日本傾斜角RIE等離子蝕刻機的簡介
- 公司名稱 北京瑞科中儀科技有限公司
- 品牌 其他品牌
- 型號
- 產(chǎn)地
- 廠商性質(zhì) 代理商
- 更新時間 2024/10/10 9:58:52
- 訪問次數(shù) 377
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顯微鏡，激光共聚焦，電鏡，x射線，激光捕獲顯微切割，熒光成像系統(tǒng)，DNA/RNA合成儀，半導(dǎo)體行業(yè)儀器設(shè)備，生命科學(xué)儀器，光刻機，
| 產(chǎn)地類別 | 進(jìn)口 | 應(yīng)用領(lǐng)域 | 環(huán)保,石油,地礦,建材,綜合 |
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日本傾斜角RIE等離子蝕刻機的簡介：
低成本效益高：
RIE等離子蝕刻機Etchlab200結(jié)合平行板等離子體源設(shè)計與直接置片。
升級擴展性：
根據(jù)其模塊化設(shè)計，等離子蝕刻機Etchlab200可升級為更大的真空泵組，預(yù)真空室和更多的氣路。
SENTECH控制軟件：
該等離子刻蝕機配備了用戶友好的強大軟件，具有模擬圖形用戶界面，參數(shù)窗口，工藝編輯窗口，數(shù)據(jù)記錄和用戶管理。
日本傾斜角RIE等離子蝕刻機的簡介代表了直接置片等離子刻蝕機家族，它結(jié)合了RIE的平行板電極設(shè)計和直接置片的成本效益設(shè)計的優(yōu)點。Etchlab200的特征是簡單和快速的樣品加載，從零件到直徑為200mm或300mm的晶片直接加載到電極或載片器上。靈活性、模塊性和占地面積小是Etchlab200的設(shè)計特點。位于頂部電極和反應(yīng)腔體的診斷窗口可以方便地容納SENTECH激光干涉儀或OES和RGA系統(tǒng)。橢偏儀端口可用于SENTECH原位橢偏儀進(jìn)行原位監(jiān)測。
Etchlab200等離子蝕刻機可以配置成用于刻蝕直接加載的材料，包括但不限于硅和硅化合物，化合物半導(dǎo)體，介質(zhì)和金屬。
Etchlab200通過的SENTECH控制軟件操作，使用遠(yuǎn)程現(xiàn)場總線技術(shù)和用戶友好的通用用戶界面。
日本傾斜角刻可能指的是與傾斜角度測量或刻劃相關(guān)的日本產(chǎn)品或技術(shù)。然而，由于“傾斜角刻”并非一個廣泛認(rèn)知的專有名詞或產(chǎn)品名稱，我將從幾個方面來介紹可能與之相關(guān)的日本傾斜角度測量儀器或技術(shù)。 一、日本傾斜角度測量儀器日本在精密儀器制造方面享有盛譽，其生產(chǎn)的傾斜角度測量儀器具有高精度、高穩(wěn)定性和多功能性等特點。這些儀器廣泛應(yīng)用于工業(yè)自動化、機器人技術(shù)、航空航天、建筑測量等領(lǐng)域。以下是一些可能相關(guān)的日本傾斜角度測量儀器：1. 坂本電機（SEM）傾斜角測定儀： - 特點：精密數(shù)碼傾斜角測定儀，具備傳感器與顯示器分離設(shè)計，支持1軸、2軸設(shè)定變更，具有HOLD、オフセット（偏移）功能，能在振動環(huán)境下進(jìn)行角度測量，并具備外部輸出功能。 - 用途：用于各種精密裝置的角度調(diào)整、勾配可動裝置和機械臂的角度檢測與控制、汽車調(diào)諧與角度調(diào)整等。 - 技術(shù)參數(shù)：測量范圍±45.0度（可選±60.0度），精度±0.1度（±10.0度范圍內(nèi)），±0.15度（+10.0～+45.0度、-10.0～-45.0度范圍內(nèi)），分解能0.01度，響應(yīng)時間約200ms以下。2. 大菱（OBISHI）傾斜水平儀： - 產(chǎn)品系列：大菱公司生產(chǎn)多種型號的傾斜水平儀，如AJ101、ST2D-L1、AG101等，這些儀器具有高精度和穩(wěn)定性，適用于不同的測量需求。 - 特點：部分型號支持?jǐn)?shù)字顯示，具有雙軸測量功能，能夠準(zhǔn)確測量水平和垂直方向的角度變化。3. Macome碼控美傾斜角檢測儀： - 特點：高精度傾斜角檢測儀，如CM-936-V/H型號，具備快速響應(yīng)和穩(wěn)定測量的能力。 - 用途：適用于需要精確測量傾斜角度的場合，如工業(yè)自動化生產(chǎn)線、機器人定位等。 二、日本傾斜角度測量技術(shù)除了上述具體的測量
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