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PECVD等離子沉積設(shè)備

具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)
  • 公司名稱 北京瑞科中儀科技有限公司
  • 品牌 其他品牌
  • 型號
  • 產(chǎn)地
  • 廠商性質(zhì) 代理商
  • 更新時(shí)間 2024/10/10 8:58:04
  • 訪問次數(shù) 241
產(chǎn)品標(biāo)簽

PECVD等離子沉積設(shè)備

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北京瑞科中儀科技有限公司一家是專門從事數(shù)碼光學(xué)顯微鏡及相關(guān)實(shí)驗(yàn)室設(shè)備研發(fā)與銷售的新型高科技公司,也專注于半導(dǎo)體材料研究與分析設(shè)備的經(jīng)銷和代理,為高校、企業(yè)科研工作者提供專業(yè)的材料分析解決方案,北京瑞科中儀科技有限公司長期代理銷售供應(yīng)多種分子材料的研究分析設(shè)備,其中包括但不限于掃描電子顯微鏡、感應(yīng)耦合等離子體化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)、離子束刻蝕機(jī)、等離子清洗機(jī)、物理氣相沉積系統(tǒng)以及各品牌的光學(xué)顯微鏡以及實(shí)驗(yàn)室設(shè)備儀器,以專業(yè)能力導(dǎo)向,精細(xì)工藝流程,用科學(xué)手段解決科研中遇到的難題.彼此協(xié)作,為我國的科研領(lǐng)域譜寫新篇章。

公司主要產(chǎn)品包括:生物顯微鏡、金相顯微鏡、偏光顯微鏡、體視顯微鏡、數(shù)碼顯微鏡、顯微鏡數(shù)碼相機(jī)照相接口、顯微鏡*冷光源、數(shù)碼圖像分析系統(tǒng)、測量顯微鏡、三座標(biāo)測量顯微鏡,激光細(xì)胞顯微操作 拉曼顯微鏡光學(xué)儀器及設(shè)備/光學(xué)顯微鏡/熒光顯微鏡光學(xué)儀器及設(shè)備/電子顯微鏡/其它電子顯微鏡半導(dǎo)體行業(yè)專用儀器/其它半導(dǎo)體行業(yè)儀器設(shè)備其它半導(dǎo)體設(shè)備生命科學(xué)儀器/分子生物學(xué)儀器/PCR儀生命科學(xué)儀器/分子生物學(xué)儀器/基因測序儀生命科學(xué)儀器/分子生物學(xué)儀器/DNA合成儀半導(dǎo)體行業(yè)專用儀器/薄膜生長設(shè)備/其它薄膜沉積設(shè)備半導(dǎo)體行業(yè)專用儀器/光刻及涂膠顯影設(shè)備/無掩模光刻機(jī)/直寫光刻機(jī)

公司經(jīng)銷代理品牌包括:蔡司顯微鏡,奧林巴斯顯微鏡,尼康顯微鏡,徠卡顯微鏡,國產(chǎn)各廠家顯微鏡, 華粵行 ,基恩士 , 日本電,日立 ,布魯克,三和聯(lián), sentech(森泰克),SYSKEY(矽碁), PE(鉑金埃爾默)全系產(chǎn)品 ,天美愛丁堡,原子光譜,氣相色譜,PE(鉑金埃爾默)全系產(chǎn)品

代理經(jīng)銷的產(chǎn)品種類包括,熒光顯微鏡,熒光顯微成像系統(tǒng),激光捕獲顯微切割,全自動(dòng)切片掃描,三維超景深顯微系統(tǒng),動(dòng)物超聲系統(tǒng),3D超景深顯微鏡,形貌探測顯微鏡,蔡司共聚焦顯微鏡,全自動(dòng)數(shù)字切片掃描,病理切片掃描,激光切割顯微系統(tǒng),立體顯微鏡,國產(chǎn)激光共聚焦顯微鏡,精準(zhǔn)醫(yī)學(xué)顯微切割,激光顯微切割系統(tǒng),按需搭建顯微系統(tǒng),熒光光譜儀,激光細(xì)胞顯微操作 拉曼顯微鏡光學(xué)儀器及設(shè)備/光學(xué)顯微鏡/熒光顯微鏡光學(xué)儀器及設(shè)備/電子顯微鏡/其它電子顯微鏡半導(dǎo)體行業(yè)專用儀器/其它半導(dǎo)體行業(yè)儀器設(shè)備其它半導(dǎo)體設(shè)備生命科學(xué)儀器/分子生物學(xué)儀器/PCR儀生命科學(xué)儀器/分子生物學(xué)儀器/基因測序儀生命科學(xué)儀器/分子生物學(xué)儀器/DNA合成儀半導(dǎo)體行業(yè)專用儀器/薄膜生長設(shè)備/其它薄膜沉積設(shè)備半導(dǎo)體行業(yè)專用儀器/光刻及涂膠顯影設(shè)備/無掩模光刻機(jī)/直寫光刻機(jī)


公司成立伊始,即本著“以人為本,誠信發(fā)展,合作共贏"的企業(yè)宗旨,快樂中結(jié)識新朋友,穩(wěn)步中追求新發(fā)展。目前公司已經(jīng)擁有一支由專業(yè)技術(shù)人員、營銷人員和維修人員組成的強(qiáng)大隊(duì)伍,竭誠為廣大客戶提供包括技術(shù)咨詢、產(chǎn)品配套、安裝調(diào)試、應(yīng)用指導(dǎo)、維護(hù)保養(yǎng)在內(nèi)的整套細(xì)致入微的服務(wù)。同時(shí)公司還依托中國地質(zhì)研究院、清華大學(xué)、中國農(nóng)業(yè)大學(xué)、中科院等科研院所的強(qiáng)大技術(shù)實(shí)力,特聘多名教授、博士作為我公司提供多方面的技術(shù)支持。

公司儲備各顯微鏡現(xiàn)貨,只要您有需求,我們就能隨時(shí)為您提供各種產(chǎn)品選配服務(wù)。公司管理層、營銷隊(duì)伍和技術(shù)人員都具備多年的專業(yè)技術(shù)經(jīng)驗(yàn),相信我們的質(zhì)量和服務(wù)一定是顯微光學(xué)領(lǐng)域中無法可比的。

北京瑞科中儀科技有限公司秉承“專業(yè)的人員,過硬的技術(shù),優(yōu)秀的產(chǎn)品"精神,為您提供專業(yè)、及時(shí)、周到的技術(shù)服務(wù),北京瑞科中儀科技有限公司必將成為您值得信賴的伙伴!












顯微鏡,激光共聚焦,電鏡,x射線,激光捕獲顯微切割,熒光成像系統(tǒng),DNA/RNA合成儀,半導(dǎo)體行業(yè)儀器設(shè)備,生命科學(xué)儀器,光刻機(jī),

價(jià)格區(qū)間 100萬-200萬 應(yīng)用領(lǐng)域 環(huán)保,生物產(chǎn)業(yè),石油,能源,制藥/生物制藥

PECVD等離子沉積設(shè)備

低成本效益高

PECVD等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積設(shè)備Depolab 200將平行板等離子體源設(shè)計(jì)與直接載片相結(jié)合。

升級擴(kuò)展性

根據(jù)其模塊化設(shè)計(jì),PECVD Depolab 200可升級為更大的真空泵組,低頻射頻源和更多的氣路。

SENTECH控制軟件

強(qiáng)大的用戶友好軟件包括模擬圖形用戶界面,參數(shù)窗口,工藝處方編輯窗口,數(shù)據(jù)記錄和用戶管理。


Depolab 200是SENTECH基本的等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積(PECVD)設(shè)備,它結(jié)合了用于均勻薄膜沉積的平行板電極設(shè)計(jì)和直接載片的成本效益設(shè)計(jì)的優(yōu)點(diǎn)。從2″至8″晶片和樣品的標(biāo)準(zhǔn)應(yīng)用開始,可以逐步升級以完成復(fù)雜的工藝。

PECVD Depolab 200的顯著特點(diǎn)是系統(tǒng)的可靠設(shè)計(jì),軟件和硬件的靈活性。在該設(shè)備上開發(fā)了不同的工藝,例如用于高質(zhì)量氮化硅和氧化硅層的沉積。PECVD Depolab 200包括帶氣路柜的反應(yīng)腔體,電子控制,計(jì)算機(jī)、前級泵和配電箱。

Depolab 200 等離子增強(qiáng)沉積設(shè)備用于在從室溫到400℃的溫度范圍內(nèi)沉積SiO2、SiNx、SiONx和a-Si薄膜。PECVD Depolab 200特別適用于沉積用于刻蝕掩膜,電隔離膜及其他的介質(zhì)膜。

PECVD Depolab 200由SENTECH的控制軟件操作,使用遠(yuǎn)程現(xiàn)場總線技術(shù)和用戶友好的通用用戶界面。

  • Depolab 200


  • 等離子增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積(PECVD)設(shè)備

  • 開蓋載片

  • 適用于大到200mm的晶片

  • 襯底溫度可高達(dá)400?°C

  • 可選低頻射頻降低應(yīng)力

  • 干泵組

  • 占地面積小

  • PECVD(等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積)等離子沉積設(shè)備是一種先進(jìn)的材料表面處理技術(shù),廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體制造、光伏產(chǎn)業(yè)、防護(hù)涂層及生物醫(yī)學(xué)等多個(gè)領(lǐng)域。該技術(shù)通過利用等離子體的能量激活化學(xué)反應(yīng),在基材表面沉積出具有特定性能的薄膜,具有低溫過程、高附著力和均勻性、優(yōu)異的覆蓋能力以及環(huán)境友好等顯著特點(diǎn)。以下是對PECVD等離子沉積設(shè)備的詳細(xì)產(chǎn)品介紹。### 一、技術(shù)原理PECVD技術(shù)結(jié)合了等離子體物理與化學(xué)氣相沉積的優(yōu)勢,通過射頻等手段使含有薄膜組成原子的氣體在局部形成等離子體。等離子體中的高能電子、離子和自由基等活性粒子與氣體分子發(fā)生碰撞,促進(jìn)化學(xué)反應(yīng)的進(jìn)行,從而在基材表面沉積出所需的薄膜。這一過程不僅降低了沉積溫度,還提高了沉積速率和薄膜質(zhì)量。### 二、設(shè)備特點(diǎn)1. **高真空系統(tǒng)**:PECVD設(shè)備通常配備有高真空系統(tǒng),由雙級旋片真空泵和分子泵組成,以確保反應(yīng)腔體內(nèi)的高真空度,有利于減少雜質(zhì)干擾,提高薄膜質(zhì)量。2. **精確的氣體控制系統(tǒng)**:設(shè)備采用數(shù)字質(zhì)量流量控制系統(tǒng),由多路質(zhì)量流量計(jì)、流量顯示儀等組成,實(shí)現(xiàn)對氣體流量的精確測量和控制。同時(shí),每條氣體管路均配備高壓逆止閥,保證系統(tǒng)的安全性和連續(xù)均勻性。3. **模塊化設(shè)計(jì)**:PECVD設(shè)備往往采用模塊化設(shè)計(jì),便于根據(jù)實(shí)際需求進(jìn)行升級和擴(kuò)展。例如,可以升級為更大的真空泵組、低頻射頻源和更多的氣路,以滿足不同工藝的需求。4. **先進(jìn)的控制系統(tǒng)**:設(shè)備配備有先進(jìn)的控制軟件,通過遠(yuǎn)程現(xiàn)場總線技術(shù)和用戶友好的圖形用戶界面,實(shí)現(xiàn)對工藝參數(shù)的精確控制和實(shí)時(shí)監(jiān)控。用戶可以通過參數(shù)窗口、工藝處方編輯窗口等功能,輕松設(shè)置和調(diào)整工藝參數(shù)。5. **廣泛的適用性**:PECVD設(shè)備適用于多種材料的薄膜沉積,包括氧化硅、氮化硅、碳膜等。同時(shí),其優(yōu)異的覆蓋能力使得該技術(shù)能夠?qū)崿F(xiàn)對復(fù)雜形狀基材的均勻涂覆。### 三、應(yīng)用領(lǐng)域1. **半導(dǎo)體制造**:在半導(dǎo)體設(shè)備生產(chǎn)中,PECVD技術(shù)用于沉積氧化硅、氮化硅等介電層,這些層是制造現(xiàn)代集成電路。通過精確控制薄膜的厚度和均勻性,PECVD技術(shù)有助于提高半導(dǎo)體器件的性能和可靠性。2. **光伏產(chǎn)業(yè)**:PECVD被廣泛應(yīng)用于太陽能板的生產(chǎn)過程中,特別是在沉積硅薄膜和透明導(dǎo)電氧化物(TCO)層方面。








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