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深硅刻蝕機

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深硅刻蝕機刻蝕機

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北京瑞科中儀科技有限公司一家是專門從事數(shù)碼光學顯微鏡及相關實驗室設備研發(fā)與銷售的新型高科技公司,也專注于半導體材料研究與分析設備的經(jīng)銷和代理,為高校、企業(yè)科研工作者提供專業(yè)的材料分析解決方案,北京瑞科中儀科技有限公司長期代理銷售供應多種分子材料的研究分析設備,其中包括但不限于掃描電子顯微鏡、感應耦合等離子體化學氣相沉積系統(tǒng)、離子束刻蝕機、等離子清洗機、物理氣相沉積系統(tǒng)以及各品牌的光學顯微鏡以及實驗室設備儀器,以專業(yè)能力導向,精細工藝流程,用科學手段解決科研中遇到的難題.彼此協(xié)作,為我國的科研領域譜寫新篇章。

公司主要產(chǎn)品包括:生物顯微鏡、金相顯微鏡、偏光顯微鏡、體視顯微鏡、數(shù)碼顯微鏡、顯微鏡數(shù)碼相機照相接口、顯微鏡*冷光源、數(shù)碼圖像分析系統(tǒng)、測量顯微鏡、三座標測量顯微鏡,激光細胞顯微操作 拉曼顯微鏡光學儀器及設備/光學顯微鏡/熒光顯微鏡光學儀器及設備/電子顯微鏡/其它電子顯微鏡半導體行業(yè)專用儀器/其它半導體行業(yè)儀器設備其它半導體設備生命科學儀器/分子生物學儀器/PCR儀生命科學儀器/分子生物學儀器/基因測序儀生命科學儀器/分子生物學儀器/DNA合成儀半導體行業(yè)專用儀器/薄膜生長設備/其它薄膜沉積設備半導體行業(yè)專用儀器/光刻及涂膠顯影設備/無掩模光刻機/直寫光刻機

公司經(jīng)銷代理品牌包括:蔡司顯微鏡,奧林巴斯顯微鏡,尼康顯微鏡,徠卡顯微鏡,國產(chǎn)各廠家顯微鏡, 華粵行 ,基恩士 , 日本電,日立 ,布魯克,三和聯(lián), sentech(森泰克),SYSKEY(矽碁), PE(鉑金埃爾默)全系產(chǎn)品 ,天美愛丁堡,原子光譜,氣相色譜,PE(鉑金埃爾默)全系產(chǎn)品

代理經(jīng)銷的產(chǎn)品種類包括,熒光顯微鏡,熒光顯微成像系統(tǒng),激光捕獲顯微切割,全自動切片掃描,三維超景深顯微系統(tǒng),動物超聲系統(tǒng),3D超景深顯微鏡,形貌探測顯微鏡,蔡司共聚焦顯微鏡,全自動數(shù)字切片掃描,病理切片掃描,激光切割顯微系統(tǒng),立體顯微鏡,國產(chǎn)激光共聚焦顯微鏡,精準醫(yī)學顯微切割,激光顯微切割系統(tǒng),按需搭建顯微系統(tǒng),熒光光譜儀,激光細胞顯微操作 拉曼顯微鏡光學儀器及設備/光學顯微鏡/熒光顯微鏡光學儀器及設備/電子顯微鏡/其它電子顯微鏡半導體行業(yè)專用儀器/其它半導體行業(yè)儀器設備其它半導體設備生命科學儀器/分子生物學儀器/PCR儀生命科學儀器/分子生物學儀器/基因測序儀生命科學儀器/分子生物學儀器/DNA合成儀半導體行業(yè)專用儀器/薄膜生長設備/其它薄膜沉積設備半導體行業(yè)專用儀器/光刻及涂膠顯影設備/無掩模光刻機/直寫光刻機


公司成立伊始,即本著“以人為本,誠信發(fā)展,合作共贏"的企業(yè)宗旨,快樂中結識新朋友,穩(wěn)步中追求新發(fā)展。目前公司已經(jīng)擁有一支由專業(yè)技術人員、營銷人員和維修人員組成的強大隊伍,竭誠為廣大客戶提供包括技術咨詢、產(chǎn)品配套、安裝調試、應用指導、維護保養(yǎng)在內(nèi)的整套細致入微的服務。同時公司還依托中國地質研究院、清華大學、中國農(nóng)業(yè)大學、中科院等科研院所的強大技術實力,特聘多名教授、博士作為我公司提供多方面的技術支持。

公司儲備各顯微鏡現(xiàn)貨,只要您有需求,我們就能隨時為您提供各種產(chǎn)品選配服務。公司管理層、營銷隊伍和技術人員都具備多年的專業(yè)技術經(jīng)驗,相信我們的質量和服務一定是顯微光學領域中無法可比的。

北京瑞科中儀科技有限公司秉承“專業(yè)的人員,過硬的技術,優(yōu)秀的產(chǎn)品"精神,為您提供專業(yè)、及時、周到的技術服務,北京瑞科中儀科技有限公司必將成為您值得信賴的伙伴!












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產(chǎn)地類別 進口 應用領域 農(nóng)業(yè),地礦,建材,交通,汽車

進口深硅刻蝕機介紹:

低損傷刻蝕:

由于離子能量低,離子能量分布帶寬窄,因此可以用我們的等離子體刻蝕機SI 500進行低損傷刻蝕和納米結構的刻蝕。

高速刻蝕:

對于具有高深寬比的高速硅基MEMS刻蝕,光滑的側壁可以通過室溫下氣體切換工藝或低溫工藝即可很容易地實現(xiàn)。

深硅刻蝕機特點:

三螺旋平行板天線(PTSA)等離子源是SENTECH等離子體工藝設備的屬性。PTSA源能生成具有高離子密度和低離子能量的均勻等離子體。它具有高耦合效率和非常好的起輝性能,非常適用于加工各種材料和結構。

動態(tài)溫度控制:

在等離子體刻蝕過程中,襯底溫度的設定和穩(wěn)定性對于實現(xiàn)高質量蝕刻起著至關重要的作用。動態(tài)溫度控制的ICP襯底電極結合氦氣背冷和基板背面溫度傳感,可在-150°C至+400°C的廣泛溫度范圍內(nèi)提供了優(yōu)良的工藝條件。

SI 500為研發(fā)和生產(chǎn)提供的電感耦合等離子體(ICP)工藝設備。它基于ICP等離子體源PTSA,動態(tài)溫度控制的襯底電極,全自動控制的真空系統(tǒng),使用遠程現(xiàn)場總線技術的的SETECH控制軟件和用于操作SI 500的用戶友好的通用接口。靈活性和模塊化是SI 500主要的設計特點。

SI 500 ICP等離子刻蝕機,可以用于加工各種各樣的襯底,從直徑高達200 mm的晶片到裝載在載片器上的零件。單晶片預真空室保證穩(wěn)定的工藝條件,并且切換工藝非常容易。

SI 500 ICP等離子刻蝕機,通過配置可用于刻蝕不同材料,包括但不于例如三五族化合物半導體(GaAs, InP, GaN, InSb),介質,石英,玻璃,硅和硅化合物(SiC, SiGe),還有金屬等。

SENTECH提供用戶不同級別的自動化程度,從真空片盒載片到一個工藝腔室到六個工藝模塊端口,可用于不同的蝕刻和沉積工藝模塊組成多腔系統(tǒng),目標是高靈活性或高產(chǎn)量。SI 500 ICP等離子刻蝕機也可用作多腔系統(tǒng)中的工藝模塊。




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