化工儀器網(wǎng)>產(chǎn)品展廳>半導(dǎo)體行業(yè)專(zhuān)用儀器>薄膜生長(zhǎng)設(shè)備>化學(xué)氣相沉積設(shè)備>PECVD-601/801/1201 化學(xué)氣相沉積（PECVD）
PECVD-601/801/1201 化學(xué)氣相沉積（PECVD）
具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)
- 公司名稱(chēng) 北京中科復(fù)華科技有限公司
- 品牌 其他品牌
- 型號(hào) PECVD-601/801/1201
- 產(chǎn)地
- 廠(chǎng)商性質(zhì) 代理商
- 更新時(shí)間 2024/4/7 9:40:41
- 訪(fǎng)問(wèn)次數(shù) 171
產(chǎn)品標(biāo)簽
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納米圖形發(fā)生器，離子束刻蝕/反應(yīng)離子刻蝕/感應(yīng)耦合等離子刻蝕 磁控濺射/氣相沉積/電子束蒸發(fā)鍍膜、ALD/MBE/MOCVD 光刻機(jī)、去膠設(shè)備等
應(yīng)用方向：科研與教學(xué)
產(chǎn)品優(yōu)勢(shì)： 高性能薄膜制備
產(chǎn)品配置：
★樣片數(shù)量及尺寸：1片Ф6英寸
★沉積材料：包括并不限于硅基（Si）薄膜、碳基（C）薄膜、硅鍺合金（SiGe）、鎢硅合金（WSi2）、W、SiC。
★沉積腔體：高真空系統(tǒng)
★沉積不均勻性：±3%-±6%
★沉積速率：20-600nm/min（視具體材料與工藝）
★工作臺(tái)：可升降，高度可調(diào)
★加熱：常規(guī)加熱，可選高溫加熱
★電源配置：射頻；直流偏壓
★氣路數(shù)量與種類(lèi)：標(biāo)配4路氣路 或 用戶(hù)選配
★光學(xué)性能監(jiān)測(cè)：可選配橢偏儀在線(xiàn)監(jiān)測(cè)系統(tǒng)
★漸變折射率薄膜制備：可選配快速流量變化與控制系統(tǒng)
★操作模式：全自動(dòng)+半自動(dòng)控制
類(lèi)似產(chǎn)品：帶預(yù)真空室（PECVD-8100）
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