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化工儀器網(wǎng)>產(chǎn)品展廳>半導(dǎo)體行業(yè)專用儀器>光刻及涂膠顯影設(shè)備>有掩模光刻機(jī)>GK-100 桌面光刻機(jī)

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GK-100 桌面光刻機(jī)

參考價94000/臺
具體成交價以合同協(xié)議為準(zhǔn)

聯(lián)系我們時請說明是化工儀器網(wǎng)上看到的信息,謝謝!


頂旭(蘇州)微控技術(shù)有限公司是一家專注于微流控領(lǐng)域的高科技企業(yè),我們致力于為客戶提供微流控芯片定制、表面修飾改性、微流控芯片加工設(shè)備、以及微流控儀器等全面的微流控解決方案。公司團(tuán)隊擁有豐富的經(jīng)驗和技術(shù)積累,持續(xù)將專業(yè)知識與創(chuàng)新思維相結(jié)合,為客戶提供高品質(zhì)的解決方案。我們將始終堅持以客戶為中心,不斷挑戰(zhàn)自我,不斷追求創(chuàng)新,通過專業(yè)、創(chuàng)新和合作,為客戶創(chuàng)造更大的價值,共同開創(chuàng)微流控領(lǐng)域的美好未來。

核心業(yè)務(wù)領(lǐng)域:

微流控芯片定制:提供多種材料的微流控芯片定制加工服務(wù),包括PDMS、玻璃、塑料以及硅材料。根據(jù)客戶的需求定制最合適的芯片材料,確保客戶研究和應(yīng)用順利展開。

表面修飾: 微提供多種表面修飾技術(shù),幫助客戶優(yōu)化微流控芯片的液體流動性、分子吸附和細(xì)胞附著等特性,從而實現(xiàn)更精確的實驗結(jié)果。

微流控芯片加工設(shè)備: 提供豐富多樣的微流控芯片加工設(shè)備,涵蓋SU8模具加工、PDMS芯片加工和玻璃芯片加工??梢詭椭蛻粼谧约旱膶嶒炇覂?nèi)進(jìn)行微流控芯片的快速制作,從而提高實驗效率和靈活性。

微流控儀器: 提供微流控進(jìn)樣設(shè)備,包括恒壓泵、蠕動泵和注射泵等,幫助客戶精確控制流體和樣本動態(tài),提供有力的技術(shù)支持,助客戶從容邁向科技前沿。


微流控芯片加工設(shè)備,微流控芯片定制加工,細(xì)胞培養(yǎng)芯片

1 產(chǎn)品介

頂旭桌面光刻機(jī)/曝光機(jī)/,專為微米級圖案制作而設(shè)計,旨在保障圖形轉(zhuǎn)移精度。設(shè)備采用紫外LED冷光源,結(jié)合雙非球面石英透鏡,可生成半角<的平行光,相較傳統(tǒng)接觸式曝光機(jī),其緊湊的體積將移形換影置于桌面之上,為操作提供了便利與精準(zhǔn)。

該光刻機(jī)廣泛適用于微流控芯片、MEMS器件、光電子器件以及聲表面波器件等制備領(lǐng)域。其性能尤其適合高校、科研院所以及企業(yè)展開微細(xì)加工工藝研究。緊隨現(xiàn)代技術(shù)的步伐,桌面光刻機(jī)/曝光機(jī)的問世為微納加工注入了新的活力,助力客戶在項目目標(biāo)的實現(xiàn)過程中邁向更高精度、更具創(chuàng)新性的階段。

2. 技術(shù)參數(shù)

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2  曝光光源:紫外LED

2  光源波長:365nm;

2  曝光面積:4英寸、6英寸可選;

2  曝光方式:單面接觸式定時曝光;

2  曝光分辨率:2um;

2  曝光強(qiáng)度:30~120mW/cm2可調(diào);

2  曝光不均勻性:≤5%;

2  光源平行性:≤2°;

2  光源壽命:≥20000h;

2  電源輸入:AC220V±10V,50HZ

2  功率:250W

2  重量:約22kg

2  外形尺寸:382*371*435

2  工作環(huán)境:溫度0-40 ,相對濕度<80 %

3. 使用方法

接觸式曝光機(jī)操作簡單,易于上手,具體操作如下:

一、曝光前準(zhǔn)備工作

1、硅片處理:確保待曝光硅片經(jīng)過勻膠處理,表面干凈平整,沒有明顯的污漬或破損。

2、選擇光刻板:根據(jù)項目需要,選擇合適尺寸的光刻板,本設(shè)備兼容4英寸、5英寸或6英寸。

3、設(shè)備檢查:仔細(xì)檢查設(shè)備,確保所有部件處于正常工作狀態(tài),確保操作環(huán)境良好。

二、曝光操作步驟

1、安裝硅片:將待曝光硅片平放在設(shè)備的載臺上,確保位置準(zhǔn)確。

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 (硅片放置載硅片槽內(nèi))

2、放置光刻板:將光刻板平放在硅片上方,如果使用菲林掩膜,需要在其上方放置透明玻璃以保持平穩(wěn)。

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3、設(shè)定曝光參數(shù):使用控制面板設(shè)置曝光時間和強(qiáng)度,根據(jù)具體需求進(jìn)行調(diào)整。

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4、啟動曝光:確認(rèn)參數(shù)設(shè)定無誤后,點(diǎn)擊啟動按鈕,設(shè)備將開始進(jìn)行曝光。

5、監(jiān)控曝光過程:在曝光過程中,您可以通過設(shè)備界面監(jiān)控曝光進(jìn)度,確保一切順利進(jìn)行。

6、曝光完成:曝光結(jié)束后,設(shè)備會發(fā)出提示,取出硅片和光刻板。

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4. 日常維護(hù)

1、定期清理平行曝光機(jī)的載臺,防止它們因積塵或灰塵而影響加工。

2、保持曝光機(jī)的表面清潔,防止灰塵和雜質(zhì)進(jìn)入設(shè)備內(nèi)部。

5. 裝箱清單

1、桌面微型紫外光刻機(jī)主機(jī) 1

2、電源線 1

3、高透4英寸玻璃 1 (輔助菲林掩膜曝光使用)

4、用戶操作說明書 1

5、合格證 1

6、保修卡 1





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