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SP-3-2H SEN日森小王子 冷陰極筆式 燈 365nm 燈管

參考價(jià) 180
訂貨量 ≥1
具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)
  • 公司名稱 深圳市京都玉崎電子有限公司
  • 品牌 SEN/日森
  • 型號 SP-3-2H
  • 產(chǎn)地 日本
  • 廠商性質(zhì) 經(jīng)銷商
  • 更新時(shí)間 2024/11/21 14:37:50
  • 訪問次數(shù) 420

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會社概要 社名:京都玉崎株式會社 代表取締:高崎 惠美 注冊資本:1000萬(JPY) 從業(yè)人員:60人(截止2022年) 海外支社:香港、深圳、蘇州、重慶、北京、成都、江 西、湖南 京都玉崎株式會社創(chuàng)立于平成15年(公元2003年),位于日本大阪市,是一家日本綜合貿(mào)易商社。隨著我國的 汽車行業(yè)、半導(dǎo)體行業(yè)和新能源行業(yè)井噴式的增長,對各類儀器要求也越來越高,逐步趨向高度復(fù)雜化。 深圳市京都玉崎電子有限公司是京都玉崎株式會社全資設(shè)立的中國子公司,專業(yè)從事國內(nèi)貿(mào)易/國際貿(mào)易業(yè)務(wù), 主要經(jīng)營光學(xué)設(shè)備、電子計(jì)測儀器、科學(xué)儀器、機(jī)械加工設(shè)備、環(huán)境試驗(yàn)設(shè)備、PC周邊用品、作業(yè)工具用品、 電源、化學(xué)用品、FA自動化上萬種產(chǎn)品的銷售。公司憑借渠道管理能力, 可控的交期和匹配的物流 體系, 科學(xué)嚴(yán)謹(jǐn)?shù)漠a(chǎn)品質(zhì)量, 專業(yè)的線下服務(wù)能力,為客戶提供極有競爭力的價(jià)格以及技術(shù)支持。




主要經(jīng)營光學(xué)設(shè)備、電子計(jì)測儀器、科學(xué)儀器、機(jī)械加工設(shè)備、環(huán)境試驗(yàn)設(shè)備、PC周邊用品、作業(yè)工具用品、電源、化學(xué)用品、FA

供貨周期 兩周 規(guī)格 2853007788
貨號 137*-1702*-3088 應(yīng)用領(lǐng)域 醫(yī)療衛(wèi)生,食品,印刷包裝,制藥,汽車
主要用途 紫外線洗浄改質(zhì)裝置是運(yùn)用短波長紫外線進(jìn)行表面處理、干式清洗的效果而作的試驗(yàn)機(jī)

SEN日森小王子 冷陰極筆式 燈 365nm 燈管

SEN日森小王子 冷陰極筆式 燈 365nm 燈管


    SEN日森
    紫外線清洗
    紫外光清洗的工作原理
    紫外光清洗技術(shù)是利用有機(jī)化合物的光敏氧化作用達(dá)到去除黏附在材料表面上的有機(jī)物質(zhì),經(jīng)過光清洗后的材料表面可以達(dá)到“原子清潔度”。更詳盡的講:UV光源發(fā)射波長為185nm和254nm的光波,具有很高的能量,當(dāng)這些光子作用到被清洗物體表面時(shí),由于大多數(shù)碳?xì)浠衔飳?85nm波長的紫外光具有較強(qiáng)的吸收能力,并在吸收185nm波長的紫外光的能量后分解成離子、游離態(tài)原子、受激分子和中子,這就是所謂光敏作用??諝庵械难鯕夥肿釉谖樟?85nm波長的紫外光后也會產(chǎn)生臭氧和原子氧。臭氧對254nm波長的紫外光同樣具有強(qiáng)烈的吸收作用,臭氧又分解為原子氧和氧氣。其中原子氧是極活潑的,在它作用下,物體表面上的碳和碳?xì)浠衔锏姆纸馕锟苫铣煽蓳]發(fā)的氣體:二氧化碳和水蒸氣等逸出表面,清除了黏附在物體表面上的碳和有機(jī)污染物。清洗時(shí),使基板治濕性向上。玻璃基板是以滾輪方式輸送,上方裝置低壓水銀燈產(chǎn)生紫外線照射。玻璃基板所累積紫外線能量愈多,其表面水接觸愈小,成反比關(guān)系。一般STN-LCD制作過程中,需求的玻璃基板累積紫外線能量為300nj/cm2(2537nm)以上。而彩STN-LCD及彩色濾光片制作過程中,要求的玻璃基板累積紫外線能量600mj/cm2(2537nm)。


    產(chǎn)品特點(diǎn):
    UV光清洗機(jī)PL16-110
    1.本裝置是為了運(yùn)用短波長紫外線進(jìn)行表面處理、干式清洗的效果而作的試驗(yàn)機(jī)。
    2.試驗(yàn)臺到光源使用特定的升降機(jī)可以任意改變高度,照度可以使用照度計(jì)測定。
    3.抽出式試驗(yàn)臺,旋轉(zhuǎn)式照射臺等多種姊妹產(chǎn)品供您選擇。
    產(chǎn)品描述:
    桌上型表面處理裝置其主要原理為紫外線燈發(fā)出的185nm波長和254nm波長具有很高的能量,高于大多數(shù)有機(jī)物的結(jié)合能量。
    由于大多數(shù)碳?xì)浠衔飳?85nm波長的紫外線具有較強(qiáng)的吸收能力,并且可以在吸收185nm波長后分解成離子,流離態(tài)原子,受激分子和中子等,這就是光敏作用。
    空氣中的氧分子在吸收了185nm波長的紫外光后,會產(chǎn)生臭氧和氧氣,臭氧對254nm波長具有很強(qiáng)的吸收性,臭氧有可以分解為氧原子和氧氣。
    氧原子具有氧化性,可以將碳?xì)浠湘I切斷,生成水和二氧化碳等易揮發(fā)氣體,從被照射物表面飄逸出,清除物體表面的污染物。
    規(guī)格:


    適用范圍液晶顯示器件、觸摸屏、半導(dǎo)體硅芯片、集成電路、高精度印制電路板、光學(xué)器件、石英晶體、密封技術(shù)、  主要材料:ITO玻璃、光學(xué)玻璃、鉻板、掩膜板、拋光石英晶體、硅芯片和帶有氧化膜的金屬等進(jìn)行精密清洗處理??梢匀コ酃福河袡C(jī)性污垢、人體皮脂、化妝品油脂、樹脂添加劑及聚酰亞胺、石蠟、松香、潤滑油、殘余的光刻膠等使用紫外線清洗時(shí)要注意以下幾個(gè)方面:

    (1) 污垢中的無極成分或處理后的灰分會殘留在物體表面,因此需要采用相應(yīng)的辦法進(jìn)一步清除,如加裝真空除塵或與超聲波干洗配套使用。

    (2)處理時(shí),當(dāng)清洗對象表面與照射光源距離稍遠(yuǎn)時(shí),產(chǎn)生的臭氧會自動分解失去作用,一定要注意清洗表面與光源的距離,也就是注意平臺或傳送帶上工件的高度或厚度。

    (3)這種處理方法要求紫外線能透過清洗對象表面,對有立體結(jié)構(gòu)的清洗對象不太適合,只能清洗表面結(jié)構(gòu)的物體。

    (4)由于需防止臭氧擴(kuò)散對人體造成損害,需要在封閉裝置中進(jìn)行清洗。

    (5)由于臭氧是通過氧化反應(yīng)去除污垢的,所以容易被氧化的表面不能用這種方法處理。








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