chǎn)量低且快速映射至關(guān)重要時(shí)。

在下面的例子中,使用 Dual-X 探頭檢查 DyScO3 鈣鈦礦系統(tǒng)。X-CFEG 的超高亮度 (>>1.0 x 108 A/m2/Sr/V*) 和 S-CORR 探針校正器的高分辨率用于將探針作用于樣品,電流為 150 pA,尺寸 <80 pm。利用這些高亮度探針,EDS 映射可以通過(guò)高采樣和高 SNR 快速完成,從而在亞??臻g分辨率獲得單個(gè)元素、原始和未濾波的 EDS 圖。Sc 圖的快速傅里葉變換顯示高達(dá) 90 pm 的分辨率。此外,Velox 軟件中的內(nèi)置 EDS 量化引擎使 Spectra 300 (S)TEM 上的 STEM EDS 快速、簡(jiǎn)便且可定量。

采用超高亮度 X-CFEG、S-CORR 和大立體角 (1.76 Sr) Dual-X 探頭的強(qiáng)大組合對(duì) DyScO? 樣品進(jìn)行研究,從而得到高信噪比、原子分辨率(高達(dá) 90 pm)和未經(jīng)過(guò)濾的 EDS 圖(樣品承蒙康奈爾大學(xué)的 L.F. Kourkoutis 教授提供)。

當(dāng) Spectra 300 (S)TEM 配備 X-FEG Mono 時(shí),它針對(duì)高通量 EELS 元素映射以及探測(cè)核損失邊的精細(xì)結(jié)構(gòu)進(jìn)行了優(yōu)化,從而提取敏感的化學(xué)信息。X-FEG Mono 的能量分辨率可在 <0.2 eV 和 1 eV 之間調(diào)節(jié)。

使用 <0.2 eV 能量分辨率的電子探針研究了沿著金納米線的等離子體激發(fā)的局部位置與激發(fā)能量(0.18-1.2 eV 之間)的關(guān)系。

配備 X-FEG UltiMono 的 Spectra 300 可提供可能的最高能量分辨率。該配置能夠?qū)⒛芰糠直媛试?<0.025 eV 和 1 eV 之間調(diào)節(jié)。

Electron probe image of a magnesium oxide crystal obtained on a scanning transmission electron microscope.
Electron probe image of a magnesium oxide crystal obtained on a scanning transmission electron microscope.
通過(guò)能量分辨率 <0.025 eV 的電子探針觀察,兩個(gè)分裂能為 7 meV 的表面聲子在 MgO 晶體上的圖。(標(biāo)本和分析承蒙加拿大麥克馬斯特大學(xué)電子顯微鏡中心 Isobel Bicket 和 Gianluigi Botton 教授提供。)
Spectra 300 (S)TEM的原位功能

Spectra 300 (S)TEM 采用一體化 S-TWIN 寬間隙極靴,可兼容多種用于 原位 實(shí)驗(yàn)的樣品桿。Thermo Scientific NanoEx 系列樣品桿可與顯微鏡無(wú)縫集成,實(shí)現(xiàn)基于 MEMS 設(shè)備的加熱,可在高溫下進(jìn)行原子成像。下面為金納米顆粒被加熱到 700 攝氏度,并且在速度增強(qiáng)的 Thermo Scientific Ceta 相機(jī)上以高于每秒 30 幀的速率 4k 像素分辨率全幀拍攝到的運(yùn)動(dòng)。結(jié)果是得到了高空間和時(shí)間分辨率的高動(dòng)態(tài)分子行為。

左側(cè)是高溫下金納米島的高幀率視頻,在具有速度增強(qiáng)功能的 Ceta 相機(jī)上收集。右側(cè)是 4k x 4k 傳感器對(duì)感興趣區(qū)域數(shù)字變焦同時(shí)保持高分辨率。

Spectra 300 (S)TEM的規(guī)格

圖像矯正器

  • 能量散布:0.2–0.3 eV

  • 信息限制:60 pm

  • STEM 分辨率:136 pm

探針矯正器:

  • 能量散布:0.2–0.3 eV

  • 信息限制:100 pm

  • STEM 分辨率:50 pm(30 kV 下 125 pm)

未校正

  • 能量散布:0.2–0.3 eV

  • 信息限制:100 pm

  • STEM分辨率:136 pm

X-FEG/單色器雙校正(探針+圖像矯正器)

  • 能量散布:0.2–0.3 eV

  • 信息限制:60 pm

  • STEM分辨率:50 pm(30 kV 下 125 pm)

X-CFEG 雙校正(探針+圖像校正)

  • 能量散布:0.4 eV

  • 信息限制:70 pm

  • STEM分辨率:50 pm(30 kV 下 136 pm)

離子源

  • X-FEG Mono:高亮度肖特基場(chǎng)發(fā)射槍和單色器,可調(diào)諧能量分辨率范圍為 1-<0.2 eV

  • X-FEG UltiMono:高亮度肖特基場(chǎng)發(fā)射槍,配備超穩(wěn)定單色器和加速電壓,可調(diào)諧能量分辨率范圍為 1eV-<0.03eV

  • X-CFEG:固有能量分辨率 <0.4 eV 的超高亮度

  • 30 – 300 kV 的靈活高張力范圍






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