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等離子蝕刻機(jī)Etchlab 200

具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)
  • 公司名稱(chēng) 北京瑞科中儀科技有限公司
  • 品牌 其他品牌
  • 型號(hào)
  • 產(chǎn)地
  • 廠(chǎng)商性質(zhì) 代理商
  • 更新時(shí)間 2024/10/10 10:09:01
  • 訪(fǎng)問(wèn)次數(shù) 157
產(chǎn)品標(biāo)簽

等離子刻蝕機(jī)2刻蝕機(jī)

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北京瑞科中儀科技有限公司一家是專(zhuān)門(mén)從事數(shù)碼光學(xué)顯微鏡及相關(guān)實(shí)驗(yàn)室設(shè)備研發(fā)與銷(xiāo)售的新型高科技公司,也專(zhuān)注于半導(dǎo)體材料研究與分析設(shè)備的經(jīng)銷(xiāo)和代理,為高校、企業(yè)科研工作者提供專(zhuān)業(yè)的材料分析解決方案,北京瑞科中儀科技有限公司長(zhǎng)期代理銷(xiāo)售供應(yīng)多種分子材料的研究分析設(shè)備,其中包括但不限于掃描電子顯微鏡、感應(yīng)耦合等離子體化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)、離子束刻蝕機(jī)、等離子清洗機(jī)、物理氣相沉積系統(tǒng)以及各品牌的光學(xué)顯微鏡以及實(shí)驗(yàn)室設(shè)備儀器,以專(zhuān)業(yè)能力導(dǎo)向,精細(xì)工藝流程,用科學(xué)手段解決科研中遇到的難題.彼此協(xié)作,為我國(guó)的科研領(lǐng)域譜寫(xiě)新篇章。

公司主要產(chǎn)品包括:生物顯微鏡、金相顯微鏡、偏光顯微鏡、體視顯微鏡、數(shù)碼顯微鏡、顯微鏡數(shù)碼相機(jī)照相接口、顯微鏡*冷光源、數(shù)碼圖像分析系統(tǒng)、測(cè)量顯微鏡、三座標(biāo)測(cè)量顯微鏡,激光細(xì)胞顯微操作 拉曼顯微鏡光學(xué)儀器及設(shè)備/光學(xué)顯微鏡/熒光顯微鏡光學(xué)儀器及設(shè)備/電子顯微鏡/其它電子顯微鏡半導(dǎo)體行業(yè)專(zhuān)用儀器/其它半導(dǎo)體行業(yè)儀器設(shè)備其它半導(dǎo)體設(shè)備生命科學(xué)儀器/分子生物學(xué)儀器/PCR儀生命科學(xué)儀器/分子生物學(xué)儀器/基因測(cè)序儀生命科學(xué)儀器/分子生物學(xué)儀器/DNA合成儀半導(dǎo)體行業(yè)專(zhuān)用儀器/薄膜生長(zhǎng)設(shè)備/其它薄膜沉積設(shè)備半導(dǎo)體行業(yè)專(zhuān)用儀器/光刻及涂膠顯影設(shè)備/無(wú)掩模光刻機(jī)/直寫(xiě)光刻機(jī)

公司經(jīng)銷(xiāo)代理品牌包括:蔡司顯微鏡,奧林巴斯顯微鏡,尼康顯微鏡,徠卡顯微鏡,國(guó)產(chǎn)各廠(chǎng)家顯微鏡, 華粵行 ,基恩士 , 日本電,日立 ,布魯克,三和聯(lián), sentech(森泰克),SYSKEY(矽碁), PE(鉑金埃爾默)全系產(chǎn)品 ,天美愛(ài)丁堡,原子光譜,氣相色譜,PE(鉑金埃爾默)全系產(chǎn)品

代理經(jīng)銷(xiāo)的產(chǎn)品種類(lèi)包括,熒光顯微鏡,熒光顯微成像系統(tǒng),激光捕獲顯微切割,全自動(dòng)切片掃描,三維超景深顯微系統(tǒng),動(dòng)物超聲系統(tǒng),3D超景深顯微鏡,形貌探測(cè)顯微鏡,蔡司共聚焦顯微鏡,全自動(dòng)數(shù)字切片掃描,病理切片掃描,激光切割顯微系統(tǒng),立體顯微鏡,國(guó)產(chǎn)激光共聚焦顯微鏡,精準(zhǔn)醫(yī)學(xué)顯微切割,激光顯微切割系統(tǒng),按需搭建顯微系統(tǒng),熒光光譜儀,激光細(xì)胞顯微操作 拉曼顯微鏡光學(xué)儀器及設(shè)備/光學(xué)顯微鏡/熒光顯微鏡光學(xué)儀器及設(shè)備/電子顯微鏡/其它電子顯微鏡半導(dǎo)體行業(yè)專(zhuān)用儀器/其它半導(dǎo)體行業(yè)儀器設(shè)備其它半導(dǎo)體設(shè)備生命科學(xué)儀器/分子生物學(xué)儀器/PCR儀生命科學(xué)儀器/分子生物學(xué)儀器/基因測(cè)序儀生命科學(xué)儀器/分子生物學(xué)儀器/DNA合成儀半導(dǎo)體行業(yè)專(zhuān)用儀器/薄膜生長(zhǎng)設(shè)備/其它薄膜沉積設(shè)備半導(dǎo)體行業(yè)專(zhuān)用儀器/光刻及涂膠顯影設(shè)備/無(wú)掩模光刻機(jī)/直寫(xiě)光刻機(jī)


公司成立伊始,即本著“以人為本,誠(chéng)信發(fā)展,合作共贏"的企業(yè)宗旨,快樂(lè)中結(jié)識(shí)新朋友,穩(wěn)步中追求新發(fā)展。目前公司已經(jīng)擁有一支由專(zhuān)業(yè)技術(shù)人員、營(yíng)銷(xiāo)人員和維修人員組成的強(qiáng)大隊(duì)伍,竭誠(chéng)為廣大客戶(hù)提供包括技術(shù)咨詢(xún)、產(chǎn)品配套、安裝調(diào)試、應(yīng)用指導(dǎo)、維護(hù)保養(yǎng)在內(nèi)的整套細(xì)致入微的服務(wù)。同時(shí)公司還依托中國(guó)地質(zhì)研究院、清華大學(xué)、中國(guó)農(nóng)業(yè)大學(xué)、中科院等科研院所的強(qiáng)大技術(shù)實(shí)力,特聘多名教授、博士作為我公司提供多方面的技術(shù)支持。

公司儲(chǔ)備各顯微鏡現(xiàn)貨,只要您有需求,我們就能隨時(shí)為您提供各種產(chǎn)品選配服務(wù)。公司管理層、營(yíng)銷(xiāo)隊(duì)伍和技術(shù)人員都具備多年的專(zhuān)業(yè)技術(shù)經(jīng)驗(yàn),相信我們的質(zhì)量和服務(wù)一定是顯微光學(xué)領(lǐng)域中無(wú)法可比的。

北京瑞科中儀科技有限公司秉承“專(zhuān)業(yè)的人員,過(guò)硬的技術(shù),優(yōu)秀的產(chǎn)品"精神,為您提供專(zhuān)業(yè)、及時(shí)、周到的技術(shù)服務(wù),北京瑞科中儀科技有限公司必將成為您值得信賴(lài)的伙伴!












顯微鏡,激光共聚焦,電鏡,x射線(xiàn),激光捕獲顯微切割,熒光成像系統(tǒng),DNA/RNA合成儀,半導(dǎo)體行業(yè)儀器設(shè)備,生命科學(xué)儀器,光刻機(jī),

產(chǎn)地類(lèi)別 進(jìn)口 應(yīng)用領(lǐng)域 環(huán)保,生物產(chǎn)業(yè),地礦,制藥,綜合

低成本效益高

等離子蝕刻機(jī)Etchlab 200結(jié)合平行板等離子體源設(shè)計(jì)與直接置片。

升級(jí)擴(kuò)展性

根據(jù)其模塊化設(shè)計(jì),等離子蝕刻機(jī)Etchlab 200可升級(jí)為更大的真空泵組,預(yù)真空室和更多的氣路。

SENTECH控制軟件

等離子刻蝕機(jī)配備了用戶(hù)友好的強(qiáng)大軟件,具有模擬圖形用戶(hù)界面,參數(shù)窗口,工藝編輯窗口,數(shù)據(jù)記錄和用戶(hù)管理。

代表了直接置片家族,它結(jié)合了RIE的平行板電極設(shè)計(jì)和直接置片的成本效益設(shè)計(jì)的優(yōu)點(diǎn)。Etchlab 200的特征是簡(jiǎn)單和快速的樣品加載,從零件到直徑為200mm或300mm的晶片直接加載到電極或載片器上。靈活性、模塊性和占地面積小是Etchlab 200 的設(shè)計(jì)特點(diǎn)。位于頂部電極和反應(yīng)腔體的診斷窗口可以方便地容納SENTECH激光干涉儀或OES和RGA系統(tǒng)。橢偏儀端口可用于SENTECH原位橢偏儀進(jìn)行原位監(jiān)測(cè)。

Etchlab 200等離子蝕刻機(jī)可以配置成用于刻蝕直接加載的材料,包括但不限于硅和硅化合物,化合物半導(dǎo)體,介質(zhì)和金屬。

Etchlab 200通過(guò)的SENTECH控制軟件操作,使用遠(yuǎn)程現(xiàn)場(chǎng)總線(xiàn)技術(shù)和用戶(hù)友好的通用用戶(hù)界面。

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主要基于等離子體的產(chǎn)生和應(yīng)用,其詳細(xì)原理可以歸納如下:### 一、等離子體產(chǎn)生* **氣體引入與電離**:在Etchlab 200等離子蝕刻機(jī)中,首先會(huì)向真空室內(nèi)引入適量的氣體(如氧氣、氟氣等),這些氣體在高頻電場(chǎng)的作用下被電離,形成等離子體。等離子體是由部分離化的中性氣體組成,其中包含離子、電子、原子和活性基團(tuán)等“活性”組分。* **加速過(guò)程**:產(chǎn)生的等離子體隨后被加速器加速,使其具有足夠的能量來(lái)撞擊材料表面。### 二、刻蝕過(guò)程* **物理刻蝕**:加速后的等離子體以高速撞擊材料表面,通過(guò)物理碰撞將表面的原子或分子擊出,這個(gè)過(guò)程稱(chēng)為物理刻蝕。* **化學(xué)刻蝕**:同時(shí),等離子體中的活性組分(如離子、自由基等)與材料表面發(fā)生化學(xué)反應(yīng),進(jìn)一步促進(jìn)刻蝕過(guò)程。這些化學(xué)反應(yīng)可能包括氧化、還原、置換等,具體取決于所使用的氣體種類(lèi)和材料性質(zhì)。### 三、刻蝕產(chǎn)物移除* 刻蝕過(guò)程中產(chǎn)生的產(chǎn)物會(huì)附著在材料表面,為了保持刻蝕的連續(xù)性和精度,需要將這些產(chǎn)物及時(shí)移除。Etchlab 200等離子蝕刻機(jī)通過(guò)引入適量的氣體(如惰性氣體)與刻蝕產(chǎn)物反應(yīng),形成易揮發(fā)的化合物,從而將刻蝕產(chǎn)物帶走。### 四、控制系統(tǒng)* Etchlab 200等離子蝕刻機(jī)配備了先進(jìn)的控制系統(tǒng),可以調(diào)整等離子體的能量、氣體流量等參數(shù),以精確控制刻蝕過(guò)程的速率和精度。此外,該系統(tǒng)還具備模擬圖形用戶(hù)界面、參數(shù)窗口、工藝編輯窗口等功能,方便用戶(hù)進(jìn)行工藝設(shè)置和監(jiān)控。### 五、應(yīng)用特點(diǎn)* **高精度**:由于等離子體的高能量和精確控制,Etchlab 200能夠?qū)崿F(xiàn)高精度的微細(xì)結(jié)構(gòu)制造和加工





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