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化工儀器網(wǎng)>產(chǎn)品展廳>實驗室常用設備>制樣/消解設備>離子濺射儀> VTC-600-2HD-1000雙靶磁控濺射儀

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VTC-600-2HD-1000雙靶磁控濺射儀

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  沈陽科晶立足國內(nèi)市場實際情況,以提供Z為實用的產(chǎn)品為己任。產(chǎn)品的質(zhì)量、精度在向國外企業(yè)看齊的基礎(chǔ)上,產(chǎn)品的價格定位卻僅僅是其幾分之一。性價比不僅吸引了眾多國內(nèi)客戶,而且令挑剔的外國客商也稱贊不已,產(chǎn)品遠銷于印度、馬來西亞、土耳其、波蘭、突尼斯、澳大利亞等國家,并大量出口于美國。

  沈陽科晶為了更好地服務客戶,專門設立了開放式專業(yè)實驗室,配備了優(yōu)秀的專業(yè)技術(shù)人員。在這里,不僅可以提供親身的產(chǎn)品體驗環(huán)境,而且還可得到專業(yè)人員的操作指導。開設以來,制作的樣品達上千件,接待來訪客參觀戶百余次,其中包括多次外國友人的來訪。在此,沈陽科晶全體員工誠摯地歡迎您的到來,并希望您能提出寶貴的意見與建議。

  沈陽科晶一路走過的歷程,是為我國材料研究事業(yè)全力貢獻的歷程,是以實際行動將自己打造成國內(nèi)材料分析設備品牌的歷程,是與國外同行不斷縮小差距的歷程,是與廣大客戶相扶相持的成長歷程。雖一路充滿坎坷與荊棘,但堅持不懈的沈陽科晶人仍全力以赴的前行。秉承這份堅持,相信在不久的將來,沈陽科晶也將會成為市場上專業(yè)的、杰出的材料分析設備品牌,沈陽科晶的明天會更加燦爛輝煌。

 

我們擁有同類型中優(yōu)質(zhì)性價比的產(chǎn)品!                 

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歡迎來到沈陽科晶,我們是國內(nèi)實驗室樣品制備設備領(lǐng)域的專家!

 

 

 

 

 

 

 

 

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產(chǎn)地類別 國產(chǎn) 價格區(qū)間 面議
應用領(lǐng)域 綜合

IMG_256VTC-600-2HD-1000雙靶磁控濺射儀是我公司自主新研制開發(fā)的一款高真空鍍膜設備,可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導電薄膜、合金薄膜、半導體薄膜、陶瓷薄膜、介質(zhì)薄膜、光學薄膜、氧化物薄膜、硬質(zhì)薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。雙靶磁控濺射儀配備有兩個靶槍和兩個電源,一個射頻電源用于非導電材料的濺射鍍膜,一個直流電源用于導電材料的濺射鍍膜,可選配強磁靶用于鐵磁性材料的濺射鍍膜。與同類設備相比,且具有體積小便于操作的優(yōu)點,且可使用的材料范圍廣,是一款實驗室制備各類材料薄膜的理想設備。
IMG_2591、配置兩個靶槍,一個配套射頻電源用于非導電靶材的濺射鍍膜,一個配套直流電源用于導電性材料的濺射鍍膜。
2、可制備多種薄膜,應用廣泛。
3、體積小,操作簡便。IMG_261

產(chǎn)品名稱

VTC-600-2HD-1000雙靶磁控濺射儀

產(chǎn)品型號

VTC-600-2HD-1000

安裝條件

本設備要求在海拔1000m以下,溫度25℃±15℃,濕度55%Rh±10%Rh下使用。
1、水:設備配有自循環(huán)冷卻水機(加注純凈水或者去離子水)
2、電:AC220V 50Hz,必須有良好接地
3、氣:設備腔室內(nèi)需充注氬氣(純度99.99%以上),需自備氬氣氣瓶(自帶?6mm雙卡套接頭)及減壓閥
4、工作臺:尺寸1500mm×600mm×700mm,承重200kg以上
5、通風裝置:需要

主要參數(shù)

1、輸入電源:220V/50Hz
2、濺射靶數(shù)量:2
3、腔體內(nèi)徑:?300mm
4、靶槍冷卻方式:水冷
5、極限真空度:7.4E-5pa
6、真空室規(guī)格:Φ300×330 mm
7、真空系統(tǒng):VRD-16機械泵 FF-100/150渦輪分子泵
8、恢復真空:系統(tǒng)從大氣抽至5.0E-3pa≤30 min(系統(tǒng)短時間暴露大氣)
9、充氣系統(tǒng):2路質(zhì)量流量計(1路氬氣100scc、2路氬氣200scc)特殊氣體可定制
10、濺射靶規(guī)格:Φ2",厚度0.1-5mm(因靶材材質(zhì)不同厚度有所不同)
11、樣品臺:Φ140mm/可旋轉(zhuǎn)(1~20rpm)/可加熱(室溫~1000℃)

產(chǎn)品規(guī)格

主機尺寸:寬900mm×深650mm×高1100mm


 




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