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HEP-MC8000 晶圓檢測機(jī)

具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)
  • 公司名稱 武漢賽斯特精密儀器有限公司
  • 品牌 其他品牌
  • 型號(hào) HEP-MC8000
  • 產(chǎn)地
  • 廠商性質(zhì) 生產(chǎn)廠家
  • 更新時(shí)間 2024/10/10 18:51:48
  • 訪問次數(shù) 279

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  武漢賽斯特精密儀器有限公司是武漢市專業(yè)研發(fā),以力學(xué)試驗(yàn)機(jī)儀器為主,同時(shí)銷售各種、中低端分析儀器?,F(xiàn)有員工60多人,公司成功開發(fā)了PCI放大采集卡和中文版試驗(yàn)軟件,并采用全數(shù)字化,操作簡捷,*符合GB、ISO、JIS、ASTM、DIN等標(biāo)準(zhǔn)、國家標(biāo)準(zhǔn)、行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)的要求,公司亦通過了ISO9001質(zhì)量體系認(rèn)證和國家計(jì)量體系認(rèn)證,榮獲了“武漢市第九界消費(fèi)者滿意單位”的稱號(hào)。
  產(chǎn)品廣泛應(yīng)用于電子、高校、政府研究機(jī)構(gòu)、環(huán)保機(jī)構(gòu)、石油化工、紡織制造、第三方檢測機(jī)構(gòu)、*別研究院、新能源、集成電路、芯片、封裝測試、半導(dǎo)體行業(yè)、顯示器領(lǐng)域、光電材料、鋰電池、機(jī)械生產(chǎn)等領(lǐng)域。并與武漢理工大學(xué)、華中科技大學(xué)等建立了長期合作,每年投入大量研究經(jīng)費(fèi),招攬各方優(yōu)秀的技術(shù)人才加盟突破國內(nèi)技術(shù)壁壘,不斷攻克新的技術(shù)難題,另外公司還積極拓展海外業(yè)務(wù),產(chǎn)品遠(yuǎn)銷越南,印度,埃及等國家和地區(qū)。
  本著“專業(yè)品質(zhì),專業(yè)服務(wù)”為宗旨,以“科技、品質(zhì)、競爭、創(chuàng)新”為理念,通過不斷汲取新的技術(shù),新的理念,繼續(xù)開發(fā)研制新產(chǎn)品,并為廣大客戶提供優(yōu)質(zhì)的售前,售中,售后服務(wù)。熱烈歡迎廣大新老朋友業(yè)函,來電,蒞臨我公司參觀指導(dǎo)!


 

實(shí)驗(yàn)室檢測儀器,測試儀器設(shè)備等

晶圓檢測機(jī)采用非接觸檢測系統(tǒng),對(duì)晶圓的平面度、厚度、粗糙度等進(jìn)行檢測并分類,并完成晶圓標(biāo)記及數(shù)據(jù)處理。

該設(shè)備產(chǎn)能:1片/分鐘。

該設(shè)備主要包含:

運(yùn)動(dòng)機(jī)構(gòu):將晶圓放入工作臺(tái),通過高精度運(yùn)動(dòng)模組,移動(dòng)晶圓進(jìn)行掃描檢測。

檢測部分:集成相機(jī)、激光三維輪廓測量儀、位移激光傳感器對(duì)晶圓的厚度、平面度、粗糙度等進(jìn)行全方面的檢測。

晶圓檢測機(jī)檢查內(nèi)容:

檢查項(xiàng)目

指  標(biāo)

備 注

表面缺陷檢查

崩邊(非立崩)、缺口

可檢能力≥170um*170um

檢出率100%

圖像灰度值差距>30;列出大小指標(biāo)是可檢能力,設(shè)置過小會(huì)存在誤判多的問題,因此設(shè)定參數(shù)需按實(shí)際生產(chǎn)需求設(shè)定

沾污

可檢能力≥170um*170um

檢出率≥95%

誤檢率<0.5%(大小≥450um*450um情況下或?qū)嶋H生產(chǎn)需求設(shè)定的指標(biāo))

劃傷

可檢能力≥170um*170um

檢出率>95%(大小≥170um*450um情況下或?qū)嶋H生產(chǎn)需求設(shè)定的指標(biāo))

劃傷淺易漏檢

3D檢測

厚度

檢測精度分辨率+/-0.25um

測量重復(fù)性:≤±1μm

GR&R<10%

最大、最小、平均值

TTV

測量精度+/-2um

GR&R<10%

TTV整條線

翹曲、變形

測量精度+/-2um

GR&R<20%

最大值

平面度

+/-0.5um

偏差值

粗糙度

計(jì)算值

處理能力

檢測周期

60s/片






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