日本Hisol離子濺射設(shè)備表面涂覆抗靜電涂層 G20 特點介紹

該臺式濺射設(shè)備非常適合在樣品表面涂覆抗靜電涂層，例如對非導(dǎo)電樣品進(jìn)行 SEM 觀察時。

精致、緊湊的設(shè)計和

帶觸摸屏的簡單用戶界面

確保舒適的操作性。

無需惰性氣體

一鍵執(zhí)行從吸塵到涂層的所有操作

將條件保存到庫（最多 10 個）

最多可同時處理 7 個樣品

減少低電流對樣品的損壞

Au、Ag、Pt成型（最大50mmφ）

一套主體+泵+1個目標(biāo)

即可立即使用

日本Hisol離子濺射設(shè)備表面涂覆抗靜電涂層 G20 規(guī)格參數(shù)

外形尺寸350×210mm（高230mm） 

體重10公斤 

電源110V±10%，50/60Hz 

離子電流1~10mA（1mA/步） 

濺射時間1 至 600 秒（1 秒/步）*約15nm成型，10mA，100秒 

靶材金、銀、鉑（50mmφ/99.99%） 

腔室尺寸140mmφ(H100mm) 

兼容的樣本量50mmφ(H30mm) 

該臺式濺射設(shè)備非常適合在樣品表面涂覆抗靜電涂層，例如對非導(dǎo)電樣品進(jìn)行 SEM 觀察時。

精致、緊湊的設(shè)計和

帶觸摸屏的簡單用戶界面

確保舒適的操作性。

無需惰性氣體

一鍵執(zhí)行從吸塵到涂層的所有操作

將條件保存到庫（最多 10 個）

最多可同時處理 7 個樣品

減少低電流對樣品的損壞

Au、Ag、Pt成型（最大50mmφ）

一套主體+泵+1個目標(biāo)

即可立即使用