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PECVD等離子體增強(qiáng)氣相沉積
具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)
- 公司名稱 上海添時(shí)科學(xué)儀器有限公司
- 品牌
- 型號(hào)
- 產(chǎn)地
- 廠商性質(zhì) 代理商
- 更新時(shí)間 2024/8/29 16:50:29
- 訪問次數(shù) 1087
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紫外可見分光光度計(jì),原子熒光光度計(jì),原子吸收分光光度計(jì),紫外分光光度計(jì),氣相色譜儀,液相色譜儀,電子天平,旋光儀,熔點(diǎn)儀
PECVD等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積是一種利用等離子體來促進(jìn)氣體反應(yīng)的CVD技術(shù)。其特點(diǎn)包括:
1、低溫沉積:PECVD可以在較低的基材溫度下進(jìn)行,因?yàn)榈入x子體提供的能量能夠促進(jìn)氣體反應(yīng),降低沉積溫度的需求。
2、高沉積速率:等離子體增強(qiáng)了氣體反應(yīng)速率,從而提高了薄膜沉積速率。
3、良好的膜質(zhì)量:PECVD沉積的薄膜通常具有較好的均勻性和較低的缺陷密度,適用于需要高質(zhì)量薄膜的應(yīng)用。
4、適應(yīng)性強(qiáng):可以沉積多種材料,包括氧化物、氮化物和氟化物等,廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體、光電器件和保護(hù)涂層等領(lǐng)域。
5、控制性好:通過調(diào)整等離子體的參數(shù)(如功率、氣體流量和壓力),可以精確控制薄膜的成分和性質(zhì)。
加熱爐參數(shù)
?最高溫度:1200ºC(<30min),連續(xù)工作溫度:1100℃;
?兩個(gè)PID溫度控制器及30段可編程溫控系統(tǒng);
?輸入功率:208-240V,單相,最大功率:2.5KW;
?高純氧化鋁纖維保溫層可以最大限度降低能耗;
?回轉(zhuǎn)爐旋轉(zhuǎn)速度:2-10rpm;
?爐體開啟式設(shè)計(jì),以達(dá)到對(duì)樣品快速降溫,方便更換爐管。
1、低溫沉積:PECVD可以在較低的基材溫度下進(jìn)行,因?yàn)榈入x子體提供的能量能夠促進(jìn)氣體反應(yīng),降低沉積溫度的需求。
2、高沉積速率:等離子體增強(qiáng)了氣體反應(yīng)速率,從而提高了薄膜沉積速率。
3、良好的膜質(zhì)量:PECVD沉積的薄膜通常具有較好的均勻性和較低的缺陷密度,適用于需要高質(zhì)量薄膜的應(yīng)用。
4、適應(yīng)性強(qiáng):可以沉積多種材料,包括氧化物、氮化物和氟化物等,廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體、光電器件和保護(hù)涂層等領(lǐng)域。
5、控制性好:通過調(diào)整等離子體的參數(shù)(如功率、氣體流量和壓力),可以精確控制薄膜的成分和性質(zhì)。
加熱爐參數(shù)
?最高溫度:1200ºC(<30min),連續(xù)工作溫度:1100℃;
?兩個(gè)PID溫度控制器及30段可編程溫控系統(tǒng);
?輸入功率:208-240V,單相,最大功率:2.5KW;
?高純氧化鋁纖維保溫層可以最大限度降低能耗;
?回轉(zhuǎn)爐旋轉(zhuǎn)速度:2-10rpm;
?爐體開啟式設(shè)計(jì),以達(dá)到對(duì)樣品快速降溫,方便更換爐管。