無(wú)掩膜激光直寫(xiě)光刻機(jī)-MicroWriter ML3

具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)

公司名稱 昱臣半導(dǎo)體技術(shù)（香港）有限公司
品牌 其他品牌
型號(hào)
產(chǎn)地
廠商性質(zhì) 經(jīng)銷商
更新時(shí)間 2024/4/14 10:41:02
訪問(wèn)次數(shù) 257

產(chǎn)品標(biāo)簽

直寫(xiě)光刻機(jī)無(wú)掩膜光刻機(jī)光刻機(jī)

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公司介紹 主營(yíng)產(chǎn)品

昱臣半導(dǎo)體技術(shù)（香港）有限公司是專業(yè)的半導(dǎo)體及微電子領(lǐng)域儀器設(shè)備供應(yīng)商，昱臣半導(dǎo)體技術(shù)（香港）有限公司所代理的儀器設(shè)備廣泛用于高校、研究所、半導(dǎo)體企業(yè)。

昱臣半導(dǎo)體技術(shù)（香港）有限公司目前代理的主要產(chǎn)品包括：

- 霍爾效應(yīng)測(cè)試儀(Hall Effect Measurement System)；

- 快速退火爐(RTP)；

- 回流焊爐，真空燒結(jié)爐(Reflow Solder System)；

- 探針臺(tái)(Probe Station)，低溫探針臺(tái)(Cryogenic Probe Station)；

- 貼片機(jī)(Die Bonder)，劃片機(jī)(Scriber)，球焊機(jī)/鍥焊機(jī)(Wire Bonder)；

- 原子層沉積系統(tǒng)(ALD)，等離子增強(qiáng)原子層沉積設(shè)備(PEALD)；

- 磁控濺射鍍膜機(jī)(Sputter)，電子束蒸發(fā)鍍膜機(jī)(E-beam Evaporator)，熱蒸發(fā)鍍膜機(jī)(Thermal Evaporator)，脈沖激光沉積系統(tǒng)(PLD) ;

- 低壓化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)(LPCVD)，等離子增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)(PECVD)，快速熱化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)(RTCVD)；

- 反應(yīng)離子刻蝕機(jī)(RIE)，ICP刻蝕機(jī)，等離子體刻蝕機(jī)；

- 致冷機(jī)/低溫恒溫器(Cryostat/Cryocooler)；

- 加熱臺(tái)、熱板、烤膠臺(tái) (Hot Chuck / Hot Plate)；

- 掃描開(kāi)爾文探針系統(tǒng)(Kelvin Probe)，光反射膜厚儀(Reflectometer)；

- 高溫超導(dǎo)磁體(HTS Magnet)，快速場(chǎng)循環(huán)核磁共振弛豫測(cè)試儀(FFC Reflexometer)；

展開(kāi)

原子層沉積系統(tǒng)，快速退火爐，PECVD，刻蝕機(jī)

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小型臺(tái)式無(wú)掩膜光刻機(jī)- MA1200

小型臺(tái)式無(wú)掩膜光刻機(jī)- MicroWriter ML3是英國(guó)公司專為實(shí)驗(yàn)室設(shè)計(jì)開(kāi)發(fā)，為微流控、SAW、半導(dǎo)體、自旋電子學(xué)等研究領(lǐng)域提供方便高效的微加工方案。

傳統(tǒng)的光刻工藝中所使用的鉻玻璃掩膜板需要由專業(yè)供應(yīng)商提供，但是在研發(fā)環(huán)境中，掩膜板的設(shè)計(jì)通常需要經(jīng)常改變。無(wú)掩膜光刻技術(shù)通過(guò)以軟件設(shè)計(jì)電子掩膜板的方法，克服了這一問(wèn)題。與通過(guò)物理掩膜板進(jìn)行光照的傳統(tǒng)工藝不同，激光直寫(xiě)是通過(guò)電腦控制一系列激光脈沖的開(kāi)關(guān)，在光刻膠上直接曝光繪出所要的圖案。

MA1200 是一款多功能激光直寫(xiě)光刻系統(tǒng)，具有結(jié)構(gòu)小巧緊湊(70cm x 70cm x 70cm)，無(wú)掩膜直寫(xiě)系統(tǒng)的靈活性，還擁有高直寫(xiě)速度，高分辨率的特點(diǎn)。采用集成化設(shè)計(jì)，全自動(dòng)控制，可靠性高，操作簡(jiǎn)便。適用于各種實(shí)驗(yàn)室桌面。

產(chǎn)品特點(diǎn)

Focus Lock自動(dòng)對(duì)焦功能 Focus Lock技術(shù)是利用自動(dòng)對(duì)焦功能對(duì)樣品表面高度進(jìn)行探測(cè)，并通過(guò)Z向調(diào)整和補(bǔ)償，以保證曝光分辨率。	光學(xué)輪廓儀 MicroWriter ML3 配備光學(xué)輪廓探測(cè)工具，用于勻膠后沉積層，蝕刻層，MEMS等前道結(jié)構(gòu)的形貌探測(cè)與套刻。Z向高精度100 nm，方便快捷。

標(biāo)記物自動(dòng)識(shí)別點(diǎn)擊“Bulls-Eye”按鈕，系統(tǒng)自動(dòng)在顯微鏡圖像中識(shí)別光刻標(biāo)記。標(biāo)記物被識(shí)別后，將自動(dòng)將其移動(dòng)到顯微鏡中心位置。	直寫(xiě)前預(yù)檢查軟件可以實(shí)時(shí)顯微觀測(cè)基體表面，并顯示預(yù)直寫(xiě)圖形位置。通過(guò)實(shí)時(shí)調(diào)整位置、角度，直到設(shè)計(jì)圖形按要求與已有結(jié)構(gòu)重合，保證直寫(xiě)準(zhǔn)確。

簡(jiǎn)單的直寫(xiě)軟件 MicroWriter 由一個(gè)簡(jiǎn)單直觀的Windows界面軟件控制。工具欄會(huì)引導(dǎo)使用者進(jìn)行簡(jiǎn)單的布局設(shè)計(jì)、基片對(duì)準(zhǔn)和曝光的基本操作。該軟件在Windows10系統(tǒng)下運(yùn)行。	Clewin 掩膜圖形設(shè)計(jì)軟件 ● 可以讀取多種圖形設(shè)計(jì)文件（DXF, CIF, GDSII, 等） ● 可以直接讀取TIFF, BMP 等圖片格式 ● 書(shū)寫(xiě)范圍只由基片尺寸決定