HANNA ?HI84500 游離、總二氧化硫滴定儀
參考價(jià) | ¥ 12600 |
訂貨量 | ≥1件 |
- 公司名稱 河南測儀精密科技有限公司
- 品牌 HANNA/意大利哈納
- 型號
- 產(chǎn)地 HANNA
- 廠商性質(zhì) 代理商
- 更新時(shí)間 2024/9/19 17:36:08
- 訪問次數(shù) 219
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光澤度儀,測厚儀,探傷儀,熱像儀,內(nèi)窺鏡,硬度計(jì),風(fēng)速儀,露點(diǎn)儀,溫濕度表,塵埃粒子計(jì)數(shù)器,氣體檢測儀,聲級計(jì)
價(jià)格區(qū)間 | 5千-5萬 | 儀器種類 | 通用電位滴定儀 |
---|---|---|---|
應(yīng)用范圍 | 通用型 | 應(yīng)用領(lǐng)域 | 綜合 |
HI84500是為測量酒中游離、總二氧化硫而設(shè)計(jì)的方便、快捷的迷你自動滴定儀,它預(yù)設(shè)分析方法和強(qiáng)大的算法來檢測滴定終點(diǎn)。采用活塞式加藥系統(tǒng),能夠保證滴定劑用量,并用HANNA標(biāo)準(zhǔn)對泵進(jìn)行校準(zhǔn),確保測量的準(zhǔn)確率。HI84500配備低量程測量,還可用做mV計(jì)直接測量ORP。
活塞式動態(tài)加藥泵
配備動態(tài)加藥系統(tǒng)控制加藥過程。滴定開始時(shí)快速加藥節(jié)省了滴定時(shí)間,滴定接近終點(diǎn)時(shí)緩慢加藥,不僅可使滴定劑和分析物反應(yīng),而且還可以防止過量滴定,以及更準(zhǔn)確檢測滴定終點(diǎn)。
攪拌速率自動控制
不論溶液粘度大小,自動將速率控制在700rpm
配備HI3148B可填充玻璃材質(zhì)氧化還原ORP電極
HI3148B采用CPSTM預(yù)防堵塞系統(tǒng),專門用于酒類樣品測量。
圖形模式/可輸出數(shù)據(jù)
顯示所有滴定數(shù)據(jù),并能將數(shù)據(jù)通過USB接口存儲,輸出到USB盤或電腦上。
數(shù)據(jù)存儲
存儲400樣品(200個(gè)滴定,200個(gè)pH/mV)
用戶友好界面
配備大按鈕的直觀設(shè)計(jì),易于操控的屏幕,專用HELP按鍵,隨屏顯示幫助信息。
mV測定功能
HI84500除了能做滴定儀外,還可以用作mV測定儀。
GLP功能
符合良好實(shí)驗(yàn)室規(guī)范,詳細(xì)記錄操作時(shí)間日期,樣品編號和電極校準(zhǔn)等信息。
CAL-CheckTM
電極核查功能,校準(zhǔn)過程中及時(shí)提醒用戶發(fā)現(xiàn)的問題,如緩沖液污染,pH電極臟或破損。
游離、總二氧化硫的重要性
酒生產(chǎn)商在酒里面加入少量的二氧化硫來阻止細(xì)菌以及酵母增長,同時(shí)作為一個(gè)氧化劑來阻止褐變。當(dāng)二氧化硫加入酒中,部分二氧化硫會立即發(fā)生結(jié)合,其他部分二氧化硫沒有結(jié)合,未結(jié)合的二氧化硫稱為游離二氧化硫,游離二氧化硫起到保護(hù)酒的作用。結(jié)合和未結(jié)合的二氧化硫統(tǒng)稱總二氧化硫。加入二氧化硫量和游離二氧化硫量的關(guān)系非常復(fù)雜,一般用總二氧化硫量來衡量。不同的酒之間,游離二氧化硫與結(jié)合二氧化硫的關(guān)系相差大,游離二氧化硫的含量由加入量、現(xiàn)存量、結(jié)合量三者決定。游離二氧化硫有兩種形式存在,一種是酸式鹽(HSO3+),這是主要存在形式,但在酒中不起作用;一種是分子SO2形式存在,起到保護(hù)酒的作用。二氧化硫分子存在量是受到酒中的游離二氧化硫和酒的pH影響,通常為阻止細(xì)菌生長和氧化作用,酒中許喲啊有0.8ppm分子態(tài)二氧化硫,為達(dá)到這個(gè)值,pH3.2時(shí),游離二氧化硫需要達(dá)到22ppm,pH3.5時(shí),游離二氧化硫需要44ppm。分子態(tài)二氧化硫含量大于2.0ppm時(shí),人可以感覺到二氧化硫,因此在保護(hù)酒時(shí),加入二氧化硫不應(yīng)該高于此值。在甜酒和多數(shù)有名的貴葡萄酒中,會加入更多的二氧化硫,HI84500可用來檢測所有酒的游離二氧化硫和總二氧化硫,包括用傳統(tǒng)方法不能檢測的紅酒。
表中顯示的SO2為0.8ppm時(shí),不同pH下對應(yīng)的游離二氧化硫量(ppm)
pH | 3.0 | 3.1 | 3.2 | 3.3 | 3.4 | 3.5 | 3.6 | 3.7 | 3.8 | 3.9 |
游離SO2 | 14 | 18 | 22 | 28 | 35 | 44 | 55 | 69 | 87 | 109 |
技術(shù)參數(shù):
滴定 | 低量程二氧化硫-LR | 高量程二氧化硫-HR |
測量范圍 | 1.0 - 40.0 mg/L(ppm)SO2 | 30 - 400 mg/L(ppm)SO2 |
解析度 | 0.1 mg/L(ppm) | 1 mg/L(ppm) |
精度@250C | ±0.5 mg/L 或讀數(shù)±3%,取最大值 | ±1 mg/L 或讀數(shù)±3%,取最大值 |
滴定方法 | 滴定法分析法,等電位氧化還原原理 | |
數(shù)據(jù)存儲 | 測量數(shù)據(jù):200個(gè) | |
其他指標(biāo) | 泵轉(zhuǎn)速:10mL/分鐘;攪拌速度:700 rpm | |
氧化還原 | ||
測量范圍 | -2000 mV - 2000 mV | |
解析度 | 0.1 mV | |
精度@250C | ±1 mV | |
數(shù)據(jù)存儲 | mV存儲數(shù)據(jù):200個(gè) | |
其他指標(biāo) | ||
電源模式 | AC230 V/12VDC 電源適配器 | |
使用環(huán)境 | 0 - 500C ; 最大95% RH無冷凝 | |
尺寸/重量 | 主機(jī)尺寸:235 x 200 x 150 mm 主機(jī)重量:1.9 kg |
標(biāo)準(zhǔn)配置:
主機(jī),含HI3148B氧化還原電極,二氧化硫滴定試劑套裝,其他附屬配件,使用說明書。