GVC-2000TD 高真空磁控離子濺射儀
具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)
- 公司名稱 北京格微儀器有限公司
- 品牌 其他品牌
- 型號(hào) GVC-2000TD
- 產(chǎn)地
- 廠商性質(zhì) 生產(chǎn)廠家
- 更新時(shí)間 2025/1/2 18:02:53
- 訪問(wèn)次數(shù) 1500
產(chǎn)品標(biāo)簽
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| 產(chǎn)地類別 | 國(guó)產(chǎn) | 價(jià)格區(qū)間 | 面議 |
|---|---|---|---|
| 應(yīng)用領(lǐng)域 | 電子/電池,鋼鐵/金屬,綜合 |
一、GVC-2000TD高真空磁控離子濺射儀產(chǎn)品優(yōu)勢(shì)：
1、可制備各種金屬、單質(zhì)、無(wú)機(jī)非金屬薄膜；
2、不破真空情況下，可實(shí)現(xiàn)多層復(fù)合膜制備；
3、一鍵操作，全自動(dòng)控制，智能化程度高；
4、一致性、重復(fù)性好；
5、內(nèi)置多重靶材工作參數(shù)，無(wú)需摸索鍍膜工藝；
6、體積小，結(jié)構(gòu)緊湊，非常節(jié)約空間。
二、GVC-2000TD高真空磁控離子濺射儀產(chǎn)品參數(shù)：
| 外形尺寸（主機(jī)） | 424(L)×345(D)×420(H) | 輸入電源 | 220V/50Hz 1000W |
| 濺射靶頭 1 | 直流磁控濺射 | 可用靶材 | 金屬靶材 |
| 濺射靶頭 2 | 射頻磁控濺射 | 可用靶材 | 無(wú)機(jī)非金屬靶材 |
| 真空系統(tǒng) | 渦輪分子泵+旋片式真空泵 | 抽速 | 90L/s + 1.1L/s |
| 真空測(cè)量 | 復(fù)合式真空規(guī) | 量程范圍 | 1E-3 ~ 1E5Pa |
| 真空室 | φ 200×130mm 高硼硅玻璃 | 抽氣節(jié)拍 | 10 分鐘（≤5E-3Pa） |
| 樣品臺(tái)尺寸 | φ 90mm | 樣品臺(tái)切換 | 自動(dòng)控制 |
| 濺射靶材尺寸 | φ 57mm（厚度 0.1-2mm） | 工作真空 | 0.1-2Pa |
| 操作界面 | 7 英寸 TFT 觸摸式液晶屏 | 操作語(yǔ)言 | 中文（可選其它語(yǔ)言） |
| 冷水機(jī) | 小型臺(tái)式制冷機(jī) | 冷水機(jī)功率 | 180W |
| 預(yù)濺射擋板 | 標(biāo)配全自動(dòng)控制預(yù)濺射擋板 | ||
| 膜厚儀（選配） | 可實(shí)時(shí)顯示鍍膜厚度，并通過(guò)設(shè)定來(lái)控制鍍膜過(guò)程，測(cè)量精度 0.01nm，設(shè)定精度 0.1nm，單次設(shè)定范圍 1-999nm | ||
| 溫控組件（選配） | 樣品臺(tái)加熱模塊 300℃/500℃ | ||
| 旋轉(zhuǎn)組件（選配） | 傾斜旋轉(zhuǎn)、行星旋轉(zhuǎn)等 | ||
| 小車（選配） | 將主機(jī)、射頻電源、冷水機(jī)等組裝在一起，整體性好 | ||
| 安裝環(huán)境 | 220V/10A 三孔插座一個(gè)、純度 4N 及以上的高純氬氣（出口壓力 0.12MPa） | ||
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