一、產(chǎn)品介紹：

等離子清洗設備在材料學，光學，電子學，醫(yī)藥學，環(huán)境學、生物學等科研領域，主要用于材料表面進行清洗、活化、改性等目的。

CIF推出的新一代等離子體清洗設備，合理的結(jié)構(gòu)設計，優(yōu)化的腔體尺寸，使得處理樣品更大，適用范圍更廣，性能更穩(wěn)定，操作更簡便，性價比更高，使用成本更低，實用性更強，更容易維護。       

二、產(chǎn)品特點

u 7寸彩色觸摸屏互動操作界面，圖形化用戶操作界面顯示，自動監(jiān)測工藝參數(shù)狀態(tài)，20個配方程序，可存儲、輸出、追溯工藝數(shù)據(jù)，機器運行、停止提示。

u PLC工控機控制整個清洗過程，手動、自動兩種工作模式。

u 采用美國德威爾（Dwyer）氣體浮子流量計，可輸入氧氣、氬氣、氮氣、氫氣或混合氣等氣體，氣體分配均勻，經(jīng)濟實用。

u HEPA高效過濾，氣體返填吹掃，防止二次污染。

u 316不銹鋼、石英真空倉可選擇，全真空管路系統(tǒng)采用316不銹鋼材質(zhì)，耐腐蝕無污染。

u 采用60度傾角操作面板設計，符合人體功能學，操作方便，界面友好。

u 上控制下艙體結(jié)構(gòu)設計，結(jié)構(gòu)緊湊，占地空間小。

u 內(nèi)凹式前面板設計，有效保護流量計和艙門運輸過程中不易損壞。

u 處理快速高效均勻，無污染，工藝重復性好。

u 樣品處理溫度低，無熱損傷和熱氧化。

u 安全保護，倉門打開，自動關(guān)閉電源。

三、技術(shù)參數(shù)