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GL8 CLIV Gen2高精度紫外納米壓印光刻設(shè)備

具體成交價以合同協(xié)議為準(zhǔn)

公司名稱 青島天仁微納科技有限責(zé)任公司
品牌 天仁微納
型號
產(chǎn)地
廠商性質(zhì) 生產(chǎn)廠家
更新時間 2025/2/20 14:56:49
訪問次數(shù) 936

產(chǎn)品標(biāo)簽

納米壓印光刻設(shè)備

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公司介紹 主營產(chǎn)品

青島天仁微納科技有限責(zé)任公司成立于2015年，是引新的納米壓印設(shè)備和解決方案提供商。公司的核心競爭力是為客戶提供納米壓印整體解決方案。產(chǎn)品與服務(wù)涵蓋納米壓印相關(guān)的設(shè)備、模具、材料、工藝以及生產(chǎn)咨詢服務(wù)。我們致力于拓展納米壓印技術(shù)在創(chuàng)新產(chǎn)品領(lǐng)域的應(yīng)用，例如發(fā)光二極管（LEDs）、微納機(jī)電系統(tǒng)（MEMs/NEMs）、虛擬現(xiàn)實(shí)和增強(qiáng)現(xiàn)實(shí)光波導(dǎo)（AR Waveguides）、3D傳感、生物芯片、顯示以及太陽能等。

展開

微納加工設(shè)備，配套材料，配套產(chǎn)品，相關(guān)領(lǐng)域的技術(shù)咨詢服務(wù)

詳細(xì)信息 在線詢價

GL8 CLIV Gen2高精度紫外納米壓印光刻設(shè)備是天仁微納新型全幅高精度紫外納米壓印設(shè)備，標(biāo)配天仁微納CLIV（Contact Litho in Vacuum）壓印技術(shù)，可實(shí)現(xiàn)200mm基底面積上高精度（優(yōu)于10nm ）、高深寬比（優(yōu)于10比1 ）納米結(jié)構(gòu)復(fù)制量產(chǎn)。

GL8 CLIV Gen2 & GL12 CLIV Gen2 2inch/100/150/200mm & 2inch/100/150/200/300mm是天仁微納新型全幅高精度紫外納米壓印設(shè)備，可實(shí)現(xiàn)200/300mm基底面積上高精度（優(yōu)于10nm ）、高深寬比（優(yōu)于10比1 ）納米結(jié)構(gòu)復(fù)制量產(chǎn)。
該設(shè)備支持自動復(fù)制柔性復(fù)合工作模具，工作模具具有精度高，壽命長等特點(diǎn)，可以顯著降低大面積納米壓印工藝中模具使用成本。保證了大面積納米壓印過程中結(jié)構(gòu)精度與高深寬比結(jié)構(gòu)的完整填充，同時保證了大面積結(jié)構(gòu)壓印均勻性。
GL8/12 CLIV納米壓印設(shè)備適用于DOE、AR/VR衍射光波導(dǎo)（包括斜齒光柵）、生物芯片、LED、微透鏡陣列等應(yīng)用領(lǐng)域的量產(chǎn)。