2 設(shè)備名稱：晶片腐蝕機(jī)

2 設(shè)備型號(hào)：RHXX-待定

2 制作材質(zhì)：PP

2 處理能力：每槽2籃6寸或1籃8寸

2 整機(jī)尺寸：約2000mm(L) ×1300mm(W) ×2400mm（H）

晶片腐蝕機(jī)主體構(gòu)造特點(diǎn)

由于是一個(gè)酸性的環(huán)境，我們?cè)O(shè)備的排風(fēng)方式，臺(tái)面下抽風(fēng)為主，背部、頂部排風(fēng)的綜合排廢氣系統(tǒng)，槽下有單獨(dú)的抽風(fēng)裝置，同時(shí)工藝槽采用自動(dòng)供液裝置。

設(shè)備結(jié)構(gòu)外型，整機(jī)主要由機(jī)架、工藝槽體、機(jī)械手系統(tǒng)、排風(fēng)系統(tǒng)、電控系統(tǒng)、水路系統(tǒng)及氣路系統(tǒng)等組成。

由于工藝槽內(nèi)藥液腐蝕性強(qiáng)，設(shè)備需要做防腐處理：（1）設(shè)備機(jī)架采用鋼結(jié)構(gòu)骨架包塑；（2）殼體采用瓷白色PP板材焊接成型，制程區(qū)由耐酸堿PP板材組合焊接而成：（3）電氣區(qū)設(shè)置在設(shè)備后上部，與濕區(qū)和管路區(qū)隔離；（4）槽體材料選用耐相應(yīng)溶液腐蝕的材料；（5）機(jī)械手探人濕區(qū)部分的零部件表面噴氟或套PFA管處理或?yàn)殍F氟龍加工件。

設(shè)備的排風(fēng)系統(tǒng)由引風(fēng)窗和排風(fēng)口組成，排風(fēng)口位于設(shè)備后頂都。排風(fēng)板為可拆卸可調(diào)結(jié)構(gòu)，以便清除可能產(chǎn)生的結(jié)晶。排風(fēng)口處設(shè)有自動(dòng)調(diào)節(jié)風(fēng)門，即上電打開風(fēng)門，斷電關(guān)閉風(fēng)門。具有風(fēng)壓檢測(cè)功能，以及氮?dú)狻嚎s空氣壓力報(bào)警功能。設(shè)備前、后下方均設(shè)有維護(hù)門。臺(tái)面為多孔結(jié)構(gòu)，便于臺(tái)面上沖洗水、液的排出。機(jī)械手抓取部位位于液面以上，以防止傳遞過(guò)程中的交叉污染。所有和晶片直接接觸的化學(xué)介質(zhì)中不允許有金屬出現(xiàn)。

設(shè)備臺(tái)面排列布置如（臺(tái)面布置圖）所示，共3個(gè)腐蝕工作位，3個(gè)水洗工位；所有槽工作在潔凈、全封閉的結(jié)構(gòu)中，工作參數(shù)通過(guò)觸摸屏設(shè)置。每個(gè)工位均設(shè)置單獨(dú)控制按鈕（開始，停止，急停），可分別控制4個(gè)工藝位；將來(lái)清洗片盒手工放在機(jī)械手上，操作人員按“開始/start按鈕”后，進(jìn)行工藝動(dòng)作；清洗完成后系統(tǒng)發(fā)出報(bào)警提出信號(hào)，待人工手動(dòng)取出。設(shè)備臺(tái)面的左、右前方分別配置PP材料的水（2把，2把水槍），便于工件及設(shè)備的清理；設(shè)備整機(jī)放置于一個(gè)PP承露盤中，防止藥液漏液至高架地板，承露盤中設(shè)置漏液傳感器，漏液報(bào)警。