microPLD系統(tǒng)

專門為您的應(yīng)用定制的多功能系統(tǒng)

NBM Design很高興提供microPLD系統(tǒng)。對于想要開始使用PLD技術(shù)的預(yù)算有限的用戶來說，微型PLD是啟動系統(tǒng)。它適合有限的實驗室空間，并且可以快速輕松地移動，使靈活的安裝成為現(xiàn)實。

在需要避免交叉污染問題的情況下，微型PLD系統(tǒng)也是擴展PLD實驗室的一種簡單方法。

1. 激光輻射與靶的相互作用

2. 熔化物質(zhì)的動態(tài)

3. 熔化物質(zhì)在基片的沉積

4. 薄膜在基片表面的成核（nucleation）與生成

在*階段，激光束聚焦在靶的表面。達(dá)到足夠的高能量通量與短脈沖寬度時，靶表面的一切元素會快速受熱，到達(dá)蒸發(fā)溫度。物質(zhì)會從靶中分離出來，而蒸發(fā)出來的物質(zhì)的成分與靶的化學(xué)計量相同。物質(zhì)的瞬時溶化率大大取決於激光照射到靶上的流量。熔化機制涉及許多復(fù)雜的物理現(xiàn)象，例如碰撞、熱，與電子的激發(fā)、層離，以及流體力學(xué)。

在第二階段，根據(jù)氣體動力學(xué)定律，發(fā)射出來的物質(zhì)有移向基片的傾向，并出現(xiàn)向前散射峰化現(xiàn)象。空間厚度隨函數(shù)cosnθ而變化，而n>>1。激光光斑的面積與等離子的溫度，對沉積膜是否均勻有重要的影響。靶與基片的距離是另一個因素，支配熔化物質(zhì)的角度范圍。亦發(fā)現(xiàn)，將一塊障板放近基片會縮小角度范圍。

第三階段是決定薄膜質(zhì)量的關(guān)鍵。放射出的高能核素碰擊基片表面，可能對基片造成各種破壞。下圖表明了相互作用的機制。高能核素濺射表面的部分原子，而在入射流與受濺射原子之間，建立了一個碰撞區(qū)。膜在這個熱能區(qū)（碰撞區(qū)）形成后立即生成，這個區(qū)域正好成為凝結(jié)粒子的z佳場所。只要凝結(jié)率比受濺射粒子的釋放率高，熱平衡狀況便能夠快速達(dá)到，由於熔化粒子流減弱，膜便能在基片表面生成。

全自動PLD脈沖激光沉積系統(tǒng)概述：該系統(tǒng)為PC計算機全自動控制的立柜式系統(tǒng)，具有占地面積小、性價比高的優(yōu)點。占地面積尺寸為26"x42"x44"。不銹鋼立柜，帶Auto Load/Unload自動上下載片功能，帶預(yù)真空鎖。

主要優(yōu)點：

1. 易獲得期望化學(xué)計量比的多組分薄膜，即具有良好的保成分性；

2. 沉積速率高，試驗周期短，襯底溫度要求低，制備的薄膜均勻；

3. 工藝參數(shù)任意調(diào)節(jié)，對靶材的種類沒有限制；

4. 發(fā)展?jié)摿薮螅哂袠O大的兼容性；